摘要 | 第4-5页 |
Abstract | 第5-6页 |
第一章 绪论 | 第11-23页 |
1.1 选题的目的与意义 | 第11页 |
1.2 储热容器防腐的国内外研究现状 | 第11-13页 |
1.2.1 铝合金储热材料对铁基容器材料的侵蚀 | 第12页 |
1.2.2 铁基材料抗高温熔融铝合金液腐蚀措施 | 第12-13页 |
1.3 热浸镀铝技术及其研究现状 | 第13-17页 |
1.3.1 热浸镀铝工艺概述 | 第13-14页 |
1.3.2 热浸镀铝镀层结构及形成机理 | 第14-15页 |
1.3.3 热浸镀铝层的影响因素 | 第15-17页 |
1.4 铝合金微弧氧化 | 第17-21页 |
1.4.1 微弧氧化技术及其发展历程 | 第17-18页 |
1.4.2 微弧氧化机理研究 | 第18-19页 |
1.4.3 微弧氧化膜生长过程研究 | 第19页 |
1.4.4 微弧氧化膜的特性研究 | 第19-20页 |
1.4.5 微弧氧化处理工艺参数的研究 | 第20-21页 |
1.4.6 电解液添加剂的作用 | 第21页 |
1.5 不锈钢表面热浸镀铝后微弧氧化处理 | 第21-22页 |
1.6 不锈钢微弧氧化的研究现状分析 | 第22页 |
1.7 本论文的主要研究内容 | 第22-23页 |
第二章 试验材料及方法 | 第23-30页 |
2.1 试验设备 | 第23-25页 |
2.1.1 热浸镀铝试验设备 | 第23页 |
2.1.2 微弧氧化设备 | 第23-24页 |
2.1.3 其它设备 | 第24-25页 |
2.2 热轧304不锈钢表面热浸镀铝试验 | 第25-26页 |
2.2.1 基材及前处理 | 第25页 |
2.2.2 不锈钢表面热浸镀铝参数优选 | 第25-26页 |
2.3 微弧氧化试验 | 第26-30页 |
2.3.1 实验基材及前处理 | 第26页 |
2.3.2 电解液配制 | 第26-27页 |
2.3.3 微弧氧化工艺优化方案 | 第27页 |
2.3.4 不锈钢热浸镀铝层的微弧氧化试验 | 第27页 |
2.3.5 后处理 | 第27页 |
2.3.6 微弧氧化试样的观察与分析 | 第27-30页 |
第三章 304不锈钢热浸镀铝工艺优化 | 第30-38页 |
3.1 引言 | 第30页 |
3.2 助镀剂种类的影响 | 第30-32页 |
3.2.1 助镀剂对热浸镀铝层截面微观形貌的影响 | 第30-31页 |
3.2.2 助镀剂对热浸镀铝镀层厚度的影响 | 第31-32页 |
3.3 时间对热浸镀铝层的影响 | 第32-33页 |
3.3.1 时间对热浸镀铝层横截面微观形貌的影响 | 第32-33页 |
3.3.2 不同浸镀时间对热浸镀铝层厚度的影响 | 第33页 |
3.4 镀液温度的影响 | 第33-35页 |
3.4.1 镀液温度对试样横截面微观形貌的影响 | 第34页 |
3.4.2 镀液温度对热浸镀铝层厚度的影响 | 第34-35页 |
3.5 最佳工艺参数下试样的表面微观形貌 | 第35-37页 |
3.6 本章小结 | 第37-38页 |
第四章 304不锈钢热浸镀铝层微弧氧化陶瓷膜制备及性能 | 第38-60页 |
4.1 引言 | 第38页 |
4.2 电流密度的影响 | 第38-43页 |
4.2.1 电流密度对微弧氧化陶瓷膜宏观形貌的影响 | 第39页 |
4.2.2 电流密度对微弧氧化陶瓷膜表面微观形貌的影响 | 第39-40页 |
4.2.3 电流密度对微弧氧化电压与时间关系曲线的影响 | 第40-41页 |
4.2.4 电流密度对微弧氧化陶瓷膜厚度和表面粗糙度的影响 | 第41-43页 |
4.3 氧化时间的影响 | 第43-48页 |
4.3.1 氧化时间对微弧氧化陶瓷膜宏观形貌的影响 | 第43-44页 |
4.3.2 氧化时间对微弧氧化陶瓷膜表面微观形貌的影响 | 第44-45页 |
4.3.3 氧化时间对微弧氧化电压与时间关系曲线的影响 | 第45-46页 |
4.3.4 氧化时间对微弧氧化陶瓷膜厚度和表面粗糙度的影响 | 第46-48页 |
4.4 脉冲频率的影响 | 第48-51页 |
4.4.1 脉冲频率对微弧氧化陶瓷膜宏观形貌的影响 | 第48页 |
4.4.2 脉冲频率对微弧氧化陶瓷膜表面微观形貌的影响 | 第48-49页 |
4.4.3 脉冲频率对微弧氧化电压与时间关系曲线的影响 | 第49-50页 |
4.4.4 脉冲频率对微弧氧化陶瓷膜厚度和表面粗糙度的影响 | 第50-51页 |
4.5 占空比的影响 | 第51-55页 |
4.5.1 占空比对微弧氧化陶瓷膜宏观形貌的影响 | 第51-52页 |
4.5.2 占空比对微弧氧化陶瓷膜表面微观形貌的影响 | 第52-53页 |
4.5.3 占空比对微弧氧化电压与时间关系曲线的影响 | 第53-54页 |
4.5.4 占空比对微弧氧化陶瓷膜厚度和表面粗糙度的影响 | 第54-55页 |
4.6 最优工艺参数 | 第55-56页 |
4.7 电解液成分对微弧氧化陶瓷膜的影响 | 第56-58页 |
4.7.1 KF对微弧氧化陶瓷膜表面形貌的影响 | 第56-57页 |
4.7.2 KF对微弧氧化电压与时间关系曲线的影响 | 第57-58页 |
4.7.3 KF对各参数下微弧氧化陶瓷膜厚度和表面粗糙度的影响 | 第58页 |
4.8 本章小结 | 第58-60页 |
第五章 微弧氧化陶瓷膜层的性能分析 | 第60-66页 |
5.1 微弧氧化陶瓷膜层宏观形貌 | 第60页 |
5.2 微弧氧化陶瓷膜层微观形貌 | 第60-62页 |
5.2.1 微弧氧化陶瓷层的表面形貌 | 第60-61页 |
5.2.2 微弧氧化陶瓷层的截面形貌 | 第61-62页 |
5.3 微弧氧化陶瓷膜层物相分析 | 第62-63页 |
5.4 微弧氧化陶瓷膜层显微硬度分析 | 第63页 |
5.5 微弧氧化陶瓷膜层耐铝液腐蚀分析 | 第63-65页 |
5.6 本章小结 | 第65-66页 |
结论 | 第66-68页 |
参考文献 | 第68-74页 |
攻读硕士学位期间取得的学术成果 | 第74-75页 |
致谢 | 第75页 |