| 中文摘要 | 第3-4页 |
| ABSTRACT | 第4页 |
| 第一章 前言 | 第8-28页 |
| 1.1 研究背景 | 第8-26页 |
| 1.1.1 霍尔效应 | 第8-9页 |
| 1.1.2 反常霍尔效应的机制 | 第9-21页 |
| 1.1.2.1 KL 理论 | 第10-12页 |
| 1.1.2.2 斜散射机制(Skew scattering) | 第12-14页 |
| 1.1.2.3 边跳跃机制(Side jump) | 第14-15页 |
| 1.1.2.4 Berry 相理论 | 第15-21页 |
| 1.1.3 特殊体系中的反常霍尔效应 | 第21-23页 |
| 1.1.3.1 钙钛矿体系 | 第21-22页 |
| 1.1.3.2 多层膜和多晶体系 | 第22-23页 |
| 1.1.3.3 多体结构 | 第23页 |
| 1.1.4 反常霍尔效应机制的检测 | 第23-24页 |
| 1.1.4.1 洛伦兹率 | 第23-24页 |
| 1.1.4.2 霍尔迁移率 | 第24页 |
| 1.1.5 半金属 Fe_30_4 | 第24-26页 |
| 1.1.6 Fe_30_4 的反常霍尔效应 | 第26页 |
| 1.2 存在的问题 | 第26-27页 |
| 1.3 本论文的主要工作 | 第27-28页 |
| 第二章 样品的制备、结构表征和物性测量 | 第28-34页 |
| 2.1 Fe_30_4 薄膜的制备 | 第28-30页 |
| 2.1.1 对向靶磁控溅射仪工作原理 | 第28-29页 |
| 2.1.2 Fe_30_4 薄膜的制备过程 | 第29-30页 |
| 2.2 Fe_30_4 薄膜的结构表征 | 第30-33页 |
| 2.2.1 X 射线衍射仪(XRD) | 第30-31页 |
| 2.2.2 X 射线光电子能谱(XPS) | 第31-32页 |
| 2.2.3 台式探针台阶仪 | 第32页 |
| 2.2.4 拉曼光谱 | 第32页 |
| 2.2.5 扫描电子显微镜(SEM) | 第32-33页 |
| 2.3 Fe_30_4 薄膜的物性测量 | 第33-34页 |
| 2.3.1 物理性质测量系统(PPMS) | 第33-34页 |
| 第三章 Fe_30_4 外延薄膜的霍尔效应 | 第34-59页 |
| 3.1 不同厚度 Fe_30_4 外延薄膜的结构与性质 | 第34-50页 |
| 3.1.1 不同厚度 Fe_30_4 外延薄膜的结构 | 第35-36页 |
| 3.1.2 不同厚度 Fe_30_4 外延薄膜的磁学性质 | 第36-40页 |
| 3.1.3 不同厚度 Fe_30_4 外延薄膜的电输运特性 | 第40-50页 |
| 3.2 不同取向 Fe_30_4 外延薄膜的结构与性质 | 第50-58页 |
| 3.2.1 不同取向 Fe_30_4 外延薄膜的结构 | 第50页 |
| 3.2.2 不同厚度 Fe_30_4 外延薄膜的磁学性质 | 第50-52页 |
| 3.2.3 不同厚度 Fe_30_4 外延薄膜的电输运特性 | 第52-58页 |
| 3.3 本章小结 | 第58-59页 |
| 第四章 Fe_30_4 多晶薄膜和 Fe_(3-δ)O_4 外延薄膜的霍尔效应 | 第59-83页 |
| 4.1 Fe_30_4 多晶薄膜结构与性质 | 第59-73页 |
| 4.1.1 Fe_30_4 多晶薄膜的微观结构 | 第60-64页 |
| 4.1.2 Fe_30_4 多晶薄膜的磁学性质 | 第64-66页 |
| 4.1.3 Fe_30_4 多晶薄膜的输运特性 | 第66-73页 |
| 4.2 Fe_(3-δ)O_4 外延薄膜的结构与性质 | 第73-82页 |
| 4.2.1 Fe3?δ04 外延薄膜的结构与成份 | 第74-76页 |
| 4.2.2 Fe_(3-δ)O_4 外延薄膜的磁学性质 | 第76-77页 |
| 4.2.3 Fe_(3-δ)O_4 外延薄膜的输运特性 | 第77-82页 |
| 4.3 本章小结 | 第82-83页 |
| 第五章 结论 | 第83-84页 |
| 参考文献 | 第84-92页 |
| 致谢 | 第92页 |
