| 摘要 | 第3-5页 |
| Abstract | 第5-6页 |
| 第一章 引言 | 第13-27页 |
| 1.1 超导的发展与应用 | 第13-18页 |
| 1.1.1 超导的发展 | 第13-17页 |
| 1.1.2 超导的应用 | 第17-18页 |
| 1.2 铜氧化物发展现状 | 第18-25页 |
| 1.2.1 空穴型铜氧化物 | 第19-22页 |
| 1.2.2 电子型铜氧化物 | 第22-25页 |
| 1.3 本文主要结构 | 第25-27页 |
| 第二章 La_(2-x)Ce_xCuO_(4±δ)薄膜制备与表征 | 第27-43页 |
| 2.1 薄膜制备技术及原理 | 第28-34页 |
| 2.1.1 靶材制备 | 第28-29页 |
| 2.1.2 脉冲激光沉积(PLD)技术及原理 | 第29-32页 |
| 2.1.3 激光分子束外延(Laser-MBE)技术及原理 | 第32-34页 |
| 2.2 薄膜表征技术及原理 | 第34-39页 |
| 2.2.1 薄膜结构表征 | 第35-36页 |
| 2.2.2 薄膜形貌,厚度和成分表征 | 第36-38页 |
| 2.2.3 薄膜基本物性表征 | 第38-39页 |
| 2.3 La_(2-x)Ce_xCuO_(4±δ)薄膜退火过程分析 | 第39-43页 |
| 第三章 电子型铜氧化物La_(2-x)Ce_xCuO_(4±δ)面内磁电阻输运特性研究 | 第43-59页 |
| 3.1 实验背景 | 第43-45页 |
| 3.2 实验测量 | 第45-49页 |
| 3.2.1 样品制备 | 第45-47页 |
| 3.2.2 样品刻蚀 | 第47-48页 |
| 3.2.3 样品测量 | 第48-49页 |
| 3.3 实验结果 | 第49-52页 |
| 3.4 分析与讨论 | 第52-56页 |
| 3.4.1 面内负磁电阻的起源 | 第52-54页 |
| 3.4.2 面内线性磁电阻的起源 | 第54-56页 |
| 3.5 本章小结 | 第56-59页 |
| 第四章 电子型铜氧化物La_(2-x)Ce_xCuO_(4±δ)高维相图 | 第59-77页 |
| 4.1 实验背景 | 第59-60页 |
| 4.2 实验测量 | 第60-63页 |
| 4.2.1 样品制备与刻蚀 | 第60页 |
| 4.2.2 样品测量 | 第60-63页 |
| 4.3 实验结果 | 第63-68页 |
| 4.4 分析与讨论 | 第68-75页 |
| 4.4.1 自旋密度波与超导电性 | 第68-70页 |
| 4.4.2 La_(2-x)Ce_xCuO_(4±δ)高维相图 | 第70-73页 |
| 4.4.3 La_(2-x)Ce_xCuO_(4±δ)中的导电纳米条纹网格 | 第73-75页 |
| 4.5 本章小结 | 第75-77页 |
| 第五章 电子型铜氧化物La_(2-x)Ce_xCuO_(4±δ)组合薄膜制备及输运特性研究 | 第77-91页 |
| 5.1 实验背景 | 第77-80页 |
| 5.2 La_(2-x)Ce_xCuO_(4±δ)组合薄膜制备 | 第80-84页 |
| 5.2.1 组合薄膜生长过程 | 第80-81页 |
| 5.2.2 组合薄膜生长的主要控制因素 | 第81-84页 |
| 5.3 实验结果 | 第84-86页 |
| 5.4 组合薄膜生长过程模拟 | 第86-89页 |
| 5.5 本章小结 | 第89-91页 |
| 第六章 总结与展望 | 第91-93页 |
| 附录A 导电的纳米条纹(conducting nano-filament,CNF)网格模型的研究 | 第93-109页 |
| A.1 自旋轨道极化子 | 第93-94页 |
| A.2 自旋轨道极化子的能带结构 | 第94-97页 |
| A.2.1 两个铜原子的自旋轨道极化子 | 第95-97页 |
| A.2.2 三个铜原子的自旋轨道极化子 | 第97页 |
| A.3 导电纳米条纹的性质 | 第97-102页 |
| A.4 导电纳米条纹与反铁磁序 | 第102-104页 |
| A.5 导电纳米条纹与超导电性 | 第104-105页 |
| A.6 导电纳米条纹结构中的电输运特性 | 第105-109页 |
| 参考文献 | 第109-131页 |
| 个人简历 | 第131-133页 |
| 发表文章目录 | 第133-135页 |
| 致谢 | 第135-136页 |
