| 摘要 | 第5-7页 |
| Abstract | 第7-8页 |
| 第一章 绪论 | 第9-18页 |
| 1.1 石墨烯的结构及基本性质 | 第11-12页 |
| 1.1.1 石墨烯的结构 | 第11页 |
| 1.1.2 石墨烯的基本性质 | 第11-12页 |
| 1.2 石墨烯的制备方法及相关应用 | 第12-17页 |
| 1.2.1 机械剥离法 | 第12-13页 |
| 1.2.2 化学气相沉积法 | 第13-14页 |
| 1.2.3 化学溶液还原法 | 第14-15页 |
| 1.2.4 SiC热分解法 | 第15-16页 |
| 1.2.5 石墨烯的应用前景 | 第16-17页 |
| 1.3 本论文的主要研究内容和方法 | 第17-18页 |
| 第二章 石墨烯材料的化学还原制备方法和分析测试设备 | 第18-41页 |
| 2.1 引言 | 第18-19页 |
| 2.2 石墨烯样品的制备 | 第19-21页 |
| 2.3 石墨烯样品结构的基本表征 | 第21-23页 |
| 2.4 石墨烯特性分析的测试方法和实验设备 | 第23-40页 |
| 2.4.1 拉曼光谱(Raman spectrum) | 第23-25页 |
| 2.4.2 透射电子显微镜(TEM) | 第25-26页 |
| 2.4.3 X射线光电子能谱(XPS) | 第26-28页 |
| 2.4.4 红外傅立叶变换光谱仪(FTIR) | 第28-29页 |
| 2.4.5 分光光度计(Spectrometer) | 第29页 |
| 2.4.6 椭圆偏振光谱仪及数据分析软件 | 第29-40页 |
| 2.5 本章小结 | 第40-41页 |
| 第三章 石墨烯与氧化石墨烯的光学性质 | 第41-62页 |
| 3.1 引言 | 第41-43页 |
| 3.2 氧化石墨烯和石墨烯样品的制备及基本表征 | 第43-47页 |
| 3.3 FRGO与GO的椭圆偏振光谱研究 | 第47-61页 |
| 3.3.1 椭偏模型建立及参数分析 | 第48-49页 |
| 3.3.2 光学常数的色散理论和模型 | 第49-59页 |
| 3.3.3 结果与讨论 | 第59-61页 |
| 3.4 本章小结 | 第61-62页 |
| 第四章 不同还原度氧化石墨烯的光学性质及能带结构 | 第62-83页 |
| 4.1 引言 | 第62-63页 |
| 4.2 不同还原度氧化石墨烯的制备 | 第63-67页 |
| 4.3 不同还原度氧化石墨烯的光学表征 | 第67-75页 |
| 4.3.1 Raman光谱表征 | 第67-68页 |
| 4.3.2 XPS表征 | 第68-69页 |
| 4.3.3 FT-IR红外吸收谱 | 第69-70页 |
| 4.3.4 UV-VIS-NIR紫外-可见-近红外区吸收谱表征 | 第70-72页 |
| 4.3.5 椭圆偏振光谱表征 | 第72-75页 |
| 4.4 基于密度泛函分析原理的石墨烯氧化物特性研究 | 第75-82页 |
| 4.4.1 密度泛函理论 | 第75-76页 |
| 4.4.2 交换相关泛函的选取 | 第76页 |
| 4.4.3 石墨烯氧化物理论计算的架构及结果 | 第76-82页 |
| 4.5 本章小结 | 第82-83页 |
| 第五章 石墨烯场效应晶体管的等离子刻蚀处理 | 第83-103页 |
| 5.1 石墨烯场效应晶体管的特点 | 第83-87页 |
| 5.1.1 石墨烯的电子结构与载流子输运特性 | 第83-85页 |
| 5.1.2 化学还原石墨烯FET(rGO-FET)的制备过程与电学特性 | 第85-87页 |
| 5.2 等离子刻蚀方法及其在石墨烯制备中的应用 | 第87-93页 |
| 5.2.1 等离子体刻蚀的原理及分类 | 第87-89页 |
| 5.2.2 等离子体刻蚀在石墨烯制造中的应用 | 第89-93页 |
| 5.3 rGO-FET的Ar-ICP表面等离子刻蚀处理 | 第93-101页 |
| 5.4 本章小结 | 第101-103页 |
| 第六章 论文工作总结与展望 | 第103-105页 |
| 参考文献 | 第105-113页 |
| 攻读博士学位期间发表和待发表的论文 | 第113-114页 |
| 致谢 | 第114-115页 |
