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氧化钇薄膜反应溅射法生长、性能及红外光学应用研究

摘要第4-6页
ABSTRACT第6-8页
第1章 绪论第15-37页
    1.1 课题背景及研究的目的和意义第15-16页
    1.2 薄膜制备方法第16-27页
        1.2.1 几种常见的氧化钇薄膜制备方法第16-23页
        1.2.2 磁控溅射方法发展历程第23页
        1.2.3 物理气相沉积薄膜微区结构模型第23-27页
    1.3 氧化钇基本性质第27-28页
    1.4 氧化钇物性研究现状第28-35页
        1.4.1 光学性能第28-31页
        1.4.2 电学性能第31-33页
        1.4.3 力学性能第33页
        1.4.4 氧化钇薄膜的红外窗口应用第33-35页
    1.5 主要研究内容第35-37页
第2章 实验原材料与方法第37-47页
    2.1 氧化钇薄膜的制备第37-42页
        2.1.1 薄膜制备材料第37页
        2.1.2 磁控溅射沉积系统第37-38页
        2.1.3 薄膜沉积过程第38-39页
        2.1.4 薄膜沉积参数选择第39-42页
    2.2 薄膜结构和性能表征方法第42-46页
        2.2.1 薄膜厚度第42页
        2.2.2 薄膜的结构第42-43页
        2.2.3 薄膜的成分及化学键第43-44页
        2.2.4 薄膜的光学性能第44页
        2.2.5 薄膜的力学性能第44-45页
        2.2.6 薄膜的表面润湿性能第45页
        2.2.7 薄膜的电学性能第45-46页
    2.3 本章小结第46-47页
第3章 反应滞后回线及磁控靶表面的状态第47-61页
    3.1 引言第47页
    3.2 反应滞后回线的测定第47-49页
    3.3 反应滞后回线的特点与靶表面的对应关系第49-51页
    3.4 反应滞后回线对工艺参数的响应关系第51-54页
    3.5 反应回线的理论分析第54-60页
    3.6 本章小结第60-61页
第4章 氧化钇薄膜的成分及微观结构第61-93页
    4.1 引言第61页
    4.2 直流溅射氧化钇薄膜第61-79页
        4.2.1 薄膜的沉积速率第61-63页
        4.2.2 薄膜的成分和键合状态第63-66页
        4.2.3 薄膜的晶体结构第66-71页
        4.2.4 不同沉积几何构型对薄膜结构的影响第71-79页
    4.3 射频溅射氧化钇薄膜第79-88页
        4.3.1 氧气流量对于薄膜成分和结构的影响第79-82页
        4.3.2 温度和偏压对于薄膜成分和结构的影响第82-88页
    4.4 立方相和单斜相的形成条件及转化机制第88-89页
    4.5 薄膜生长的区域结构模型第89-91页
    4.6 本章小结第91-93页
第5章 氧化钇薄膜的性能第93-120页
    5.1 引言第93页
    5.2 光学性能与致密性第93-105页
        5.2.1 直流溅射薄膜的光学常数第95-98页
        5.2.2 射频溅射薄膜的光学常数第98-99页
        5.2.3 可调参数对于光学常数的可控调节第99-100页
        5.2.4 薄膜的致密性第100-102页
        5.2.5 光学带隙第102-104页
        5.2.6 傅里叶红外透射光谱第104-105页
    5.3 薄膜的力学性能第105-110页
    5.4 润湿性与表面能第110-115页
    5.5 薄膜的电学性能第115-118页
    5.6 本章小结第118-120页
第6章 氧化钇红外增透保护薄膜第120-139页
    6.1 引言第120页
    6.2 硫化锌窗口增透保护膜第120-135页
        6.2.1 增透膜系设计与实现第120-123页
        6.2.2 氧化钇红外高硬保护涂层第123-126页
        6.2.3 增透保护膜的界面及结合特性第126-133页
        6.2.4 球罩型大面积均匀性的实现第133-135页
    6.3 增透保护膜的热辐射特性第135-138页
        6.3.1 氧化钇/硫化锌辐射特性第136-137页
        6.3.2 氧化钇/蓝宝石辐射特性第137-138页
    6.4 本章小结第138-139页
结论第139-141页
参考文献第141-153页
攻读博士学位期间发表的论文及其它成果第153-157页
致谢第157-158页
个人简历第158页

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