| 摘要 | 第3-5页 |
| Abstract | 第5-7页 |
| 第一章 绪论 | 第10-22页 |
| 1.1 光催化氧化技术 | 第10-15页 |
| 1.1.1 光催化技术简介 | 第10-11页 |
| 1.1.2 光催化剂的研究进展及发展现状 | 第11-15页 |
| 1.2 高通量筛选技术 | 第15-17页 |
| 1.2.1 高通量筛选技术的起源及研究进展 | 第15-16页 |
| 1.2.2 高通量筛选常用检测技术 | 第16-17页 |
| 1.3 本研究课题的主要内容 | 第17-22页 |
| 1.3.1 论文选题的理由和意义 | 第17-18页 |
| 1.3.2 国内外关于该课题的研究现状及趋势 | 第18-19页 |
| 1.3.3 拟采取的技术路线、实验方案及可行性分析 | 第19-22页 |
| 第二章 反应芯片的制备 | 第22-36页 |
| 2.1 实验材料及实验器材 | 第22-23页 |
| 2.2 反应芯片的制备 | 第23-28页 |
| 2.2.1 反应芯片基底选择及预处理 | 第23-24页 |
| 2.2.2 反应芯片制备原理及流程 | 第24-26页 |
| 2.2.3 反应芯片的表征 | 第26-28页 |
| 2.3 反应芯片表面TiO_2光催化剂的负载 | 第28-29页 |
| 2.3.1 TiO_2的制备及乳浊液的配制 | 第28页 |
| 2.3.2 喷雾法负载TiO_2 | 第28-29页 |
| 2.4 金属催化剂库的建立及打印 | 第29-34页 |
| 2.4.1 金属盐溶液的选择 | 第30页 |
| 2.4.2 打印“墨水”的配制与调节 | 第30-31页 |
| 2.4.3 催化剂库花纹的设计 | 第31-32页 |
| 2.4.4 催化剂库金属离子的打印 | 第32-33页 |
| 2.4.5 打印后催化剂芯片的后处理 | 第33-34页 |
| 2.5 本章小结 | 第34-36页 |
| 第三章 催化剂反应芯片降解曙红实验 | 第36-40页 |
| 3.1 曙红溶液的配制 | 第36页 |
| 3.2 二维密闭(2-D)反应器的搭建和运行 | 第36-38页 |
| 3.3 高通量检测体系的建立 | 第38页 |
| 3.4 本章小结 | 第38-40页 |
| 第四章 高通量筛选金属修饰TiO_2光催化剂实验结果讨论 | 第40-56页 |
| 4.1 不同反应时间的荧光变化图 | 第40-42页 |
| 4.2 反应区域活性催化剂单元的筛选 | 第42-50页 |
| 4.2.1 筛选出的活性反应单元位置分布 | 第42-43页 |
| 4.2.2 筛选出的活性反应单元催化剂组成分析 | 第43-44页 |
| 4.2.3 不同活性反应单元的光密度变化 | 第44-48页 |
| 4.2.4 筛选出的多金属修饰TiO_2降解曙红的光催化剂性能探讨研究 | 第48-50页 |
| 4.3 本实验所用分析及表征方法 | 第50-53页 |
| 4.3.1 反应芯片的分析表征 | 第50页 |
| 4.3.2 图片及数据分析处理方法 | 第50-51页 |
| 4.3.3 金属催化剂库设计花纹的分析 | 第51-52页 |
| 4.3.4 筛选活性单元催化剂的物相及组成分析 | 第52-53页 |
| 4.4 本章小结 | 第53-56页 |
| 第五章 结论与展望 | 第56-58页 |
| 5.1 结论 | 第56-57页 |
| 5.2 展望 | 第57-58页 |
| 参考文献 | 第58-64页 |
| 附录 | 第64-102页 |
| 附表1 | 第64-99页 |
| 附表2 | 第99-102页 |
| 致谢 | 第102-104页 |
| 攻读硕士学位期间研究成果 | 第104页 |
