| 致谢 | 第1-6页 |
| 中文摘要 | 第6-7页 |
| ABSTRACT | 第7-9页 |
| 序 | 第9-13页 |
| 第一章 引言 | 第13-27页 |
| ·研究背景 | 第13-15页 |
| ·晶体硅太阳能电池的现状与发展前景 | 第15-17页 |
| ·单晶硅太阳能电池 | 第15-17页 |
| ·多晶硅太阳能电池 | 第17页 |
| ·现行的高效晶体硅太阳能电池技术 | 第17-24页 |
| ·HIT电池 | 第17-18页 |
| ·Pluto电池 | 第18-19页 |
| ·埋栅电池 | 第19页 |
| ·背接触电池 | 第19-21页 |
| ·德国ISE的LFC(laser fired contact)PERC cells | 第21-22页 |
| ·OECO(Obliquely evaporated contact)太阳电池 | 第22-23页 |
| ·金属环绕贯穿(MWT)电池 | 第23页 |
| ·激光掺杂晶体硅太阳电池 | 第23-24页 |
| ·本论文的研究内容与意义 | 第24-27页 |
| 第二章 太阳能电池工作原理 | 第27-39页 |
| ·光伏电池的基本工作原理 | 第27-29页 |
| ·太阳能电池的电性能参数 | 第29-32页 |
| ·电流特性 | 第29-30页 |
| ·电压特性 | 第30-31页 |
| ·填充因子FF | 第31-32页 |
| ·光电转换效率 | 第32页 |
| ·外界因素对电池的影响 | 第32-33页 |
| ·光强和光照方式对电池的影响 | 第32-33页 |
| ·温度对电池的影响 | 第33页 |
| ·光谱的响应 | 第33-34页 |
| ·太阳能电池的波长响应 | 第33-34页 |
| ·太阳能电池的量子效率 | 第34页 |
| ·太阳能电池前表面栅线的设计问题 | 第34-36页 |
| ·本章小结 | 第36-39页 |
| 第三章 晶体硅太阳能电池的生产工艺及相关设备 | 第39-57页 |
| ·晶体硅太阳电池的结构 | 第39页 |
| ·生产工艺流程及相设备 | 第39-54页 |
| ·制绒 | 第39-42页 |
| ·扩散 | 第42-44页 |
| ·等离子刻蚀 | 第44-46页 |
| ·去PSG(磷硅玻璃) | 第46-47页 |
| ·PECVD镀氮化硅膜 | 第47-51页 |
| ·丝印与烧结 | 第51-54页 |
| ·本章小结 | 第54-57页 |
| 第四章 激光掺杂晶体硅太阳电池电镀工艺方案的实施 | 第57-73页 |
| ·电镀栅线材质的选择分析 | 第57-61页 |
| ·铜在晶体硅中的扩散及沉淀规律 | 第57-60页 |
| ·镍在晶体硅中的扩散及沉淀规律 | 第60页 |
| ·镍硅合金 | 第60-61页 |
| ·栅线选择的分析 | 第61页 |
| ·激光掺杂掺杂晶体硅太阳电池电镀工艺的研究方案 | 第61-68页 |
| ·方案流程图 | 第61-62页 |
| ·具体实验步骤 | 第62-65页 |
| ·实验结果 | 第65-68页 |
| ·工艺方案的分析 | 第68-69页 |
| ·激光掺杂晶体硅电池电镀工艺的技术难点 | 第68页 |
| ·激光掺杂晶体硅电池电镀工艺的优势 | 第68-69页 |
| ·实验设备 | 第69-71页 |
| ·本章小结 | 第71-73页 |
| 第五章 激光掺杂晶体硅太阳电池电镀工艺的研究 | 第73-95页 |
| ·电镀 | 第73-75页 |
| ·电镀原理 | 第73-74页 |
| ·电镀铜 | 第74-75页 |
| ·化学镀 | 第75-82页 |
| ·化学镀镍 | 第75-77页 |
| ·化学镀镍溶液的配制 | 第77-78页 |
| ·种子层和阻挡层 | 第78-79页 |
| ·化学镀镍厚度的研究 | 第79-82页 |
| ·光诱导电镀 | 第82-88页 |
| ·光诱导电镀原理 | 第83页 |
| ·光诱导电镀银 | 第83-84页 |
| ·光诱导电镀铜厚度的研究 | 第84-88页 |
| ·过镀问题的研究 | 第88-92页 |
| ·过镀现象的分析 | 第88-90页 |
| ·解决过镀问题的方案 | 第90-92页 |
| ·开槽激光功率的探索 | 第92-93页 |
| ·电镀栅线高宽比的分析 | 第93-94页 |
| ·本章小结 | 第94-95页 |
| 结论 | 第95-97页 |
| 参考文献 | 第97-99页 |
| 作者简历 | 第99-103页 |
| 学位论文数据集 | 第103页 |