用于PDP的Zn2+掺杂MgO薄膜制备与研究
| 摘要 | 第1-6页 |
| ABSTRACT | 第6-11页 |
| 第一章 绪论 | 第11-19页 |
| ·课题研究背景 | 第11-12页 |
| ·PDP发展历史 | 第12-13页 |
| ·等离子显示研究现状 | 第13-18页 |
| ·优化气体成分研究现状 | 第14页 |
| ·优化电极设计及改进单元结构研究现状 | 第14页 |
| ·新型放电材料的研究现状 | 第14-18页 |
| ·MgO薄膜研究现状 | 第14-16页 |
| ·掺杂氧化镁薄膜的研究现状 | 第16-18页 |
| ·本课题主要研究意义及主要内容 | 第18-19页 |
| 第二章 AC-PDP工作原理及溶胶-凝胶相关知识 | 第19-30页 |
| ·PDP分类 | 第19页 |
| ·三电极表面放电型结构AC-PDP工作原理 | 第19-22页 |
| ·气体放电理论 | 第22-26页 |
| ·汤生放电理论 | 第23-24页 |
| ·帕邢定律 | 第24-25页 |
| ·气体放电相似定律 | 第25-26页 |
| ·PDP放电特性和发光机理 | 第26-27页 |
| ·溶胶-凝胶法的原理和特点 | 第27-29页 |
| ·溶胶-凝胶法制制备薄膜工艺优点 | 第28页 |
| ·浸渍提拉法 | 第28-29页 |
| ·旋转涂覆法 | 第29页 |
| ·本章小结 | 第29-30页 |
| 第三章 溶胶-凝胶法制备掺杂薄膜及性能表征 | 第30-56页 |
| ·实验主要仪器设备及原材料选择 | 第30-33页 |
| ·实验主要仪器设备 | 第30-31页 |
| ·实验原材料的选择 | 第31-32页 |
| ·衬底表面的预处理 | 第32-33页 |
| ·硅片清洗 | 第32-33页 |
| ·ITO玻璃衬底清洗 | 第33页 |
| ·主要实验步骤 | 第33-36页 |
| ·溶胶制备 | 第33-35页 |
| ·旋转涂覆法制备薄膜 | 第35页 |
| ·薄膜的干燥处理 | 第35-36页 |
| ·主要测试手段 | 第36-38页 |
| ·薄膜厚度的测量方法 | 第36-37页 |
| ·X射线衍射(XRD)分析薄膜物相结构 | 第37页 |
| ·EDS电子能谱分析仪分析薄膜成分 | 第37-38页 |
| ·其他测试方法 | 第38页 |
| ·溶胶-凝胶法制备掺杂薄膜测试结果 | 第38-54页 |
| ·研究制备纯氧化镁薄膜最佳工艺参数 | 第38-41页 |
| ·火棉胶含量对薄膜成膜质量的影响 | 第38-39页 |
| ·热处理过程升温速率对薄膜成膜质量的影响 | 第39-41页 |
| ·薄膜物相结构分析 | 第41-47页 |
| ·退火温度对物相结构的影响 | 第41-44页 |
| ·涂覆次数对物相结构的影响 | 第44-45页 |
| ·掺杂比例对物相结构的影响 | 第45-47页 |
| ·掺杂薄膜的成分分析 | 第47页 |
| ·掺杂薄膜的厚度测试 | 第47-49页 |
| ·掺杂薄膜的透过率测试分析 | 第49-52页 |
| ·退火条件对薄膜的通光性能的影响 | 第50页 |
| ·镀膜层数对薄膜的通光性能的影响 | 第50-51页 |
| ·掺杂比例的改变对薄膜透过率的影响 | 第51-52页 |
| ·Zn~(2+)掺杂MgO薄膜导电性能的研究 | 第52-54页 |
| ·本章小结 | 第54-56页 |
| 第四章 模拟放电单元放电特性测试及结果分析 | 第56-66页 |
| ·PDP模拟单元封接工艺研究 | 第56-60页 |
| ·模拟单元封接工艺研究 | 第56-58页 |
| ·PDP模拟放电单元设计与制备 | 第58-59页 |
| ·充放气系统模块设计 | 第59页 |
| ·模拟放电单元电路模块设计 | 第59-60页 |
| ·PDP模拟放电单元放电特性相关研究 | 第60-64页 |
| ·气体压强与着火电压关系 | 第60-62页 |
| ·模拟真实PDP工作放电特性分析 | 第62-63页 |
| ·模拟放电单元工作稳定性分析 | 第63-64页 |
| ·本章小结 | 第64-66页 |
| 第五章 结论与展望 | 第66-69页 |
| ·结论 | 第66-67页 |
| ·下一步工作方向 | 第67-69页 |
| 致谢 | 第69-70页 |
| 参考文献 | 第70-74页 |
| 攻硕期间取得的研究成果 | 第74页 |
