| 摘要 | 第1-6页 |
| Abstract | 第6-11页 |
| 第一章 绪论 | 第11-16页 |
| ·引言 | 第11页 |
| ·金刚石的结构及性质 | 第11-12页 |
| ·掺硼金刚石结构与特性 | 第12-14页 |
| ·掺硼金刚石的结构 | 第12-13页 |
| ·BDD 电极的特性 | 第13-14页 |
| ·掺硼金刚石膜的应用 | 第14-16页 |
| 第二章 直流电弧等离子体喷射 CVD 法制备 BDD | 第16-23页 |
| ·设备简介 | 第16-19页 |
| ·实验设备 | 第16-18页 |
| ·实验步骤 | 第18-19页 |
| ·直流电弧等离子体喷射 CVD 法生长金刚石膜的原理 | 第19-23页 |
| ·非平衡热力学藕合模型 | 第19-20页 |
| ·化学反应动力学模型 | 第20-23页 |
| 第三章 掺硼金刚石薄膜电极的制备以及表征 | 第23-31页 |
| ·BDD 电极的表征 | 第23-24页 |
| ·扫描电子显微镜 | 第23页 |
| ·激光拉曼光谱 | 第23-24页 |
| ·X 射线衍射分析法 | 第24页 |
| ·四点探针 | 第24页 |
| ·膜厚测量仪 | 第24页 |
| ·三电极系统 | 第24-25页 |
| ·参比电极 | 第24-25页 |
| ·辅助电极 | 第25页 |
| ·工作电极 | 第25页 |
| ·循环伏安法与溶出伏安法 | 第25-26页 |
| ·循环伏安法 | 第25-26页 |
| ·溶出伏安法 | 第26页 |
| ·掺硼金刚石薄膜电极的制备 | 第26-31页 |
| 第四章 掺硼金刚石薄膜电极的电化学检测 | 第31-44页 |
| ·引言 | 第31-32页 |
| ·电分析 | 第31-32页 |
| ·在电合成方面的应用 | 第32页 |
| ·在电分解方面的应用 | 第32页 |
| ·BDD 电极在镉离子中的电化学检测 | 第32-36页 |
| ·实验试剂 | 第33页 |
| ·扫描速率与氧化峰的关系 | 第33-34页 |
| ·不同镉离子浓度在电极下的电化学响应 | 第34-36页 |
| ·重生性和耐腐蚀性 | 第36页 |
| ·干扰试验的测定 | 第36页 |
| ·掺硼金刚石薄膜电极对尿酸的电化学检测 | 第36-41页 |
| ·仪器与试剂 | 第36-37页 |
| ·三种不同修饰电极的制备 | 第37页 |
| ·扫描速率与氧化峰的关系 | 第37-38页 |
| ·四种电极对比 | 第38-39页 |
| ·不同尿酸浓度在修饰电极下的电化学响应 | 第39-40页 |
| ·干扰试验的测定 | 第40-41页 |
| ·BDD 电极电化学检测抗坏血酸 | 第41-43页 |
| ·实验仪器与试剂 | 第41页 |
| ·抗坏血酸酶修饰电极的制备 | 第41页 |
| ·抗坏血酸检测机理 | 第41页 |
| ·缓冲液浓度的影响 | 第41-42页 |
| ·扫描速度的影响 | 第42页 |
| ·PH 值的影响 | 第42-43页 |
| ·线性范围和检测限 | 第43页 |
| ·干扰实验 | 第43页 |
| ·结论 | 第43-44页 |
| 第五章 全文总结 | 第44-45页 |
| 参考文献 | 第45-50页 |
| 发表论文和科研情况说明 | 第50-51页 |
| 致谢 | 第51-52页 |