| 摘要 | 第1-7页 |
| Abstract | 第7-15页 |
| 1 绪论 | 第15-38页 |
| ·研究的背景和意义 | 第15-21页 |
| ·高能激光的发展 | 第15-19页 |
| ·波长的选择 | 第19-20页 |
| ·毫秒激光潜在的应用前景 | 第20-21页 |
| ·激光对光学薄膜的损伤机理研究现状 | 第21-26页 |
| ·本征吸收 | 第22页 |
| ·缺陷吸收 | 第22-24页 |
| ·雪崩电离 | 第24-25页 |
| ·多光子吸收 | 第25页 |
| ·光学薄膜的热力应力损伤 | 第25-26页 |
| ·光学薄膜激光损伤阈值研究方法的现状 | 第26-33页 |
| ·1-on-1损伤测试方法 | 第28-30页 |
| ·测试过程要求 | 第30-32页 |
| ·损伤形貌分析 | 第32-33页 |
| ·测试报告要求 | 第33页 |
| ·激光参数以及光学薄膜的性质对薄膜损伤影响的研究现状 | 第33-36页 |
| ·激光参数对损伤的影响 | 第33-35页 |
| ·薄膜性质对损伤的影响 | 第35-36页 |
| ·本文的主要研究工作 | 第36-38页 |
| 2 毫秒激光作用下薄膜温度场的数值分析和研究 | 第38-63页 |
| ·数值分析的理论基础 | 第38-45页 |
| ·膜层内电场分布 | 第38-41页 |
| ·传热学基本理论 | 第41-42页 |
| ·有限元方法 | 第42-44页 |
| ·介质的光学性质 | 第44-45页 |
| ·理想薄膜温度及应力场的数值分析和研究 | 第45-52页 |
| ·激光辐照无缺陷光学薄膜 | 第45-46页 |
| ·激光参数以及膜层材料的参数 | 第46-47页 |
| ·膜层中温度以及应力的发展过程 | 第47-52页 |
| ·含缺陷薄膜的温度场数值研究与分析 | 第52-61页 |
| ·缺陷吸收机制下的微分方程 | 第53-55页 |
| ·含缺陷薄膜数值计算模型的建立 | 第55-57页 |
| ·缺陷及膜层的温度场分析 | 第57-61页 |
| ·本章小结 | 第61-63页 |
| 3 毫秒激光致典型光学薄膜损伤阈值及机理研究 | 第63-75页 |
| ·增透膜的损伤特性 | 第63-66页 |
| ·增透膜的制备 | 第63-64页 |
| ·实验装置 | 第64页 |
| ·损伤阈值及损伤形貌 | 第64-66页 |
| ·高反膜的损伤特性 | 第66-67页 |
| ·高反膜的制备 | 第66-67页 |
| ·损伤阈值及损伤形貌 | 第67页 |
| ·不同厚度单层膜的损伤特性 | 第67-73页 |
| ·100nm厚TiO_2单层膜的损伤特性 | 第68-70页 |
| ·300nm厚TiO_2单层膜的损伤特性 | 第70-72页 |
| ·500nm厚TiO_2单层膜的损伤特性 | 第72-73页 |
| ·分析与讨论 | 第73-74页 |
| ·本章小结 | 第74-75页 |
| 4 大能量密度毫秒激光作用下光学薄膜的损伤 | 第75-82页 |
| ·实验准备 | 第75-76页 |
| ·实验装置 | 第75页 |
| ·膜层制备 | 第75-76页 |
| ·高能量密度激光作用下光学薄膜的损伤特性 | 第76-78页 |
| ·实验结果的讨论与分析 | 第78-81页 |
| ·本章小结 | 第81-82页 |
| 5 毫秒和纳秒激光损伤薄膜的比较分析 | 第82-96页 |
| ·纳秒激光损伤光学薄膜的实验研究 | 第82-86页 |
| ·光学薄膜的制备以及试验装置的建立 | 第82-84页 |
| ·纳秒激光损伤增透膜的损伤阈值 | 第84页 |
| ·纳秒激光损伤光学薄膜的形貌 | 第84-86页 |
| ·毫秒激光损伤光学薄膜的实验研究 | 第86-89页 |
| ·毫秒激光损伤增透膜的损伤阈值 | 第86-88页 |
| ·毫秒激光损伤增透膜的损伤形貌 | 第88-89页 |
| ·不同脉宽激光辐照光学薄膜的数值模拟 | 第89-94页 |
| ·理想光学薄膜的物理模型 | 第89-91页 |
| ·理想薄膜温度场计算所需的参数 | 第91-92页 |
| ·理想增透膜温度场的模拟结果 | 第92-94页 |
| ·不同脉宽激光辐照光学薄膜结果的分析与讨论 | 第94-95页 |
| ·本章小结 | 第95-96页 |
| 6 总结和展望 | 第96-98页 |
| ·总结 | 第96-97页 |
| ·展望 | 第97-98页 |
| 致谢 | 第98-99页 |
| 附录 | 第99-101页 |
| 参考文献 | 第101-108页 |