相变材料碲化锑二维薄片的可控制备与表征
摘要 | 第1-7页 |
Abstract | 第7-11页 |
第一章 绪论 | 第11-33页 |
·引言 | 第11-16页 |
·相变材料的信息存储应用 | 第16-20页 |
·基于全光学操作的相变信息存储 | 第17-18页 |
·非易失相变随机存储器 | 第18-20页 |
·低维和二维相变材料研究现状 | 第20-27页 |
·薄膜相变材料的研究 | 第20-24页 |
·一维纳米线相变材料的研究 | 第24-27页 |
·本文研究内容及实验结果 | 第27-29页 |
参考文献 | 第29-33页 |
第二章 Sb_2Te_3二维薄片的制备与表征 | 第33-51页 |
·引言 | 第33-34页 |
·实验过程 | 第34-39页 |
·Sb_2Te_3二维薄片制备 | 第34-37页 |
·Sb_2Te_3二维薄片生长机制讨论 | 第37-39页 |
·Sb_2Te_3二维薄片的厚度统计分布 | 第39-42页 |
·Sb_2Te_3二维薄片的结构及成分表征 | 第42-48页 |
·表征仪器 | 第42-43页 |
·成分表征 | 第43-44页 |
·TEM结构表征 | 第44页 |
·拉曼表征 | 第44-48页 |
·本章小结 | 第48-49页 |
参考文献 | 第49-51页 |
第三章 Sb_2Te_3二维薄片的转移及相变表征 | 第51-67页 |
·引言 | 第51-52页 |
·Sb_2Te_3二维薄片的转移及电极制备 | 第52-55页 |
·Sb_2Te_3二维薄片的相变表征 | 第55-63页 |
·本章小结 | 第63-64页 |
参考文献 | 第64-67页 |
第四章 展望 | 第67-75页 |
·相变存储中新颖设计 | 第68-69页 |
·相变应用的未来趋势 | 第69-73页 |
参考文献 | 第73-75页 |
致谢 | 第75-77页 |
准备发表的文章目录 | 第77页 |