| 摘要 | 第1-4页 |
| ABSTRACT | 第4-6页 |
| 目录 | 第6-9页 |
| 第一章 绪论 | 第9-21页 |
| ·引言 | 第9-10页 |
| ·半导体光催化原理 | 第10-11页 |
| ·光催化剂的发展现状及趋势 | 第11-17页 |
| ·TiO_2的改性 | 第12-16页 |
| ·金属离子掺杂 | 第12-13页 |
| ·非金属离子掺杂 | 第13-14页 |
| ·表面贵金属沉积 | 第14-15页 |
| ·半导体复合 | 第15页 |
| ·光敏化半导体 | 第15-16页 |
| ·新型窄带隙可见光半导体光催化剂 | 第16-17页 |
| ·钒基光催化剂的研究进展 | 第17-19页 |
| ·氧化物类光催化剂 | 第17-18页 |
| ·钒酸盐类光催化剂 | 第18-19页 |
| ·本论文的研究意义与研究内容 | 第19-21页 |
| ·研究意义 | 第19-20页 |
| ·研究内容 | 第20-21页 |
| 第二章 实验部分 | 第21-24页 |
| ·催化剂的制备 | 第21-22页 |
| ·化学试剂 | 第21-22页 |
| ·主要仪器 | 第22页 |
| ·催化剂的制备 | 第22页 |
| ·催化剂表征 | 第22-24页 |
| ·X射线粉末衍射(XRD) | 第22-23页 |
| ·比表面积测定(BET) | 第23页 |
| ·紫外-可见吸收光谱(UV-vis) | 第23页 |
| ·扫描电子显微镜(SEM-EDX) | 第23页 |
| ·X光电子能谱(XPS) | 第23-24页 |
| 第三章 V_2O_5/CeF_3光催化降解丙酮性能研究 | 第24-36页 |
| ·引言 | 第24-25页 |
| ·实验部分 | 第25-26页 |
| ·催化剂的制备 | 第25页 |
| ·实验装置 | 第25-26页 |
| ·催化剂光催性能评价 | 第26页 |
| ·结果与讨论 | 第26-30页 |
| ·催化剂光催化性能评价 | 第26-28页 |
| ·焙烧温度对光催化性能的影响 | 第26-27页 |
| ·V_2O_5负载量对光催化性能的影响 | 第27-28页 |
| ·反应气流速对光催化性能的影响 | 第28页 |
| ·光催化剂的活性稳定性评价 | 第28-29页 |
| ·催化剂的热效应及光效应的考察 | 第29-30页 |
| ·催化剂的表征 | 第30-35页 |
| ·光催化剂的XRD表征 | 第30-33页 |
| ·光催化剂的BET表征 | 第33-34页 |
| ·光催化剂的紫外-可见吸收光谱 | 第34-35页 |
| ·本章小结 | 第35-36页 |
| 第四章 Co_3O_4/Ag_3VO_4催化剂的制备及光催化性能研究 | 第36-53页 |
| ·引言 | 第36-37页 |
| ·实验部分 | 第37-38页 |
| ·催化剂的制备 | 第37页 |
| ·Ag_3VO_4、Co_3O_4的制备 | 第37页 |
| ·Co_3O_4/Ag_3VO_4的制备 | 第37页 |
| ·光催化性能测试 | 第37-38页 |
| ·结果与讨论 | 第38-52页 |
| ·催化剂的表征 | 第38-46页 |
| ·XRD表征 | 第38-40页 |
| ·SEM-EDS表征 | 第40-42页 |
| ·XPS表征 | 第42-44页 |
| ·UV-vis表征 | 第44-46页 |
| ·Co_3O_4/Ag_3VO_4光催化活性评价 | 第46-52页 |
| ·Co_3O_4的掺杂量对光催化活性的影响 | 第46-49页 |
| ·焙烧温度对光催化活性的影响 | 第49-52页 |
| ·本章小结 | 第52-53页 |
| 参考文献 | 第53-60页 |
| 攻读学位期间取得的研究成果 | 第60-61页 |
| 致谢 | 第61-62页 |