| 摘要 | 第9-11页 |
| ABSTRACT | 第11-12页 |
| 第1章 绪论 | 第13-23页 |
| 1.1 研究背景和意义 | 第13-16页 |
| 1.1.1 再制造发展现状及意义 | 第13-15页 |
| 1.1.2 研究对象及意义 | 第15-16页 |
| 1.2 国内外研究现状 | 第16-20页 |
| 1.2.1 碳化钨钴涂层 | 第16-17页 |
| 1.2.2 电解抛光 | 第17-20页 |
| 1.3 课题主要来源及主要研究内容 | 第20-23页 |
| 1.3.1 课题来源 | 第20页 |
| 1.3.2 主要研究内容 | 第20-21页 |
| 1.3.3 论文组织结构 | 第21-23页 |
| 第2章 WC-12Co涂层的制备方法及仿真设计分析 | 第23-39页 |
| 2.1 超音速热喷涂涂层的制备 | 第23-28页 |
| 2.1.1 材料和基材选择 | 第23-25页 |
| 2.1.2 超音速热喷涂实验设计 | 第25-27页 |
| 2.1.3 涂层的孔隙率及硬度 | 第27-28页 |
| 2.2 COMSOL仿真设计分析 | 第28-38页 |
| 2.2.1 仿真设计 | 第28-34页 |
| 2.2.2 仿真结果分析 | 第34-38页 |
| 2.3 本章小结 | 第38-39页 |
| 第3章 WC-12Co涂层的电解抛光工艺研究 | 第39-61页 |
| 3.1 电解液的选择 | 第40-46页 |
| 3.1.1 极化曲线分析 | 第41-45页 |
| 3.1.2 电解液理论分析 | 第45-46页 |
| 3.2 抛光后的表面粗糙度分析 | 第46-52页 |
| 3.3 残余应力分析 | 第52-55页 |
| 3.3.1 X射线残余应力测试原理 | 第53页 |
| 3.3.2 测量设备及结果分析 | 第53-55页 |
| 3.4 抛光后腐蚀速度分析 | 第55-58页 |
| 3.5 抛光后耐蚀性分析 | 第58-59页 |
| 3.6 抛光后硬度分析 | 第59页 |
| 3.7 本章小结 | 第59-61页 |
| 第4章 电解抛光试验设备的设计及开发 | 第61-71页 |
| 4.1 技术背景 | 第61-62页 |
| 4.2 机床结构设计 | 第62-68页 |
| 4.2.1 机床主体结构 | 第62-64页 |
| 4.2.2 电解液循环系统 | 第64-65页 |
| 4.2.3 电解加工电源 | 第65-66页 |
| 4.2.4 电解控制系统 | 第66-67页 |
| 4.2.5 球形阴极头及夹具设计 | 第67-68页 |
| 4.3 电解抛光工艺参数验证 | 第68-69页 |
| 4.4 本章小结 | 第69-71页 |
| 第5章 结论与展望 | 第71-73页 |
| 5.1 结论 | 第71-72页 |
| 5.2 展望 | 第72-73页 |
| 参考文献 | 第73-77页 |
| 攻读学位期间发表学术论文、参与科研项目情况 | 第77-79页 |
| 致谢 | 第79-80页 |
| 学位论文评阅及答辩情况表 | 第80页 |