乙硅烷的合成工艺研究
| 摘要 | 第1-6页 |
| Abstract | 第6-7页 |
| 第一章 综述 | 第7-25页 |
| ·乙硅烷的概况 | 第7-12页 |
| ·乙硅烷的分子结构 | 第7页 |
| ·乙硅烷的物化性质 | 第7-9页 |
| ·乙硅烷的用途及应用前景 | 第9-10页 |
| ·乙硅烷的生产及研究现状 | 第10页 |
| ·乙硅烷的危害及储存和使用时注意事项 | 第10-12页 |
| ·乙硅烷的制取方法 | 第12-15页 |
| ·卤代乙硅烷还原法 | 第12页 |
| ·以硅烷为初始原料制备乙硅烷 | 第12-13页 |
| ·硅化镁与氯化铵反应 | 第13-14页 |
| ·硅化镁与无机酸反应 | 第14-15页 |
| ·硅与氢直接合成 | 第15页 |
| ·乙硅烷的纯化方法 | 第15-18页 |
| ·低温精馏法 | 第15-16页 |
| ·恒温恒压汽化法 | 第16-17页 |
| ·吸附法 | 第17-18页 |
| ·乙硅烷的技术指标及检测方法 | 第18-24页 |
| ·乙硅烷的技术指标 | 第18页 |
| ·乙硅烷的检测方法 | 第18-24页 |
| ·本课题的选题背景及研究内容 | 第24-25页 |
| 第二章 实验相关部分 | 第25-36页 |
| ·乙硅烷制取方法的介绍 | 第25页 |
| ·氢化铝锂及氢化铝钠的介绍 | 第25-27页 |
| ·氢化铝锂介绍 | 第25-26页 |
| ·氢化铝钠介绍 | 第26-27页 |
| ·六氯乙硅烷的介绍 | 第27页 |
| ·有机溶剂的无水无氧处理 | 第27-29页 |
| ·惰性气体手套操作箱技术及具体操作 | 第29-31页 |
| ·惰性气体手套操作箱技术 | 第29-30页 |
| ·惰性气体手套操作箱具体操作 | 第30-31页 |
| ·主要仪器设备及试剂 | 第31-32页 |
| ·实验计算 | 第32-36页 |
| ·反应物的用量计算 | 第32-33页 |
| ·反应产物含量的计算 | 第33页 |
| ·反应溶剂四氢呋喃的计算 | 第33-36页 |
| 第三章 实验部分 | 第36-58页 |
| ·实验方案设计 | 第36-43页 |
| ·实验流程设计 | 第36页 |
| ·反应装置设计及具体操作 | 第36-37页 |
| ·反应条件的确定 | 第37-43页 |
| ·乙硅烷的制备及反应产物的确定 | 第43-45页 |
| ·乙硅烷的制备 | 第43-44页 |
| ·反应产物的确定 | 第44-45页 |
| ·对合成气体的杂质分析 | 第45-54页 |
| ·通过GC-MS检测杂质 | 第45-49页 |
| ·通过傅里叶变换红外光谱仪检测杂质 | 第49-52页 |
| ·气相色谱仪分析 | 第52-54页 |
| ·乙硅烷混合气的纯化 | 第54-57页 |
| ·活性炭的干燥处理 | 第54-55页 |
| ·实验装置图 | 第55-57页 |
| ·本章小结 | 第57-58页 |
| 第四章 氦离子化气相色谱仪在线进样系统设计 | 第58-68页 |
| ·该气体在线进样系统设计的背景及目的 | 第58页 |
| ·设计背景 | 第58页 |
| ·设计目的 | 第58页 |
| ·该气体在线进样系统的管路连接图 | 第58-60页 |
| ·该气体在线进样系统的具体操作 | 第60-61页 |
| ·该气体在线进样系统所得实验数据及结论 | 第61-67页 |
| ·标准气体介绍以及谱图处理方法的建立 | 第61-63页 |
| ·不同压力下测得的气体的气相色谱图 | 第63-65页 |
| ·实验数据分析及所得结论 | 第65-67页 |
| ·本章小结 | 第67-68页 |
| 第五章 结论及展望 | 第68-70页 |
| ·所得结论 | 第68页 |
| ·展望 | 第68-70页 |
| 致谢 | 第70-71页 |
| 参考文献 | 第71-73页 |
| 图版 | 第73-76页 |
| 附录 | 第76-77页 |