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化学溶液沉积法制备钙钛矿锰氧化物薄膜的合成与表征

提要第4-5页
摘要第5-7页
Abstract第7-8页
第1章 绪论第12-46页
    1.1 磁电子学第12-15页
    1.2 磁电阻的概述第15-19页
    1.3 化学溶液沉积法(chemical solution deposition,CSD)制备钙钛矿薄膜材料第19-24页
        1.3.1 背景介绍第19-21页
        1.3.2 溶胶的制备第21-22页
        1.3.3 溶胶-凝胶步骤第22-23页
        1.3.4 薄膜沉积过程第23-24页
    1.4 磁性第24-27页
        1.4.1 磁性的来源第24页
        1.4.2 磁性的分类第24-27页
    1.5 钙钛矿中的重要理论第27-44页
        1.5.1 铁磁性金属第27页
        1.5.2 晶场效应第27-28页
        1.5.3 Jahn-Teller 畸变第28-29页
        1.5.4 双交换理论第29-30页
        1.5.5 Anderson-Hasegawa 对双交换理论的发展第30-31页
        1.5.6 极化子理论第31-33页
        1.5.7 相分离第33-34页
        1.5.8 容忍因子第34-35页
        1.5.9 A 位离子掺杂的影响第35-37页
        1.5.10 镧系收缩第37页
        1.5.11 磁有序第37-38页
        1.5.12 自旋有序第38-39页
        1.5.13 电荷有序第39页
        1.5.14 轨道有序第39-40页
        1.5.15 电输运性质第40-41页
        1.5.16 自旋玻璃态第41-42页
        1.5.17 Mott 绝缘体第42-43页
        1.5.18 金属-绝缘体转变第43-44页
        1.5.19 Mott-Hubbard 绝缘体与电荷转移绝缘体第44页
    1.6 本课题选题的目的、意义和主要结果第44-46页
        1.6.1 本课题选题的目的和意义第44-45页
        1.6.2 本论文的主要结果第45-46页
第2章 样品的制备与表征第46-57页
    2.1 样品的制备方法简介第46-49页
        2.1.1 基片的清洗第46-47页
        2.1.2 胶体配制第47-48页
        2.1.3 旋涂、预热及退火过程第48-49页
    2.2 主要检测仪器及相应测试条件第49-57页
        2.2.1 X-射线衍射分析(XRD)第49-50页
        2.2.2 扫描电镜(SEM)分析第50-51页
        2.2.3 X 射线光电子能谱仪(XPS)分析第51-53页
        2.2.4 超导量子干涉仪(SQUIDS)分析第53-54页
        2.2.5 原子力显微镜(AFM)分析第54-55页
        2.2.6 铁电测试系统分析第55-57页
第3章 在 Si(100)基片上制备的 La_(1-x)K_xMnO_3和 La_(0.95-x)Ca_(0.05)K_xMnO_3薄膜样品的结构及磁性研究第57-70页
    3.1 引言第57-58页
    3.2 实验部分第58-59页
        3.2.1 实验试剂第58页
        3.2.2 主要检测仪器与相应的测试条件第58页
        3.2.3 合成方法及实验条件第58-59页
    3.3 LKMO/Si(100)样品结果与讨论第59-65页
        3.3.1 LKMO/Si(100)样品的 XRD 结果分析第59-60页
        3.3.2 LKMO/Si(100)样品的 AFM 结果第60-61页
        3.3.3 LKMO/Si(100)样品的 SEM 结果分析第61-62页
        3.3.4 LKMO/Si(100)样品的 XPS 结果分析第62-64页
        3.3.5 LKMO 样品的 ZFC-FC 结果分析第64-65页
    3.4 LCKMO/Si(100)样品结果与讨论第65-69页
        3.4.1 LCKM/Si(100)样品的 XRD 结果分析第65-66页
        3.4.2 LCKM/Si(100)样品的 SEM 结果分析第66-67页
        3.4.3 LCKM/Si(100)样品的 XPS 结果分析第67-69页
    3.5 本章小结第69-70页
第4章 在 LAO(100)基片上制备的 La_(1-x)K_xMnO_3(x=0.05,0.10,0.15,0.20)薄膜样品的结构及磁性研究第70-88页
    4.1 引言第70页
    4.2 实验部分第70-72页
        4.2.1 实验试剂第70-71页
        4.2.2 主要检测仪器与相应的测试条件第71页
        4.2.3 合成方法及实验条件第71-72页
    4.3 结果与讨论第72-87页
        4.3.1 样品的 SEM 与 XRD 结果分析第72-75页
        4.3.2 XPS 谱图分析第75-79页
        4.3.3 ZFC 和 FC 曲线分析第79-81页
        4.3.4 ρ-T 曲线分析第81-82页
        4.3.5 Mn~(4+),TC,TIM之间的关系第82-83页
        4.3.6 MR 计算结果第83-84页
        4.3.7 磁卡效应分析第84-87页
    4.4 本章小结第87-88页
第5章 在 LAO(100)基片上制备的 La_(0.95-x)Ca_(0.05)K_xMnO_3(x=0.05,0.10,0.15,0.20)薄膜样品的结构及磁性研究第88-100页
    5.1 引言第88-89页
    5.2 实验部分第89-90页
        5.2.1 实验试剂第89页
        5.2.2 主要检测仪器与相应的测试条件第89页
        5.2.3 合成方法及实验条件第89-90页
    5.3 结果与讨论第90-99页
        5.3.1 样品的 SEM 和 XRD 结果分析第90-92页
        5.3.2 样品的 XPS 结果分析第92-94页
        5.3.3 样品的 ZFC-FC 结果分析第94-95页
        5.3.4 样品的ρ-T 结果分析第95-96页
        5.3.5 磁卡效应分析第96-99页
    5.4 本章小结第99-100页
第6章 在 ITO/glass 基片上制备的 BiFeO_3薄膜样品的结构及性质研究第100-109页
    6.1 引言第100-101页
    6.2 实验部分第101-102页
        6.2.1 实验试剂第101页
        6.2.2 主要检测仪器与相应的测试条件第101页
        6.2.3 合成方法及实验条件第101-102页
    6.3 结果与讨论第102-108页
        6.3.1 样品的 XRD 结果分析第102-103页
        6.3.2 样品的 SEM 结果分析第103-104页
        6.3.3 样品的 XPS 结果分析第104-105页
        6.3.4 样品的 PPMS 结果分析第105-107页
        6.3.5 样品的铁电性结果分析第107-108页
    6.4 本章小结第108-109页
第7章 结论第109-111页
    结论第109-110页
    展望第110-111页
参考文献第111-125页
作者简介第125页
攻读博士学位期间发表论文第125-127页
致谢第127页

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