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相变材料碲化锑二维薄片的可控制备与表征

摘要第1-7页
Abstract第7-11页
第一章 绪论第11-33页
   ·引言第11-16页
   ·相变材料的信息存储应用第16-20页
     ·基于全光学操作的相变信息存储第17-18页
     ·非易失相变随机存储器第18-20页
   ·低维和二维相变材料研究现状第20-27页
     ·薄膜相变材料的研究第20-24页
     ·一维纳米线相变材料的研究第24-27页
   ·本文研究内容及实验结果第27-29页
 参考文献第29-33页
第二章 Sb_2Te_3二维薄片的制备与表征第33-51页
   ·引言第33-34页
   ·实验过程第34-39页
     ·Sb_2Te_3二维薄片制备第34-37页
     ·Sb_2Te_3二维薄片生长机制讨论第37-39页
   ·Sb_2Te_3二维薄片的厚度统计分布第39-42页
   ·Sb_2Te_3二维薄片的结构及成分表征第42-48页
     ·表征仪器第42-43页
     ·成分表征第43-44页
     ·TEM结构表征第44页
     ·拉曼表征第44-48页
   ·本章小结第48-49页
 参考文献第49-51页
第三章 Sb_2Te_3二维薄片的转移及相变表征第51-67页
   ·引言第51-52页
   ·Sb_2Te_3二维薄片的转移及电极制备第52-55页
   ·Sb_2Te_3二维薄片的相变表征第55-63页
   ·本章小结第63-64页
 参考文献第64-67页
第四章 展望第67-75页
   ·相变存储中新颖设计第68-69页
   ·相变应用的未来趋势第69-73页
 参考文献第73-75页
致谢第75-77页
准备发表的文章目录第77页

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