| 摘要 | 第1-5页 |
| ABSTRACT | 第5-9页 |
| 第一章 绪论 | 第9-18页 |
| ·引言 | 第9页 |
| ·NiZn 铁氧体薄膜国内外的研究现状 | 第9-14页 |
| ·NiZn 铁氧体薄膜的应用 | 第14-17页 |
| ·本论文的结构安排 | 第17-18页 |
| 第二章 NiZn 铁氧体薄膜的制备、表征和测试方法 | 第18-22页 |
| ·NiZn 铁氧体靶材的制备 | 第18页 |
| ·靶材制备的主要工艺流程 | 第18-19页 |
| ·基片的选择和清洗 | 第19-20页 |
| ·基片的选择 | 第19页 |
| ·基片的清洗 | 第19-20页 |
| ·射频磁控溅射法 | 第20页 |
| ·NiZn 铁氧体薄膜性能的测试和表征 | 第20-22页 |
| 第三章 ZnFe_2O_4缓冲层对NiZn 铁氧体薄膜性能的影响 | 第22-34页 |
| ·引言 | 第22页 |
| ·ZnFe_2O_4 和NiZn 铁氧体靶材的制备 | 第22-23页 |
| ·ZnFe_2O_4 铁氧体薄膜制备工艺 | 第23-27页 |
| ·ZnFe_2O_4 铁氧体薄膜的制备 | 第24-25页 |
| ·ZnFe_2O_4 铁氧体薄膜的相结构 | 第25-27页 |
| ·ZnFe_2O_4 缓冲层对NiZn 铁氧体薄膜的影响 | 第27-33页 |
| ·NiZn 铁氧体薄膜的制备 | 第27-28页 |
| ·缓冲层对NZF/ZF/Si(100)铁氧体薄膜磁性能的影响 | 第28-30页 |
| ·缓冲层对NZF/ZF/Si(100)铁氧体薄膜相结构的影响 | 第30-32页 |
| ·退火温度对NZF/ZF/Si(100)铁氧体薄膜磁性能的影响 | 第32-33页 |
| ·本章小结 | 第33-34页 |
| 第四章 基片种类对NiZn 铁氧体薄膜性能的影响 | 第34-43页 |
| ·Si、MgO、MgA1_2O_4 基片参数 | 第34-35页 |
| ·NZF/SiO_2/Si(100)的磁性能 | 第35-36页 |
| ·不同基片上沉积NZF 薄膜的磁性能 | 第36页 |
| ·不同基片上沉积薄膜的相结构 | 第36-38页 |
| ·薄膜的微观结构 | 第38-39页 |
| ·矫顽力的分析 | 第39-41页 |
| ·本章小结 | 第41-43页 |
| 第五章 Mn 取代对NiZn 铁氧体靶材和薄膜性能的影响 | 第43-57页 |
| ·Mn 取代对NiZn 铁氧体靶材性能的影响 | 第43-51页 |
| ·靶材样品的制备 | 第43-44页 |
| ·不同烧结温度下靶材的磁性能 | 第44-45页 |
| ·靶材样品的物相和微观结构 | 第45-48页 |
| ·Mn 取代对NiZn 铁氧体靶材的磁性能影响 | 第48-51页 |
| ·Mn 取代对NiZn 铁氧体薄膜性能的影响 | 第51-53页 |
| ·Mn 取代对NiZn 铁氧体薄膜相结构的影响 | 第51-52页 |
| ·Mn 取代对NiZn 铁氧体薄膜磁性能的影响 | 第52-53页 |
| ·薄膜退火工艺的研究 | 第53-55页 |
| ·退火温度对薄膜物相结构和磁性能的影响 | 第53-54页 |
| ·保温时间对薄膜物相结构和磁性能的影响 | 第54-55页 |
| ·本章小结 | 第55-57页 |
| 第六章 结论 | 第57-59页 |
| 致谢 | 第59-60页 |
| 参考文献 | 第60-65页 |
| 攻硕期间取得的研究成果 | 第65-66页 |
