| 摘要 | 第1-6页 |
| ABSTRACT | 第6-10页 |
| 第1章 绪论 | 第10-32页 |
| ·引言 | 第10-11页 |
| ·半导体光催化的发展 | 第11-13页 |
| ·半导体光催化的发展历程 | 第11-12页 |
| ·新型半导体光催化材料的探索 | 第12-13页 |
| ·C_3N_4光催化的研究现状 | 第13-21页 |
| ·C_3N_4的制备方法与单元结构 | 第14-16页 |
| ·C_3N_4的光催化活性提升方法 | 第16-18页 |
| ·C_3N_4的光催化性能提升方法的应用展望 | 第18-21页 |
| ·本论文选题的意义 | 第21-22页 |
| ·本论文的主要内容 | 第22页 |
| 参考文献 | 第22-32页 |
| 第2章 C_3N_4制备方法的优化 | 第32-48页 |
| ·引言 | 第32-33页 |
| ·实验部分 | 第33-35页 |
| ·试剂与仪器设备 | 第33页 |
| ·实验方法 | 第33-35页 |
| ·C_3N_4的不同制备条件 | 第33-34页 |
| ·C_3N_4的光催化活性测试 | 第34页 |
| ·C_3N_4制备条件的敏感性分析 | 第34-35页 |
| ·C_3N_4的物化性质表征 | 第35页 |
| ·结果与讨论 | 第35-44页 |
| ·制备条件对C_3N_4光催化活性的影响 | 第35-37页 |
| ·制备条件对C_3N_4物化性质的影响 | 第37-43页 |
| ·C_3N_4的晶体结构 | 第37-38页 |
| ·C_3N_4的表面形貌 | 第38-39页 |
| ·C_3N_4的光学性质 | 第39-41页 |
| ·C_3N_4的化学结构 | 第41-43页 |
| ·C_3N_4的纹理性质 | 第43页 |
| ·制备条件改变C_3N_4光催化活性的机理探讨 | 第43-44页 |
| ·材料的比表面积对光催化活性的影响 | 第44页 |
| ·电子-空穴的迁移/复合对光催化活性的影响 | 第44页 |
| ·本章小结 | 第44-45页 |
| 参考文献 | 第45-48页 |
| 第3章 C_3N_4协同Fe(Ⅲ)/Persulfate光催化降解苯酚 | 第48-64页 |
| ·引言 | 第48页 |
| ·实验部分 | 第48-51页 |
| ·试剂与仪器设备 | 第48-49页 |
| ·实验方法 | 第49-51页 |
| ·苯酚及其降解中间产物的分析方法 | 第49-50页 |
| ·不同催化系统下的光催化活性测试 | 第50页 |
| ·不同反应环境下的光催化活性测试 | 第50-51页 |
| ·体系内活性物种的检测 | 第51页 |
| ·结果与讨论 | 第51-60页 |
| ·不同催化系统对光催化降解苯酚的影响 | 第51-54页 |
| ·不同反应环境对光催化降解苯酚的影响 | 第54-55页 |
| ·C_3N_4协同Fe(Ⅲ)/Persulfate光催化降解苯酚的机理分析 | 第55-60页 |
| ·体系内活性自由基的作用机理分析 | 第55-57页 |
| ·体系内光Fenton反应的作用机理分析 | 第57-59页 |
| ·体系光催化降解苯酚的总机理分析 | 第59-60页 |
| ·本章小结 | 第60-61页 |
| 参考文献 | 第61-64页 |
| 第4章 结论 | 第64-66页 |
| 致谢 | 第66-68页 |
| 在读期间发表的学术论文与取得的其他研究成果 | 第68页 |