| 摘要 | 第4-6页 |
| Abstract | 第6-7页 |
| 第1章 绪论 | 第10-20页 |
| 1.1 金刚石及其性质 | 第10-12页 |
| 1.2 人造金刚石的制备方法 | 第12-15页 |
| 1.3 CVD单晶金刚石国内外研究现状 | 第15-19页 |
| 1.3.1 国外研究现状 | 第15-17页 |
| 1.3.2 国内研究现状 | 第17-18页 |
| 1.3.3 Mosaic拼接法大尺寸单晶金刚石研究现状 | 第18-19页 |
| 1.4 主要研究内容 | 第19-20页 |
| 第2章 实验仪器及测试方法 | 第20-27页 |
| 2.1 微波等离子体辅助化学气相沉积（MPCVD）装置 | 第20-21页 |
| 2.2 激光共聚焦显微镜 | 第21-22页 |
| 2.3 扫描电子显微镜 | 第22页 |
| 2.4 拉曼光谱 | 第22-24页 |
| 2.5 光致发光光谱 | 第24-25页 |
| 2.6 X射线摇摆曲线 | 第25-26页 |
| 2.7 X射线极图 | 第26-27页 |
| 第3章 单晶金刚石生长机理及动力学 | 第27-38页 |
| 3.1 CVD单晶金刚石同质外延生长化学本质 | 第27-30页 |
| 3.2 CVD单晶金刚石同质外延生长模式 | 第30-33页 |
| 3.3 附着物及刻蚀坑对CVD生长模式和形貌的影响 | 第33-37页 |
| 3.3.1 表面附着物对CVD单晶金刚石同质外延生长的影响 | 第33-35页 |
| 3.3.2 大刻蚀坑对CVD单晶金刚石同质外延生长的影响 | 第35-37页 |
| 3.4 本章小结 | 第37-38页 |
| 第4章 单晶金刚石生长研究 | 第38-65页 |
| 4.1 HPHT金刚石籽晶的质量评定及筛选方法 | 第38-46页 |
| 4.1.1 表面形貌观测 | 第38-40页 |
| 4.1.2 光致发光（PL）谱 | 第40-41页 |
| 4.1.3 X射线摇摆曲线 | 第41-43页 |
| 4.1.4 等离子体刻蚀处理 | 第43-46页 |
| 4.2 CVD同质外延单晶金刚石生长及质量表征 | 第46-57页 |
| 4.2.1 籽晶质量对CVD外延生长层的影响 | 第46-51页 |
| 4.2.2 温度对单晶金刚石生长的影响 | 第51-54页 |
| 4.2.3 微波功率密度对单晶金刚石生长的影响 | 第54-55页 |
| 4.2.4 碳源浓度对单晶金刚石生长速率的影响 | 第55-57页 |
| 4.3 高质量CVD单晶金刚石生长及质量表征 | 第57-63页 |
| 4.3.1 高质量CVD金刚石样品Raman光谱表征及分析 | 第58-61页 |
| 4.3.2 高质量CVD金刚石样品PL谱表征及分析 | 第61-63页 |
| 4.3.3 高质量CVD金刚石样品X射线摇摆曲线 | 第63页 |
| 4.4 本章小结 | 第63-65页 |
| 第5章 Mosaic拼接法生大尺寸单晶金刚石生长研究 | 第65-82页 |
| 5.1 Mosaic拼接法双籽晶生长研究 | 第65-76页 |
| 5.1.1 Mosaic拼接法双籽晶样品生长表面研究 | 第65-70页 |
| 5.1.2 Mosaic拼接法双籽晶样品横截面表征 | 第70-76页 |
| 5.2 Mosaic拼接法三籽晶生长研究 | 第76-79页 |
| 5.3 Mosaic拼接法四籽晶生长研究 | 第79-81页 |
| 5.4 本章小结 | 第81-82页 |
| 结论 | 第82-83页 |
| 参考文献 | 第83-87页 |
| 攻读硕士学位期间发表的论文及其它成果 | 第87-89页 |
| 致谢 | 第89页 |
