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电子致冷器在激光雕刻机应用的研究

摘要第4-5页
ABSTRACT第5页
第一章 绪论第8-17页
    1.1 课题的研究的方向第8-9页
    1.2 激光雕刻机环境温度系统发展现状第9-10页
    1.3 半导体致冷器的发展历史第10-11页
    1.4 半导体致冷器的工作原理第11-15页
        1.4.1 塞贝克效应(Seebeck Effect)第12-13页
        1.4.2 珀尔帖效应(Peltier Effect)第13页
        1.4.3 汤姆逊效应(Thomson Effect)第13-15页
    1.5 半导体致冷与压缩机致冷对比第15-16页
    1.6 致冷器件的散热方式第16页
    1.7 论文的主要工作第16-17页
第二章 温度系统的内部设计第17-24页
    2.1 设计要求第17页
    2.2 致冷系统设计第17-22页
        2.2.1 基本设计原理第17-18页
        2.2.2 具体设计形式第18-19页
        2.2.3 致冷片的选择原则第19-20页
        2.2.4 致冷量的计算第20-22页
    2.3 构造致冷系统第22-23页
        2.3.1 致冷片的组合第22-23页
        2.3.2 散热系统第23页
    2.4 本章小结第23-24页
第三章 控制电路及供电电源的设计第24-36页
    3.1 控制电路的设计第24-27页
        3.1.1 选用器件介绍第24-25页
        3.1.2 设计原理第25-27页
        3.1.3 可靠性电路设计第27页
    3.2 供电电源设计第27-34页
        3.2.1 设计实例第27-28页
        3.2.2 仪器简介第28-33页
        3.2.3 仪器各部分详解第33-34页
        3.2.4 改进型电源箱第34页
    3.3 本章小结第34-36页
第四章 温度箱及循环水箱的设计第36-51页
    4.1 温度箱设计构想第36页
    4.2 温度箱设计产品实例第36-39页
    4.3 低温箱的设计第39-41页
        4.3.1 低温箱的热设计第39页
        4.3.2 低温箱的结构设计第39-40页
        4.3.3 温度采集和控制第40-41页
        4.3.4 安全性设计第41页
    4.4 高温箱的设计第41-45页
        4.4.1 高温箱的热设计第42-43页
        4.4.2 高温箱的结构设计第43-45页
        4.4.3 高温箱其他部分设计第45页
    4.5 循环水箱设计实例第45-46页
    4.6 循环水箱设计构想第46-47页
    4.7 循环水箱的组成第47-49页
        4.7.1 循环水箱功能设计第47-48页
        4.7.2 循环水箱安全性设计第48-49页
    4.8 本章小结第49-51页
第五章 仪器通讯与标定第51-58页
    5.1 RS-485 接口连线形式和通讯过程第51-52页
    5.2 通讯编程第52页
    5.3 单独部件的标定第52-53页
        5.3.1 PT100 型铂电阻的标定第52页
        5.3.2 SR253 调节器的标定第52-53页
    5.4 组成系统的标定第53-55页
        5.4.1 测温系统数值的校准第53页
        5.4.2 测温系统测量不确定度分析第53-55页
    5.5 仪器的验证第55-56页
    5.6 仪器安全性试验第56页
    5.7 本章小结第56-58页
总结与展望第58-59页
参考文献第59-61页
致谢第61页

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