高能激光诱导薄膜行为变迁特性研究
| 摘要 | 第1-5页 |
| Abstract | 第5-9页 |
| 1 绪论 | 第9-15页 |
| ·研究背景及意义 | 第9-10页 |
| ·国内外研究现状 | 第10-12页 |
| ·主要研究工作 | 第12-13页 |
| ·研究内容 | 第12-13页 |
| ·研究路线 | 第13页 |
| ·小结 | 第13-15页 |
| 2 光学薄膜激光损伤机理 | 第15-26页 |
| ·光学薄膜的激光损伤模型 | 第15-19页 |
| ·本征吸收及热损伤 | 第15-16页 |
| ·缺陷吸收 | 第16-17页 |
| ·热应力损伤 | 第17-18页 |
| ·电子崩离化 | 第18-19页 |
| ·多光子电离 | 第19页 |
| ·影响薄膜LIDT的主要因素 | 第19-23页 |
| ·激光因素 | 第19-21页 |
| ·薄膜因素 | 第21-22页 |
| ·薄膜制备技术与工艺参数 | 第22-23页 |
| ·提高光学薄膜LIDT的方法 | 第23-25页 |
| ·材料选取与工艺优化 | 第23页 |
| ·驻波场及温度场的设计 | 第23-24页 |
| ·激光预处理技术 | 第24-25页 |
| ·退火技术 | 第25页 |
| ·小结 | 第25-26页 |
| 3 薄膜的设计制备与性能表征 | 第26-38页 |
| ·薄膜设计 | 第26-31页 |
| ·单层膜设计 | 第26-28页 |
| ·1064nm高反膜设计 | 第28-31页 |
| ·薄膜制备 | 第31-34页 |
| ·制备工艺 | 第31-32页 |
| ·厚度监控 | 第32-33页 |
| ·单层膜制备 | 第33页 |
| ·多层膜制备 | 第33-34页 |
| ·薄膜的性能表征 | 第34-37页 |
| ·小结 | 第37-38页 |
| 4 激光辐照对单层膜的性能影响 | 第38-52页 |
| ·激光辐照对TiO_2薄膜的性能影响 | 第38-46页 |
| ·对光学参数的影响 | 第41-43页 |
| ·对微观形貌的影响 | 第43-44页 |
| ·对激光防护能力的影响 | 第44-46页 |
| ·激光辐照对SiO_2薄膜的性能影响 | 第46-50页 |
| ·对光学参数的影响 | 第47-49页 |
| ·对微观形貌的影响 | 第49-50页 |
| ·对LIDT的影响 | 第50页 |
| ·小结 | 第50-52页 |
| 5 激光辐照对高反膜的性能影响 | 第52-66页 |
| ·激光辐照对透过率的影响 | 第53-54页 |
| ·激光辐照对表面形貌的影响 | 第54-58页 |
| ·激光辐照对抗激光损伤能力的影响 | 第58-61页 |
| ·激光辐照对损伤斑的影响 | 第58-59页 |
| ·激光辐照对LIDT的影响 | 第59-61页 |
| ·激光辐照对短波通滤光片的性能影响 | 第61-65页 |
| ·小结 | 第65-66页 |
| 6 结论 | 第66-69页 |
| ·结论 | 第66-67页 |
| ·展望 | 第67-69页 |
| 参考文献 | 第69-74页 |
| 攻读硕士学位期间发表的论文 | 第74-75页 |
| 致谢 | 第75-77页 |
