相移法三维成像精度研究
摘要 | 第4-5页 |
ABSTRACT | 第5-6页 |
第1章 绪论 | 第9-16页 |
1.1 课题背景及研究的目的和意义 | 第9页 |
1.2 国内外研究现状 | 第9-15页 |
1.2.1 国外研究现状 | 第10-12页 |
1.2.2 国内研究现状 | 第12-14页 |
1.2.3 国内外研究现状综述 | 第14-15页 |
1.3 本文的主要研究内容 | 第15-16页 |
第2章 相移法三维成像理论 | 第16-29页 |
2.1 基于MEMS振镜的相移法三维成像测量原理 | 第16-20页 |
2.1.1 MEMS扫描投影原理 | 第17页 |
2.1.2 相移法原理 | 第17-19页 |
2.1.3 相位展开原理 | 第19-20页 |
2.2 三维成像精度研究方案 | 第20-21页 |
2.3 三维成像系统数学模型 | 第21-25页 |
2.3.1 摄像机成像原理 | 第22-23页 |
2.3.2 数学模型 | 第23-25页 |
2.4 误差和精度分析 | 第25-28页 |
2.4.1 误差的概念 | 第25页 |
2.4.2 误差的分类 | 第25-26页 |
2.4.3 精度 | 第26-27页 |
2.4.4 影响相移法三维成像测量精度的因素 | 第27-28页 |
2.5 本章小结 | 第28-29页 |
第3章 影响三维成像精度因素的仿真研究 | 第29-49页 |
3.1 相移法三维成像仿真研究 | 第29-44页 |
3.1.1 光强均匀性对成像精度的影响 | 第32-35页 |
3.1.2 工装调试偏角对成像精度的影响 | 第35-36页 |
3.1.3 实验噪声对成像精度的影响 | 第36-37页 |
3.1.4 线宽对成像精度的影响 | 第37-38页 |
3.1.5 激光束高斯调制对成像精度的影响 | 第38-39页 |
3.1.6 图像饱和度对成像精度的影响 | 第39-41页 |
3.1.7 光强传递性对成像精度的影响 | 第41-44页 |
3.2 半导体光源分析 | 第44-48页 |
3.2.1 基模高斯光束定义 | 第44-45页 |
3.2.2 激光光场分布 | 第45-46页 |
3.2.3 激光光斑的采集 | 第46页 |
3.2.4 激光光斑的分析 | 第46页 |
3.2.5 激光光斑图像处理和分析 | 第46-48页 |
3.3 本章小结 | 第48-49页 |
第4章 三维成像实验验证 | 第49-60页 |
4.1 三维成像实验系统搭建 | 第49-52页 |
4.1.1 实验系统设备选择 | 第50-51页 |
4.1.2 实验系统信号设计 | 第51-52页 |
4.2 三维成像实验 | 第52-57页 |
4.3 实验结果分析 | 第57-58页 |
4.4 本章小结 | 第58-60页 |
结论 | 第60-61页 |
参考文献 | 第61-65页 |
攻读硕士学位期间发表的论文及其它成果 | 第65-67页 |
致谢 | 第67页 |