氧化钇薄膜反应溅射法生长、性能及红外光学应用研究
摘要 | 第4-6页 |
ABSTRACT | 第6-8页 |
第1章 绪论 | 第15-37页 |
1.1 课题背景及研究的目的和意义 | 第15-16页 |
1.2 薄膜制备方法 | 第16-27页 |
1.2.1 几种常见的氧化钇薄膜制备方法 | 第16-23页 |
1.2.2 磁控溅射方法发展历程 | 第23页 |
1.2.3 物理气相沉积薄膜微区结构模型 | 第23-27页 |
1.3 氧化钇基本性质 | 第27-28页 |
1.4 氧化钇物性研究现状 | 第28-35页 |
1.4.1 光学性能 | 第28-31页 |
1.4.2 电学性能 | 第31-33页 |
1.4.3 力学性能 | 第33页 |
1.4.4 氧化钇薄膜的红外窗口应用 | 第33-35页 |
1.5 主要研究内容 | 第35-37页 |
第2章 实验原材料与方法 | 第37-47页 |
2.1 氧化钇薄膜的制备 | 第37-42页 |
2.1.1 薄膜制备材料 | 第37页 |
2.1.2 磁控溅射沉积系统 | 第37-38页 |
2.1.3 薄膜沉积过程 | 第38-39页 |
2.1.4 薄膜沉积参数选择 | 第39-42页 |
2.2 薄膜结构和性能表征方法 | 第42-46页 |
2.2.1 薄膜厚度 | 第42页 |
2.2.2 薄膜的结构 | 第42-43页 |
2.2.3 薄膜的成分及化学键 | 第43-44页 |
2.2.4 薄膜的光学性能 | 第44页 |
2.2.5 薄膜的力学性能 | 第44-45页 |
2.2.6 薄膜的表面润湿性能 | 第45页 |
2.2.7 薄膜的电学性能 | 第45-46页 |
2.3 本章小结 | 第46-47页 |
第3章 反应滞后回线及磁控靶表面的状态 | 第47-61页 |
3.1 引言 | 第47页 |
3.2 反应滞后回线的测定 | 第47-49页 |
3.3 反应滞后回线的特点与靶表面的对应关系 | 第49-51页 |
3.4 反应滞后回线对工艺参数的响应关系 | 第51-54页 |
3.5 反应回线的理论分析 | 第54-60页 |
3.6 本章小结 | 第60-61页 |
第4章 氧化钇薄膜的成分及微观结构 | 第61-93页 |
4.1 引言 | 第61页 |
4.2 直流溅射氧化钇薄膜 | 第61-79页 |
4.2.1 薄膜的沉积速率 | 第61-63页 |
4.2.2 薄膜的成分和键合状态 | 第63-66页 |
4.2.3 薄膜的晶体结构 | 第66-71页 |
4.2.4 不同沉积几何构型对薄膜结构的影响 | 第71-79页 |
4.3 射频溅射氧化钇薄膜 | 第79-88页 |
4.3.1 氧气流量对于薄膜成分和结构的影响 | 第79-82页 |
4.3.2 温度和偏压对于薄膜成分和结构的影响 | 第82-88页 |
4.4 立方相和单斜相的形成条件及转化机制 | 第88-89页 |
4.5 薄膜生长的区域结构模型 | 第89-91页 |
4.6 本章小结 | 第91-93页 |
第5章 氧化钇薄膜的性能 | 第93-120页 |
5.1 引言 | 第93页 |
5.2 光学性能与致密性 | 第93-105页 |
5.2.1 直流溅射薄膜的光学常数 | 第95-98页 |
5.2.2 射频溅射薄膜的光学常数 | 第98-99页 |
5.2.3 可调参数对于光学常数的可控调节 | 第99-100页 |
5.2.4 薄膜的致密性 | 第100-102页 |
5.2.5 光学带隙 | 第102-104页 |
5.2.6 傅里叶红外透射光谱 | 第104-105页 |
5.3 薄膜的力学性能 | 第105-110页 |
5.4 润湿性与表面能 | 第110-115页 |
5.5 薄膜的电学性能 | 第115-118页 |
5.6 本章小结 | 第118-120页 |
第6章 氧化钇红外增透保护薄膜 | 第120-139页 |
6.1 引言 | 第120页 |
6.2 硫化锌窗口增透保护膜 | 第120-135页 |
6.2.1 增透膜系设计与实现 | 第120-123页 |
6.2.2 氧化钇红外高硬保护涂层 | 第123-126页 |
6.2.3 增透保护膜的界面及结合特性 | 第126-133页 |
6.2.4 球罩型大面积均匀性的实现 | 第133-135页 |
6.3 增透保护膜的热辐射特性 | 第135-138页 |
6.3.1 氧化钇/硫化锌辐射特性 | 第136-137页 |
6.3.2 氧化钇/蓝宝石辐射特性 | 第137-138页 |
6.4 本章小结 | 第138-139页 |
结论 | 第139-141页 |
参考文献 | 第141-153页 |
攻读博士学位期间发表的论文及其它成果 | 第153-157页 |
致谢 | 第157-158页 |
个人简历 | 第158页 |