| 摘要 | 第1-5页 |
| Abstract | 第5-10页 |
| 第一章 绪论 | 第10-18页 |
| ·引言 | 第10-12页 |
| ·磁学的基础理论 | 第12-16页 |
| ·物质磁性 | 第12页 |
| ·铁磁材料的基本特征 | 第12-13页 |
| ·铁磁材料磁化时的各种能量 | 第13-16页 |
| 参考文献 | 第16-18页 |
| 第二章 基本实验方法及测量原理 | 第18-30页 |
| ·薄膜 | 第18-22页 |
| ·薄膜的生长方式 | 第18页 |
| ·薄膜的制备方法 | 第18-22页 |
| ·薄膜的表征方法 | 第22-28页 |
| ·X射线衍射(XRD) | 第22-23页 |
| ·扫描电子显微镜(SEM) | 第23-25页 |
| ·振动样品磁强计(VSM) | 第25-26页 |
| ·电子自旋共振及铁磁共振 | 第26-28页 |
| 参考文献 | 第28-30页 |
| 第三章 一致转动理论模型及铁磁共振拟合过程和原理 | 第30-45页 |
| ·一致转动理论模型(S—W模型) | 第30-31页 |
| ·铁磁共振线宽的推导及测试 | 第31-37页 |
| ·铁磁共振本征线宽的理论推导 | 第31-33页 |
| ·磁性弛豫的几种机制 | 第33-36页 |
| ·铁磁共振线宽的测试 | 第36-37页 |
| ·铁磁共振拟合 | 第37-44页 |
| ·铁磁共振拟合思路 | 第37页 |
| ·铁磁共振拟合过程 | 第37-42页 |
| ·数值拟合的具体方法及过程 | 第42-44页 |
| 参考文献 | 第44-45页 |
| 第四章 Al_2O_3(0001)上沉积薄膜及铁磁共振研究 | 第45-56页 |
| ·薄膜样品的制备 | 第45-47页 |
| ·薄膜性能的表征及分析 | 第47-51页 |
| ·CrO_2薄膜晶向及结构的表征和分析 | 第47-49页 |
| ·CrO_2薄膜静态磁性的表征及分析 | 第49-51页 |
| ·CrO_2薄膜动态磁性的表征及分析 | 第51页 |
| ·薄膜质量的改进 | 第51-52页 |
| ·数值拟合及分析 | 第52-53页 |
| ·结论 | 第53-55页 |
| 参考文献 | 第55-56页 |
| 第五章 TiO_2(110)上沉积薄膜及铁磁共振研究 | 第56-75页 |
| ·薄膜样品制备 | 第56-57页 |
| ·薄膜性能的表征及分析 | 第57-65页 |
| ·CrO_2薄膜晶向及结构的表征和分析 | 第57-60页 |
| ·CrO_2薄膜静态磁性能的表征和分析 | 第60-63页 |
| ·CrO_2薄膜动态磁性能的表征和分析 | 第63-65页 |
| ·CrO_2薄膜阻尼因子的研究 | 第65-68页 |
| ·退火及退火过程对薄膜阻尼因子的影响 | 第68-72页 |
| ·结论 | 第72-74页 |
| 参考文献 | 第74-75页 |
| 第六章 结论 | 第75-76页 |
| 在学期间的研究成果 | 第76-77页 |
| 致谢 | 第77页 |