| 摘要 | 第1-7页 |
| Abstract | 第7-13页 |
| 1 绪论 | 第13-41页 |
| ·引言 | 第13-15页 |
| ·透明导电氧化物及其现状 | 第15-19页 |
| ·ZnO的基本性质 | 第19-22页 |
| ·ZnO基半导体的点缺陷、掺杂及接触 | 第22-28页 |
| ·溅射用AZO靶材的现状 | 第28-31页 |
| ·分散体系中颗粒的相互作用 | 第31-37页 |
| ·本课题研究的目的、意义和内容 | 第37-41页 |
| 2 实验与研究方法介绍 | 第41-53页 |
| ·ZnO-Al_2O_3混合粉体料浆的制备 | 第41-42页 |
| ·注浆成型与烧结 | 第42页 |
| ·磁控溅射法制备透明导电薄膜 | 第42-48页 |
| ·材料的表征方法 | 第48-53页 |
| 3 ZnO-Al_2O_3混合粉体水基悬浮液性能的研究 | 第53-71页 |
| ·前言 | 第53页 |
| ·ZnO、Al_2O_3粉体的特性 | 第53-57页 |
| ·球磨时间的影响 | 第57-58页 |
| ·pH值及添加剂的影响 | 第58-63页 |
| ·固含量的研究 | 第63-66页 |
| ·Al_2O_3的分布的研究 | 第66-69页 |
| ·本章小结 | 第69-71页 |
| 4 超高密度AZO靶材的胶态成型与烧结的研究 | 第71-92页 |
| ·前言 | 第71-72页 |
| ·ZnO粉末的XRD分析 | 第72页 |
| ·ZnO-Al_2O_3混合粉体注浆生坯的性能 | 第72-78页 |
| ·烧结温度的确定 | 第78-80页 |
| ·ZnO-Al_2O_3混合粉体烧结体的性能 | 第80-87页 |
| ·Al元素的分布 | 第87-89页 |
| ·AZO靶材的生坯与烧结体 | 第89-90页 |
| ·本章小结 | 第90-92页 |
| 5 200℃基底AZO透明导电薄膜制备的研究 | 第92-116页 |
| ·前言 | 第92页 |
| ·溅射时间的影响 | 第92-99页 |
| ·靶基距的影响 | 第99-102页 |
| ·溅射功率的影响 | 第102-105页 |
| ·工作气压的影响 | 第105-109页 |
| ·氧分压的影响 | 第109-113页 |
| ·低电阻率的AZO薄膜 | 第113-114页 |
| ·本章小结 | 第114-116页 |
| 6 400℃基底透明导电薄膜制备的研究 | 第116-138页 |
| ·前言 | 第116页 |
| ·基底温度的影响 | 第116-123页 |
| ·溅射功率的影响 | 第123-128页 |
| ·薄膜厚度的影响 | 第128-131页 |
| ·工作气压的影响 | 第131-132页 |
| ·靶基距的影响 | 第132-135页 |
| ·氧分压的影响 | 第135-136页 |
| ·本章小结 | 第136-138页 |
| 7 双层透明导电薄膜及结构区域模型的探讨与研究 | 第138-157页 |
| ·前言 | 第138页 |
| ·AZO/ZnO双层组合透明导电薄膜 | 第138-144页 |
| ·ITO/AZO双层组合透明导电薄膜 | 第144-151页 |
| ·结构区域模型的探讨与Thornton模型的改进 | 第151-155页 |
| ·本章小结 | 第155-157页 |
| 8 全文总结 | 第157-159页 |
| ·主要结论 | 第157-158页 |
| ·论文研究工作的主要创新点 | 第158-159页 |
| 致谢 | 第159-160页 |
| 参考文献 | 第160-174页 |
| 附录1 攻读学位期间发表、接受和已投稿的论文 | 第174页 |