| 摘要 | 第1-6页 |
| ABSTRACT | 第6-10页 |
| 第1章 绪论 | 第10-32页 |
| ·引言 | 第10页 |
| ·聚合物发光材料概述 | 第10-12页 |
| ·聚芴概述 | 第12-31页 |
| ·均聚芴类材料发展概况 | 第13-14页 |
| ·共聚芴类材料发展概况 | 第14-15页 |
| ·聚芴的基本光电性能 | 第15-17页 |
| ·聚辛基芴的聚集态结构及其与光物理性能之间的关系 | 第17-22页 |
| ·聚辛基芴聚集态结构的表征方法 | 第22-29页 |
| ·聚辛基芴薄膜的微结构及其对光电性能的影响 | 第29-31页 |
| ·本论文的工作内容与意义 | 第31-32页 |
| 第2章 聚辛基芴薄膜热退火过程中微结构变化的实时 GIXRD 表征 | 第32-57页 |
| ·实验部分 | 第32-36页 |
| ·主要原料 | 第32页 |
| ·主要实验设备 | 第32-34页 |
| ·样品制备 | 第34-35页 |
| ·样品的测试 | 第35-36页 |
| ·结果与讨论 | 第36-56页 |
| ·非晶薄膜冷结晶过程的实时 GIXRD 表征 | 第36-49页 |
| ·α相聚芴薄膜熔融冷却过程的实时 GIXRD 表征 | 第49-56页 |
| ·本章小结 | 第56-57页 |
| 第3章 聚辛基芴薄膜热退火过程中微结构变化的实时光谱分析 | 第57-76页 |
| ·聚辛基芴薄膜热退火过程中微结构变化的紫外可见吸收光谱分析 | 第57-68页 |
| ·主要原料 | 第57页 |
| ·主要实验设备 | 第57-60页 |
| ·样品制备 | 第60-61页 |
| ·样品的测试 | 第61-62页 |
| ·原位紫外吸收光谱分析结果与讨论 | 第62-68页 |
| ·聚辛基芴薄膜热退火过程中微结构变化的变温红外光谱分析 | 第68-73页 |
| ·主要原料 | 第68页 |
| ·主要实验设备 | 第68-69页 |
| ·样品制备 | 第69-70页 |
| ·样品的测试 | 第70页 |
| ·原位红外光谱分析结果与讨论 | 第70-73页 |
| ·聚辛基芴热退火过程的机理 | 第73-74页 |
| ·本章小结 | 第74-76页 |
| 第4章 结论 | 第76-78页 |
| 参考文献 | 第78-83页 |
| 攻读硕士学位期间参加的科研工作情况 | 第83-84页 |
| 致谢 | 第84页 |
