| 摘要 | 第5-6页 |
| ABSTRACT | 第6-7页 |
| 第一章 绪论 | 第10-15页 |
| 1.1 研究工作的背景与意义 | 第10页 |
| 1.2 磁流变弹性体的研究现状和发展趋势 | 第10-14页 |
| 1.3 本文的研究内容与章节结构 | 第14-15页 |
| 第二章 磁流变弹性体相关理论概述 | 第15-22页 |
| 2.1 磁流变弹性体的磁流变机理 | 第15-18页 |
| 2.1.1 磁偶极子物理模型 | 第15-16页 |
| 2.1.2 弹性基体物理模型 | 第16-17页 |
| 2.1.3 磁流变机理 | 第17-18页 |
| 2.2 磁流变弹性体的磁致性能 | 第18-21页 |
| 2.2.1 磁流变弹性体的磁致伸缩效应 | 第18-19页 |
| 2.2.2 磁流变弹性体的压阻效应 | 第19-21页 |
| 2.3 本章小结 | 第21-22页 |
| 第三章 PDMS-Fe_3O_4磁流变弹性体薄膜的制备及光透过率研究 | 第22-43页 |
| 3.1 PDMS-Fe_3O_4磁流变弹性体薄膜的制备 | 第22-27页 |
| 3.1.1 组元材料 | 第22-25页 |
| 3.1.2 薄膜制备 | 第25-27页 |
| 3.2 PDMS-Fe_3O_4磁流变弹性体薄膜的微观形态的表征 | 第27-31页 |
| 3.2.1 薄膜厚度的测量 | 第27页 |
| 3.2.2 薄膜微观形貌的表征 | 第27-31页 |
| 3.3 PDMS-Fe_3O_4磁流变弹性体薄膜的光透过率表征 | 第31-41页 |
| 3.3.1 PDMS基磁流变弹性体薄膜的光透过率测试装置 | 第31-32页 |
| 3.3.2 薄膜光透过率测量结果与分析 | 第32-41页 |
| 3.4 本章小结 | 第41-43页 |
| 第四章 PDMS-Fe磁流变弹性体薄膜的制备及光透过率研究 | 第43-55页 |
| 4.1 PDMS-Fe磁流变弹性体薄膜的制备 | 第43-45页 |
| 4.1.1 组元材料 | 第43页 |
| 4.1.2 薄膜制备 | 第43-45页 |
| 4.2 PDMS-Fe磁流变弹性体薄膜微的观形态表征 | 第45-47页 |
| 4.3 PDMS-Fe磁流变弹性体薄膜在磁场作用下的光透过率表征 | 第47-54页 |
| 4.3.1 微观形态对薄膜光透过率的影响 | 第47-51页 |
| 4.3.2 外磁场对薄膜光透过率的影响 | 第51-54页 |
| 4.4 本章小结 | 第54-55页 |
| 第五章 设计微透镜阵列基于PDMS基磁流变弹性体薄膜的折射率研究 | 第55-65页 |
| 5.1 PDMS基磁流变弹性体薄膜的折射率研究 | 第55-60页 |
| 5.1.1 PDMS基磁流变弹性体薄膜折射率测量方法 | 第55-56页 |
| 5.1.2 PDMS基磁流变弹性体薄膜系统的模型建立 | 第56-58页 |
| 5.1.3 外磁场对薄膜折射率的影响分析 | 第58-60页 |
| 5.2 基于PDMS基磁流变弹性体薄膜的磁控微透镜阵列设计 | 第60-64页 |
| 5.2.1 制作基于PDMS基磁流变弹性体薄膜的磁控微透镜阵列 | 第60-63页 |
| 5.2.2 微透镜阵列的磁控性能 | 第63-64页 |
| 5.3 本章小结 | 第64-65页 |
| 第六章 总结及展望 | 第65-68页 |
| 6.1 总结 | 第65-66页 |
| 6.2 展望 | 第66-68页 |
| 致谢 | 第68-69页 |
| 参考文献 | 第69-74页 |
| 攻硕期间的研究成果 | 第74页 |
