基于纳米压印技术的亚波长抗反射结构的工艺研究
| 摘要 | 第1-7页 |
| ABSTRACT | 第7-11页 |
| 第一章 绪论 | 第11-22页 |
| ·亚波长结构 | 第11-15页 |
| ·亚波长结构的研究方法 | 第12-13页 |
| ·亚波长结构的制造方法 | 第13-14页 |
| ·亚波长抗反射结构的应用 | 第14-15页 |
| ·纳米压印技术 | 第15-20页 |
| ·紫外纳米压印的工艺过程 | 第16-17页 |
| ·图形转移及聚合物流变 | 第17-18页 |
| ·刻蚀技术 | 第18-20页 |
| ·本文研究内容及总体结构 | 第20-22页 |
| ·本文研究内容 | 第20页 |
| ·本文总体结构 | 第20-22页 |
| 第二章 亚波长抗反射结构的设计 | 第22-40页 |
| ·严格耦合波方法与等效媒质理论 | 第22-31页 |
| ·严格耦合波分析法 | 第22-25页 |
| ·等效媒质理论 | 第25-31页 |
| ·单双台阶抗反射结构的设计 | 第31-33页 |
| ·单台阶抗反射结构的设计 | 第32页 |
| ·多台阶抗反射结构的设计 | 第32-33页 |
| ·亚波长结构的软件模拟 | 第33-39页 |
| ·等效媒质理论的有效性分析 | 第33-35页 |
| ·亚波长浮雕结构的仿真 | 第35-37页 |
| ·亚波长浮雕结构的优化设计 | 第37-39页 |
| ·小结 | 第39-40页 |
| 第三章 纳米压印工艺的有限元分析 | 第40-62页 |
| ·聚合物流变理论 | 第40-45页 |
| ·聚合物流动控制方程及边界条件 | 第41-42页 |
| ·SUPG 计算方法 | 第42-44页 |
| ·液体表面张力 | 第44-45页 |
| ·纳米压印过程中聚合物填充机理的研究 | 第45-53页 |
| ·聚合物填充物理模型 | 第45-46页 |
| ·聚合物流变行为的仿真结果与分析 | 第46-51页 |
| ·实验设计与验证 | 第51-53页 |
| ·纳米压印过程中聚合物填充均匀性研究 | 第53-61页 |
| ·聚合物填充均匀性物理模型建立 | 第54-55页 |
| ·仿真结果与分析 | 第55-59页 |
| ·实验设计 | 第59-61页 |
| ·结论 | 第61-62页 |
| 第四章 亚波长抗反射结构的制备 | 第62-79页 |
| ·模板的选择及工艺流程 | 第62-66页 |
| ·模板的选择 | 第62-63页 |
| ·基于纳米压印的工艺流程 | 第63-66页 |
| ·单双台阶结构制备的工艺 | 第66-76页 |
| ·基片表面处理 | 第66页 |
| ·涂胶 | 第66-68页 |
| ·压印曝光 | 第68-69页 |
| ·反应离子刻蚀 | 第69-72页 |
| ·制备实例 | 第72-76页 |
| ·台阶结构的抗反射性能测量与对比 | 第76-78页 |
| ·结论 | 第78-79页 |
| 第五章 结论与展望 | 第79-81页 |
| ·本文主要结论 | 第79-80页 |
| ·进一步的工作 | 第80-81页 |
| 参考文献 | 第81-86页 |
| 致谢 | 第86-87页 |
| 攻读硕士学位期间已发表或录用的论文 | 第87页 |
