| 摘要 | 第3-4页 |
| ABSTRACT | 第4页 |
| 第一章 文献综述 | 第7-18页 |
| 1.1 费托合成概述 | 第7-10页 |
| 1.1.1 费托合成简介 | 第7-9页 |
| 1.1.2 费托合成催化剂 | 第9页 |
| 1.1.3 费托合成技术研究进展 | 第9-10页 |
| 1.2 钴基催化剂的研究 | 第10-14页 |
| 1.2.1 前驱体影响 | 第11页 |
| 1.2.2 载体效应 | 第11-13页 |
| 1.2.3 助剂效应 | 第13-14页 |
| 1.3 ZrO_2在 F-T 合成催化剂中的应用 | 第14-15页 |
| 1.4 等离子体技术在制备催化剂中的应用 | 第15-16页 |
| 1.5 论文的选题背景及思路 | 第16-18页 |
| 第二章 试验方法及实验装置 | 第18-26页 |
| 2.1 催化剂的制备 | 第18-19页 |
| 2.1.1 Co/SiO_2催化剂的制备 | 第18页 |
| 2.1.2 Co/SiO_2催化剂的改性 | 第18页 |
| 2.1.3 等离子体制备催化剂 | 第18-19页 |
| 2.2 催化剂的表征方法 | 第19-21页 |
| 2.2.1 氮气物理吸附 | 第19-20页 |
| 2.2.2 氢气程序升温还原(H_2-TPR) | 第20页 |
| 2.2.3 氢气程序升温脱附(H_2-TPD) | 第20页 |
| 2.2.4 X 射线衍射分析(XRD) | 第20页 |
| 2.2.5 场发透射电子显微镜(TEM) | 第20-21页 |
| 2.2.6 扫描电子显微镜(SEM) | 第21页 |
| 2.3 催化剂的 F-T 反应性能评价 | 第21-24页 |
| 2.4 实验所用试剂及规格 | 第24-25页 |
| 2.5 实验仪器和设备 | 第25-26页 |
| 第三章 SiO_2载体及助剂对钴基催化剂 F-T 合成反应性能的影响 | 第26-40页 |
| 3.1 载体 SiO_2孔结构对 F-T 合成催化剂性能的影响 | 第26-32页 |
| 3.1.1 不同孔径 Co/SiO_2催化剂的表征结果与分析 | 第26-31页 |
| 3.1.2 催化剂 F-T 合成反应性能测定 | 第31-32页 |
| 3.2 三种助剂对 F-T 合成 Co/SiO_2催化剂性能的影响 | 第32-39页 |
| 3.2.3 改性后催化剂的表征结果与分析 | 第32-37页 |
| 3.2.4 催化剂 F-T 合成反应性能的测定 | 第37-39页 |
| 3.3 小结 | 第39-40页 |
| 第四章 Co/Zr/SiO_2催化剂 F-T 反应工艺条件考察 | 第40-48页 |
| 4.1 锆含量对 Co 基 F-T 合成催化剂性能的影响 | 第42-44页 |
| 4.1.1 不同锆含量 Co/Zr/SiO_2催化剂的孔结构变化 | 第42-43页 |
| 4.1.2 不同锆含量 Co/Zr/SiO_2催化剂的还原性能 | 第43页 |
| 4.1.3 锆含量对催化 F-T 合成反应活性的影响 | 第43-44页 |
| 4.2 Co/Zr/SiO_2催化剂 F-T 合成工艺条件的考察 | 第44-47页 |
| 4.2.1 空速的影响 | 第44-45页 |
| 4.2.2 反应温度的影响 | 第45-46页 |
| 4.2.3 H_2/CO 配比的影响 | 第46-47页 |
| 4.2.4 反应压力的影响 | 第47页 |
| 4.3 小结 | 第47-48页 |
| 第五章 DBD 处理对锆改性 Co/SiO_2催化剂 F-T 反应性能的影响 | 第48-56页 |
| 5.1 催化剂的表征及分析 | 第48-54页 |
| 5.1.1 催化剂比表面及孔结构测定 | 第48-50页 |
| 5.1.2 催化剂的 H_2-TPR 表征 | 第50-51页 |
| 5.1.3 催化剂的 H_2-TPD 表征 | 第51页 |
| 5.1.4 催化剂的 XRD 表征 | 第51-52页 |
| 5.1.5 催化剂的 TEM 表征 | 第52-54页 |
| 5.2 催化剂的 F-T 合成反应性能评价 | 第54-55页 |
| 5.3 小结 | 第55-56页 |
| 第六章 结论 | 第56-57页 |
| 参考文献 | 第57-63页 |
| 发表论文和参加科研情况说明 | 第63-64页 |
| 致谢 | 第64页 |
