陶瓷膜的表面改性—印迹硅胶的制备及其分离性能
| 摘要 | 第5-7页 |
| ABSTRACT | 第7-8页 |
| 第一章 绪论 | 第11-21页 |
| 1.1 含镍废水的来源及危害 | 第11-12页 |
| 1.1.1 含镍废水的来源 | 第11页 |
| 1.1.2 含镍废水的危害 | 第11-12页 |
| 1.2 含镍废水的一般治理方法 | 第12-15页 |
| 1.2.1 化学法 | 第12-13页 |
| 1.2.2 物理化学法 | 第13-14页 |
| 1.2.3 生物化学法 | 第14-15页 |
| 1.3 陶瓷膜分离技术 | 第15-16页 |
| 1.3.1 陶瓷膜的特点 | 第15页 |
| 1.3.2 陶瓷膜的应用 | 第15-16页 |
| 1.3.3 陶瓷膜改性技术 | 第16页 |
| 1.4 分子(离子)印迹技术 | 第16-18页 |
| 1.4.1 分子(离子)印迹技术的原理及特点 | 第16-17页 |
| 1.4.2 分子(离子)印迹硅胶聚合物的制备方法 | 第17-18页 |
| 1.5 动态膜技术 | 第18-19页 |
| 1.5.1 动态膜技术简介 | 第18页 |
| 1.5.2 动态膜技术的优点 | 第18页 |
| 1.5.3 动态膜技术的应用 | 第18-19页 |
| 1.6 课题研究的内容与意义 | 第19-21页 |
| 1.6.1 课题的提出及意义 | 第19-20页 |
| 1.6.2 课题的主要研究内容 | 第20-21页 |
| 第二章 改性陶瓷膜的制备及其分离性能 | 第21-33页 |
| 2.1 引言 | 第21页 |
| 2.2 实验内容 | 第21-24页 |
| 2.2.1 实验原料及仪器 | 第21-22页 |
| 2.2.2 Ni2+标准曲线的测定 | 第22页 |
| 2.2.3 陶瓷膜表面改性 | 第22-23页 |
| 2.2.4 改性陶瓷膜的表征 | 第23页 |
| 2.2.5 沉积条件的优化 | 第23-24页 |
| 2.2.6 膜纯水通量的变化 | 第24页 |
| 2.2.7 镍离子截留实验 | 第24页 |
| 2.3 实验结果与讨论 | 第24-32页 |
| 2.3.1 Ni2+标准曲线 | 第24-25页 |
| 2.3.2 改性陶瓷膜的表征 | 第25-28页 |
| 2.3.3 沉积条件的优化 | 第28-29页 |
| 2.3.4 膜纯水通量的变化 | 第29-30页 |
| 2.3.5 镍离子截留实验 | 第30-32页 |
| 2.4 小结 | 第32-33页 |
| 第三章 印迹硅胶聚合物的制备及其分离性能 | 第33-47页 |
| 3.1 引言 | 第33页 |
| 3.2 实验内容 | 第33-37页 |
| 3.2.1 实验原料及仪器 | 第33-34页 |
| 3.2.2 印迹硅胶聚合物的制备 | 第34-35页 |
| 3.2.3 印迹硅胶聚合物的表征 | 第35页 |
| 3.2.4 印迹硅胶聚合物制备条件的优化 | 第35-36页 |
| 3.2.5 印迹硅胶聚合物的吸附性能 | 第36-37页 |
| 3.2.6 重复利用率实验 | 第37页 |
| 3.3 实验结果与讨论 | 第37-45页 |
| 3.3.1 印迹硅胶聚合物的表征 | 第37-39页 |
| 3.3.2 印迹硅胶聚合物制备条件优化 | 第39-40页 |
| 3.3.3 印迹硅胶聚合物的吸附性能 | 第40-44页 |
| 3.3.4 重复利用率 | 第44-45页 |
| 3.4 小结 | 第45-47页 |
| 第四章 印迹硅胶动态膜的制备及其分离性能 | 第47-55页 |
| 4.1 引言 | 第47页 |
| 4.2 实验内容 | 第47-50页 |
| 4.2.1 实验原料及仪器 | 第47-49页 |
| 4.2.2 印迹硅胶动态膜的制备 | 第49页 |
| 4.2.3 印迹硅胶动态膜制备条件的优化 | 第49-50页 |
| 4.2.4 印迹硅胶动态膜性能 | 第50页 |
| 4.3 实验结果与讨论 | 第50-54页 |
| 4.3.1 印迹硅胶动态膜制备条件的优化 | 第50-52页 |
| 4.3.2 印迹硅胶聚合物的性能 | 第52-54页 |
| 4.4 小结 | 第54-55页 |
| 第五章 结论与展望 | 第55-57页 |
| 参考文献 | 第57-63页 |
| 致谢 | 第63-65页 |
| 附录A(攻读学位期间发表论文及专利) | 第65页 |
