| 摘要 | 第5-7页 |
| Abstract | 第7-10页 |
| 第一章 绪论 | 第14-28页 |
| 1.1 课题研究背景及意义 | 第14-17页 |
| 1.2 连铸坯表面温度测量研究现状 | 第17-22页 |
| 1.2.1 连铸坯表面温度测量难点 | 第17-18页 |
| 1.2.2 现有测量方法及存在问题分析 | 第18-22页 |
| 1.3 基于CCD高温场视觉测量技术研究概述 | 第22-24页 |
| 1.4 论文研究内容与本文结构 | 第24-28页 |
| 1.4.1 本论文研究内容 | 第24-25页 |
| 1.4.2 本文主要创新点 | 第25-27页 |
| 1.4.3 论文组织结构 | 第27-28页 |
| 第二章 铸坯表面温度场视觉测量模型及标定 | 第28-56页 |
| 2.1 面阵CCD辐射测温理论基础 | 第28-34页 |
| 2.1.1 辐射测温基本概念与理论 | 第28-30页 |
| 2.1.2 CCD视觉传感器工作原理 | 第30-34页 |
| 2.2 面阵CCD窄带光谱辐射测温模型 | 第34-36页 |
| 2.3 铸坯表面测温系统CCD类型及参数确定 | 第36-46页 |
| 2.3.1 CCD类型比较及确定 | 第36-42页 |
| 2.3.2 测量系统参数分析及确定 | 第42-46页 |
| 2.4 CCD测温系统标定及误差修正模型 | 第46-53页 |
| 2.5 本章小结 | 第53-56页 |
| 第三章 CCD测温仪温度场测量畸变校正研究 | 第56-86页 |
| 3.1 温度场测量畸变问题的提出 | 第56-58页 |
| 3.2 CCD探测器响应非均匀性校正 | 第58-64页 |
| 3.2.1 CCD探测器响应非均匀性分析 | 第58-61页 |
| 3.2.2 多点分段非均匀性校正算法 | 第61-62页 |
| 3.2.3 CCD探测器响应非均匀性校正实验 | 第62-64页 |
| 3.3 光学系统非均匀性 | 第64-72页 |
| 3.3.1 光学系统非均匀性原因分析 | 第65-66页 |
| 3.3.2 温度场畸变理论模型 | 第66-72页 |
| 3.4 基于场景的光学系统非均匀性校正 | 第72-84页 |
| 3.4.1 图像邻域灰度梯度稀疏特性 | 第73-75页 |
| 3.4.2 光学系统渐晕系数估计 | 第75-77页 |
| 3.4.3 光学系统非均匀性校正实验研究 | 第77-84页 |
| 3.5 本章小结 | 第84-86页 |
| 第四章 基于多信息融合铸坯表面温度测量稳定性研究 | 第86-108页 |
| 4.1 氧化铁皮对温度测量稳定性的影响 | 第86-93页 |
| 4.1.1 氧化铁皮形成机理及特点 | 第87-89页 |
| 4.1.2 氧化铁皮引起的温度波动大小及常见处理方法 | 第89-93页 |
| 4.2 基于温度分布特征的氧化铁皮污染温度点重构研究 | 第93-101页 |
| 4.2.1 连铸坯表面温度场分布特征研究 | 第93-96页 |
| 4.2.2 垂直于拉坯方向温度场在线建立 | 第96-98页 |
| 4.2.3 基于分布特征的温度场重构算法及实验结果 | 第98-101页 |
| 4.3 单点与面阵耦合测温方案 | 第101-107页 |
| 4.3.1 单一CCD测温可靠性问题分析 | 第101-102页 |
| 4.3.2 基于单点比色测温仪温度在线修正模型 | 第102-103页 |
| 4.3.3 基于氧化铁皮波动特征相似性的单点位置定位 | 第103-104页 |
| 4.3.4 单点与面阵耦合测温试验结果 | 第104-107页 |
| 4.4 本章小结 | 第107-108页 |
| 第五章 铸坯表面测温系统性能分析及现场应用 | 第108-128页 |
| 5.1 铸坯表面测温系统组成 | 第108-110页 |
| 5.2 影响铸坯表面测温精度相关因素分析 | 第110-120页 |
| 5.2.1 背景环境的辐射能量干扰 | 第110-111页 |
| 5.2.2 CCD暗电流引起的温度测量误差 | 第111-114页 |
| 5.2.3 发射率对温度测量精度的影响 | 第114-120页 |
| 5.3 铸坯表面测温系统现场应用 | 第120-125页 |
| 5.3.1 温度测量稳定性现场实例分析 | 第121-122页 |
| 5.3.2 不同钢种温度测量实验 | 第122-124页 |
| 5.3.3 变工艺参数下的温度测量实验 | 第124-125页 |
| 5.4 本章小结 | 第125-128页 |
| 第六章 结论 | 第128-132页 |
| 6.1 结论 | 第128-129页 |
| 6.2 展望 | 第129-132页 |
| 参考文献 | 第132-144页 |
| 致谢 | 第144-146页 |
| 攻读博士期间的主要工作 | 第146-148页 |
| 作者简介 | 第148页 |
