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硅太阳电池铝背场性能研究与优化

摘要第1-6页
Abstract第6-8页
目录第8-10页
第一章 绪论第10-20页
     ·研究背景第10-12页
     ·太阳电池发展历史第12页
     ·太阳电池分类第12-16页
       ·按照结构分类第12-15页
       ·按照基体材料分类第15页
       ·生产技术成熟度分类第15-16页
     ·本文研究背景第16-18页
     ·本文的研究内容及意义第18-20页
       ·本文的研究内容第18页
       ·本文的研究意义第18-20页
第二章 测试原理及PC1D介绍第20-33页
     ·测试原理第20-25页
       ·Ⅰ-Ⅴ第20-23页
       ·ECV第23-25页
       ·少子寿命测试原理第25页
     ·PC1D模拟简介第25-26页
     ·模拟基本方程第26-27页
       ·电流密度方程第26页
       ·电流连续性方程第26-27页
       ·泊松方程第27页
     ·求解方程变量第27-31页
       ·半导体中的光吸收第27-28页
       ·禁带变窄效应第28-29页
       ·迁移率第29-30页
       ·半导体中的复合过程第30-31页
     ·边界条件第31-33页
第三章 铝背场特性及实验第33-48页
     ·引言第33-35页
     ·铝背场制备和形成过程第35-38页
     ·实验第38-47页
       ·烧结温度实验第38-43页
       ·浆料对比实验第43-47页
     ·本章小结第47-48页
第四章 单晶硅电池铝背场特性的仿真第48-58页
     ·仿真模型方案第48-49页
     ·铝背场掺杂浓度及分布对电池电性能的影响第49-55页
       ·P+层掺杂浓度及深度第49-52页
       ·深度因子(DEPTH FACTOR)第52-55页
     ·铝背场与衬底的综合作用第55-57页
       ·铝背场与衬底少子寿命综合作用第55-56页
       ·铝背场与衬底电阻率综合作用第56-57页
     ·本章小结第57-58页
第五章 结论第58-60页
参考文献第60-65页
致谢第65-66页
硕士期间发表论文第66-67页

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