| 摘要 | 第6-7页 |
| ABSTRACT | 第7-8页 |
| 第一章 绪论 | 第11-23页 |
| 1.1 多孔硅概述 | 第12-17页 |
| 1.1.1 多孔硅形成机理 | 第13-15页 |
| 1.1.2 多孔硅制备方法 | 第15-16页 |
| 1.1.3 多孔硅应用现状 | 第16-17页 |
| 1.2 金字塔结构概述 | 第17-20页 |
| 1.2.1 金字塔结构形成机理 | 第18页 |
| 1.2.2 金字塔结构制备方法 | 第18-20页 |
| 1.2.3 金字塔结构应用现状 | 第20页 |
| 1.3 论文立题意义、研究内容及创新点 | 第20-23页 |
| 1.3.1 论文立题意义、研究内容 | 第20-22页 |
| 1.3.2 创新点 | 第22-23页 |
| 第二章 实验方案及材料 | 第23-29页 |
| 2.1 实验总体研究方案 | 第23-24页 |
| 2.2 具体实施方案 | 第24页 |
| 2.2.1 多孔硅的制备研究 | 第24页 |
| 2.2.2 金字塔结构的制备研究 | 第24页 |
| 2.3 实验试剂、设备及检测仪器 | 第24-26页 |
| 2.3.1 实验试剂 | 第24-25页 |
| 2.3.2 实验设备 | 第25页 |
| 2.3.3 检测仪器 | 第25-26页 |
| 2.4 样品形貌结构表征 | 第26-29页 |
| 第三章 金属铜辅助刻蚀制备对多孔硅纳米结构及性能的影响 | 第29-45页 |
| 3.1 序言 | 第29页 |
| 3.2 铜纳米颗粒辅助刻蚀机理 | 第29-31页 |
| 3.2.1 “两步法” | 第29-30页 |
| 3.2.2 铜纳米颗粒的沉积和催化机理 | 第30-31页 |
| 3.3 铜纳米颗粒辅助刻蚀制备多孔硅不同影响因素及形貌表征 | 第31-41页 |
| 3.3.1 铜沉积时间对硅纳米多孔结构的影响 | 第31-34页 |
| 3.3.2 刻蚀温度对硅纳米多孔结构的影响 | 第34-36页 |
| 3.3.3 氧化剂浓度对硅纳米多孔结构的影响 | 第36-39页 |
| 3.3.4 硅片掺杂浓度对硅纳米多孔结构的影响 | 第39-41页 |
| 3.4 铜纳米颗粒辅助刻蚀制备多孔硅结构机理和演变过程 | 第41-43页 |
| 3.5 本章小结 | 第43-45页 |
| 第四章 金属铜辅助刻蚀制备对金字塔结构及性能的影响 | 第45-63页 |
| 4.1 序言 | 第45页 |
| 4.2 铜纳米颗粒辅助刻蚀制备金字塔结构不同影响因素及形貌表征 | 第45-56页 |
| 4.2.1 铜沉积时间对金字塔结构的影响 | 第46-48页 |
| 4.2.2 刻蚀温度对硅金字塔结构的影响 | 第48-50页 |
| 4.2.3 氧化剂浓度对金字塔结构的影响 | 第50-53页 |
| 4.2.4 刻蚀时间对金字塔结构的影响 | 第53-56页 |
| 4.3 金字塔-纳米线二元复合结构 | 第56-58页 |
| 4.4 样品表征 | 第58-61页 |
| 4.4.1 形貌表征 | 第58-59页 |
| 4.4.2 减反射表征 | 第59-61页 |
| 4.5 铜纳米颗粒辅助制备金字塔结构机理 | 第61-62页 |
| 4.6 本章小结 | 第62-63页 |
| 第五章 结论与展望 | 第63-65页 |
| 5.1 结论 | 第63页 |
| 5.2 展望 | 第63-65页 |
| 致谢 | 第65-67页 |
| 参考文献 | 第67-73页 |
| 附录 | 第73页 |
