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磁控溅射制备改性TiO2薄膜及其光催化还原性能的研究

摘要第1-6页
Abstract第6-9页
第一章 绪论第9-22页
   ·研究背景第9页
   ·TiO_2光催化第9-12页
   ·TiO_2薄膜的制备方法第12-15页
   ·国内外研究现状第15-20页
   ·选题意义与研究内容第20-22页
第二章 试验材料与方法第22-29页
   ·薄膜的制备第22-24页
   ·薄膜的热处理第24页
   ·薄膜的表征方法第24-29页
第三章 TiON薄膜的制备及其可见光催化还原性能的研究第29-48页
   ·氮分压第29-37页
   ·衬底温度第37-42页
   ·溅射气压第42-46页
   ·本章小结第46-48页
第四章 Fe修饰TiON薄膜的制备及其可见光催化还原性能的研究第48-58页
   ·Fe含量第48-53页
   ·衬底温度第53-56页
   ·本章小结第56-58页
第五章 Pd修饰TiON薄膜的制备及其可见光催化还原性能的研究第58-69页
   ·Pd含量第58-64页
   ·衬底温度第64-68页
   ·本章小结第68-69页
第六章 讨论第69-71页
   ·薄膜的结构、形貌第69页
   ·薄膜的性能第69-70页
   ·展望第70-71页
第七章 结论第71-72页
参考文献第72-76页
致谢第76页

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