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蒙特卡罗方法在中子俘获反应截面测量中的修正应用

摘要第2-4页
英文摘要第4-5页
第一章、引言第10-13页
    1.1 对多次散射及自屏蔽效应的修正及其他影响因素的模拟计算的意义第10-11页
    1.2 采用蒙特卡罗方法解决上述问题的可行性第11页
    1.3 本论文的结构安排及各章主要内容第11-13页
第二章、蒙特卡罗方法概述第13-23页
    2.1 蒙特卡罗的基本思想及原理第13-14页
        2.1.1 基本思想第13页
        2.1.2 基本原理第13-14页
    2.2 蒙特卡罗解题的步骤第14-15页
        2.2.1 构造概率模型第14页
        2.2.2 从已知概率分进行抽样实验第14页
        2.2.3 建立各种估计量第14-15页
    2.3 蒙特卡罗方法的效率、收敛性、误差第15-17页
    2.4 蒙特卡罗方法的优点第17-18页
        2.4.1 可对实验模型进行任意设置第17页
        2.4.2 误差与维数无关第17页
        2.4.3 误差分析简单明了第17-18页
    2.5 蒙特卡罗方法的缺点第18页
        2.5.1 收敛速度慢第18页
        2.5.2 误差的概率性第18页
        2.5.3 计算结果与系统大小有关第18页
    2.6 蒙特卡罗方法减小方差的技巧第18-19页
    2.7 随机数的产生第19-23页
        2.7.1 随机数的性质第19-20页
        2.7.2 随机数与伪随机数第20页
        2.7.3 伪随机数的产生第20-23页
            2.7.3.1 乘同余法第21页
            2.7.3.2 乘加同余法第21页
            2.7.3.3 加同余法第21-23页
第三章、MCNP程序第23-46页
    3.1 MCNP程序的特点第23-24页
    3.2 MCNP程序结构第24-26页
    3.3 MCNP4B程序的运行环境第26页
    3.4 输入文件简介第26-29页
        3.4.1 INP文件第26-27页
        3.4.2 输出文件第27-29页
            3.4.2.1 程序调试过程的记录信息第27-28页
            3.4.2.2 程序运行过程的记录信息第28-29页
        3.4.3 转储文第29页
    3.5 源分布抽样第29-36页
        3.5.1 源粒子的位置常见分布的随机抽样第29-33页
            3.5.1.1 圆内均匀分布第30页
            3.5.1.2 球内均匀分布第30页
            3.5.1.3 球壳内均匀分布第30-32页
            3.5.1.4 圆柱内均匀分布第32页
            3.5.1.5 点源分布第32页
            3.5.1.6 球外平行束源分布第32-33页
        3.5.2 源粒子的能量常见分布的随机抽样第33-34页
            3.5.2.1 单能源分布第33页
            3.5.2.2 裂变中子谱分布第33-34页
            3.5.2.3 麦克斯韦(Maxwell)谱分布第34页
        3.5.3 源粒子运动方向常见分布的随机抽样第34-36页
            3.5.3.1 各向同性分布第34-35页
            3.5.3.2 半面各向同性分布第35页
            3.5.3.3 球外平行束源分布第35-36页
            3.5.3.4 球外各向同性点源分布第36页
        3.5.4 次级粒子的源分布第36页
            3.5.4.1 直接生成法第36页
            3.5.4.2 离散分布法第36页
    3.6 输运过程描述第36-43页
        3.6.1 粒子空间位置的抽样计算第37-39页
        3.6.2 碰撞后能量E_(m+1)的随机抽样第39-41页
        3.6.3 碰撞后运动方向Ω_(m+1)的确定第41-43页
            3.6.3.1 碰撞后散射角的随机抽样第41-42页
            3.6.3.2 碰撞后运动方向Ω_(m+1)的确定第42-43页
    3.7 历史终止机制描述第43-44页
    3.8 统计处理描述第44-46页
        3.8.1 记录贡献与分析结果过程第44页
        3.8.2 方差和协方差的估计第44-46页
第四章、~(152)Sm在22-1019KEV能区中子俘获反应截面的测量第46-66页
    4.1 ~(152)Sm俘获反应截面的测量现状及原理第46-48页
        4.1.1 ~(152)Sm中子俘获反应截面测量现状第46页
        4.1.2 ~(152)Sm中子俘获反应截面测量原理第46-48页
            4.1.2.1 中子源的选择依据第47-48页
            4.1.2.2 中子注量φ的测定第48页
            4.1.2.3 核反应的次数N的测定第48页
    4.2 实验装置及步骤第48-49页
        4.2.1 实验装置第48-49页
        4.2.2 实验步骤第49页
    4.3 样品的制备和加速器上靶的制备第49-50页
        4.3.1 样品的制备第50页
            4.3.1.1 标准样品的制备第50页
            4.3.1.2 待测样品的制备第50页
        4.3.2 靶的制备第50页
    4.4 样品的辐照及采用长计数器对中子注量率的波动进行监测第50-54页
        4.4.1 样品的辐照第50-52页
            4.4.1.1 4.5M静电加速器工作原理简介第51-52页
            4.4.1.2 4.5M静电加速器性能指标第52页
        4.4.2 用长计数器对中子注量率的波动进行监测第52-54页
            4.4.2.2 长计数器的工作原理第53-54页
            4.4.2.3 多路定标器简介第54页
    4.5 用GE(L1)探测器对生成核~(153)Sm及~(198)Au衰变发射的Γ谱进行测量第54-63页
        4.5.1 反应生成核素~(153)Sm及~(198)Au的γ谱第54-56页
            4.5.1.1 核素~(153)Sm衰变的γ谱分析第54-56页
            4.5.1.2 核素~(198)Au衰变的γ谱分析第56页
        4.5.2 γ射线与物质的作用机制第56-57页
            4.5.2.1 光电效应第56-57页
            4.5.2.2 康普顿效应第57页
            4.5.2.3 电子对效应第57页
        4.5.3 γ射线在物质中的吸收第57-58页
        4.5.4 γ射线探测原理第58页
        4.5.5 Ge(Li)探测器第58-63页
            4.5.5.1 Ge(Li)探测器系统组成第58-59页
            4.5.5.2 Ge(Li)探测器的工作原理第59-60页
            4.5.5.3 Ge(Li)探测器的性能指标第60-62页
            4.5.5.4 Ge(Li)能量刻度及效率刻度第62-63页
    4.6 实验数据处理分析第63-66页
        4.6.1 实验数据处理第63-64页
        4.6.2 实验数据误差来源分析第64-66页
第五章、利用MCNP4B程序对多次散射效应和自屏蔽效应等进行模拟计算第66-81页
    5.1 多次散射效应和自屏蔽效应的模拟计算第66-74页
        5.1.1 计算模型描述第66-67页
        5.1.2 多次散射修正因子S定义及的计算第67-69页
        5.1.3 注量率衰减因子D定义及的计算第69-74页
    5.2 冷却水层厚度变化对多次散射效应的影响第74-77页
    5.3 靶管厚度变化对多次散射效应的影响第77-81页
第六章、结果讨论及后续工作第81-82页
参考文献第82-88页
发表论文:第88-89页
致射第89页

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