| 学位论文数据集 | 第3-4页 |
| 摘要 | 第4-6页 |
| ABSTRACT | 第6-8页 |
| 符号说明 | 第17-18页 |
| 第一章 绪论 | 第18-32页 |
| 1.1 电活性聚合物 | 第18-19页 |
| 1.2 介电弹性体 | 第19-21页 |
| 1.2.1 介电性能简介 | 第19页 |
| 1.2.2 介电弹性体研究背景 | 第19-20页 |
| 1.2.3 提高介电弹性体的介电常数的方法 | 第20-21页 |
| 1.3 石墨烯概述 | 第21-29页 |
| 1.3.1 石墨烯的结构和性能 | 第21-23页 |
| 1.3.2 氧化石墨烯的制备 | 第23-24页 |
| 1.3.3 氧化石墨烯的还原 | 第24-27页 |
| 1.3.3.1 化学还原 | 第24-26页 |
| 1.3.3.2 高温热还原 | 第26页 |
| 1.3.3.3 原位热还原 | 第26-27页 |
| 1.3.4 氧化石墨烯的表面修饰 | 第27-28页 |
| 1.3.4.1 共价修饰 | 第27页 |
| 1.3.4.2 非共价修饰 | 第27-28页 |
| 1.3.5 石墨烯基核壳结构的纳米复合材料 | 第28-29页 |
| 1.4 石墨烯介电弹性体的研究进展 | 第29-30页 |
| 1.5 本论文的主要研究内容和创新点 | 第30-32页 |
| 1.5.1 研究目的及意义 | 第30页 |
| 1.5.2 主要研究内容 | 第30-31页 |
| 1.5.3 创新点 | 第31-32页 |
| 第二章 RGO@CNS/XNBR高性能介电弹性体复合材料 | 第32-58页 |
| 2.1 引言 | 第32-33页 |
| 2.2 实验部分 | 第33-39页 |
| 2.2.1 实验原料及试剂 | 第33页 |
| 2.2.2 仪器设备 | 第33-34页 |
| 2.2.3 实验流程 | 第34-36页 |
| 2.2.3.1 氧化石墨烯的制备 | 第34-35页 |
| 2.2.3.2 GO@CNS核壳杂化粒子的制备 | 第35-36页 |
| 2.2.3.3 RGO@CNS/XNBR介电弹性体复合材料的制备 | 第36页 |
| 2.2.4 样品表征及测试 | 第36-39页 |
| 2.2.4.1 扫描电镜(SEM) | 第36-37页 |
| 2.2.4.2 透射电镜(TEM)和高分辨透射电镜(HRTEM) | 第37页 |
| 2.2.4.3 原子力显微镜(AFM) | 第37页 |
| 2.2.4.4 X射线衍射(XRD) | 第37页 |
| 2.2.4.5 紫外可见吸收光谱(UV-vis) | 第37-38页 |
| 2.2.4.6 X射线光电子能谱(XPS) | 第38页 |
| 2.2.4.7 热失重分析(TGA) | 第38页 |
| 2.2.4.8 体积电阻率 | 第38页 |
| 2.2.4.9 介电性能 | 第38页 |
| 2.2.4.10 电致形变 | 第38-39页 |
| 2.2.4.11 力学性能 | 第39页 |
| 2.3 结果与讨论 | 第39-56页 |
| 2.3.1 氧化石墨、氧化石墨烯GO的表征 | 第39-41页 |
| 2.3.1.1 XRD结构分析 | 第39-40页 |
| 2.3.1.2 XPS元素分析 | 第40页 |
| 2.3.1.3 微观形貌分析(SEM、TEM和AFM) | 第40-41页 |
| 2.3.2 GO@CNS核壳杂化粒子的表征 | 第41-45页 |
| 2.3.2.1 XPS元素分析 | 第41-42页 |
| 2.3.2.2 XRD结构分析 | 第42-43页 |
| 2.3.2.3 热失重分析TGA | 第43页 |
| 2.3.2.4 微观形貌分析(SEM、HRTEM) | 第43-44页 |
| 2.3.2.5 CNS与GO相互作用力分析(UV-vis) | 第44-45页 |
| 2.3.3 GO@CNS/XNBR及CNS/XNBR复合材料的微观结构 | 第45-47页 |
| 2.3.4 GO@CNS/XNBR复合材料的原位热还原 | 第47-49页 |
| 2.3.5 RGO@CNS/XNBR复合材料的电力学性能 | 第49-55页 |
| 2.3.5.1 介电性能 | 第49-52页 |
| 2.3.5.2 电致形变 | 第52页 |
| 2.3.5.3 弹性模量及电力学敏感因子 | 第52-54页 |
| 2.3.5.4 滞后损失 | 第54-55页 |
| 2.3.6 GO@CNS作为介电填料的优势 | 第55-56页 |
| 2.4 本章小结 | 第56-58页 |
| 第三章 仿生修饰法制备电力学性能可调控的石墨烯介电弹性体复合材料 | 第58-76页 |
| 3.1 引言 | 第58页 |
| 3.2 实验部分 | 第58-62页 |
| 3.2.1 实验原料及试剂 | 第58-59页 |
| 3.2.2 仪器设备 | 第59页 |
| 3.2.3 实验流程 | 第59-60页 |
| 3.2.3.1 多巴胺表面修饰氧化石墨烯(GO-PDA) | 第59页 |
| 3.2.3.2 GO-PDA/XNBR介电弹性体复合材料的制备 | 第59-60页 |
| 3.2.4 样品表征及测试 | 第60-62页 |
| 3.2.4.1 X射线光电子能谱(XPS) | 第60页 |
| 3.2.4.2 原子力显微镜(AFM) | 第60页 |
| 3.2.4.3 透射电镜(TEM)和高分辨透射电镜(HRTEM) | 第60-61页 |
| 3.2.4.4 紫外可见吸收光谱(UV-vis) | 第61页 |
| 3.2.4.5 拉曼光谱(Raman) | 第61页 |
| 3.2.4.6 X射线衍射(XRD) | 第61页 |
| 3.2.4.7 热失重分析(TGA) | 第61页 |
| 3.2.4.8 体积电阻率 | 第61-62页 |
| 3.2.4.9 介电性能 | 第62页 |
| 3.2.4.10 力学性能 | 第62页 |
| 3.2.4.11 电致形变 | 第62页 |
| 3.3 结果与讨论 | 第62-74页 |
| 3.3.1 多巴胺表面修饰的氧化石墨烯的表征 | 第62-66页 |
| 3.3.1.1 XPS元素分析 | 第62-64页 |
| 3.3.1.2 微观形貌分析(AFM) | 第64-66页 |
| 3.3.2 GO还原程度的表征 | 第66-69页 |
| 3.3.2.1 HRTEM | 第66-67页 |
| 3.3.2.2 光谱随还原程度的变化(UV-vis和Raman) | 第67-68页 |
| 3.3.2.3 XRD结构分析 | 第68页 |
| 3.3.2.4 热失重TGA分析 | 第68-69页 |
| 3.3.3 GO-PDA/XNBR复合材料的微观结构 | 第69-70页 |
| 3.3.4 GO-PDA/XNBR复合材料的绝缘性能 | 第70-71页 |
| 3.3.5 GO-PDA/XNBR介电复合材料的电力学性能 | 第71-74页 |
| 3.3.5.1 介电性能 | 第71-73页 |
| 3.3.5.2 电致形变 | 第73页 |
| 3.3.5.3 弹性模量和电力学敏感因子 | 第73-74页 |
| 3.4 本章小结 | 第74-76页 |
| 第四章 结论 | 第76-78页 |
| 参考文献 | 第78-86页 |
| 致谢 | 第86-88页 |
| 研究成果及发表的学术论文 | 第88-90页 |
| 作者和导师简介 | 第90-92页 |
| 附件 | 第92-93页 |
