亚波长结构宽波段抗反射工艺的研究
| 摘要 | 第1-6页 |
| ABSTRACT | 第6-8页 |
| 目录 | 第8-10页 |
| 第一章 绪论 | 第10-21页 |
| ·二元光学 | 第10-11页 |
| ·传统抗反射膜 | 第11-12页 |
| ·亚波长抗反射结构 | 第12-13页 |
| ·二元光学的制作工艺 | 第13-19页 |
| ·传统光刻技术 | 第14-15页 |
| ·直接写入技术 | 第15-17页 |
| ·灰阶掩模技术 | 第17-19页 |
| ·国内外研究现状 | 第19-20页 |
| ·本文研究的主要内容 | 第20-21页 |
| 第二章 亚波长光栅结构的基本理论 | 第21-37页 |
| ·等效介质理论 | 第21-30页 |
| ·一维亚波长结构的零级等效近似分析 | 第22-24页 |
| ·一维亚波长结构的二级等效近似分析 | 第24-26页 |
| ·二维亚波长结构的等效介质理论分析 | 第26-28页 |
| ·亚波长结构的周期阈值 | 第28-30页 |
| ·严格耦合波理论 | 第30-37页 |
| ·二维亚波长结构的严格耦合波理论分析 | 第30-37页 |
| 第三章 亚波长抗反射光栅结构设计 | 第37-44页 |
| ·等效介质理论近似分析 | 第37-38页 |
| ·严格耦合波理论分析 | 第38-43页 |
| ·入射面抗反射结构 | 第40-41页 |
| ·出射面抗反射结构 | 第41-43页 |
| ·结构参数及掩模版图形 | 第43-44页 |
| 第四章 亚波长抗反射结构的制作工艺 | 第44-58页 |
| ·等离子体化学气相沉积 | 第44-45页 |
| ·光刻 | 第45-50页 |
| ·表面预处理 | 第46页 |
| ·涂胶 | 第46-47页 |
| ·前烘 | 第47-48页 |
| ·曝光 | 第48页 |
| ·显影 | 第48-49页 |
| ·后烘 | 第49-50页 |
| ·刻蚀 | 第50-55页 |
| ·RIE 与 ICP 刻蚀技术 | 第51-53页 |
| ·刻蚀效果 | 第53-55页 |
| ·去胶 | 第55页 |
| ·实验制作步骤 | 第55-56页 |
| ·结果测试和性能分析 | 第56-58页 |
| 第五章 亚波长抗反射结构的改进 | 第58-61页 |
| ·亚波长结构性能分析 | 第58页 |
| ·一种新型亚波长抗反射结构 | 第58-61页 |
| ·聚乙烯保护膜的特性 | 第59页 |
| ·添加聚合物保护膜的亚波长抗反射结构 | 第59-61页 |
| 第六章 总结 | 第61-63页 |
| 致谢 | 第63-64页 |
| 参考文献 | 第64-68页 |
| 攻硕期间取得的研究成果 | 第68-69页 |
