| 摘要 | 第1-5页 |
| Abstract | 第5-14页 |
| 第一章 绪论 | 第14-21页 |
| ·研究背景 | 第14页 |
| ·国内外研究现状 | 第14-20页 |
| ·自耦合射流的形成机理及流动特性 | 第14-17页 |
| ·自耦合射流用于主动流动控制 | 第17-18页 |
| ·自耦合射流在强化掺混上的应用 | 第18-20页 |
| ·本文研究内容 | 第20-21页 |
| 第二章 数值研究方法 | 第21-26页 |
| ·数值计算方法 | 第21-25页 |
| ·流动控制方程 | 第21页 |
| ·湍流模型 | 第21-22页 |
| ·计算域和网格划分 | 第22-23页 |
| ·动网格技术 | 第23-25页 |
| ·计算方法 | 第25页 |
| ·本章小节 | 第25-26页 |
| 第三章 自耦合射流强化掺混影响因素研究 | 第26-47页 |
| ·计算域和边界条件 | 第26页 |
| ·网格划分 | 第26-27页 |
| ·数值模拟结果与分析 | 第27-46页 |
| ·流场稳定性分析 | 第27页 |
| ·自耦合射流对两股流掺混强化的作用 | 第27-30页 |
| ·激励频率 | 第30-35页 |
| ·激励振幅 | 第35-40页 |
| ·激励器位置 | 第40-46页 |
| ·本章小结 | 第46-47页 |
| 第四章 多个自耦合射流强化掺混的数值研究 | 第47-81页 |
| ·数值模拟结果与分析 | 第47-80页 |
| ·上侧放置2 个间距相同的激励器 | 第47-51页 |
| ·上侧放置2 个间距不同的激励器 | 第51-54页 |
| ·上侧放置3 个间距相同的激励器 | 第54-58页 |
| ·上侧放置3 个间距不同的激励器 | 第58-61页 |
| ·上侧放置数量不同的激励器 | 第61-62页 |
| ·两侧对置2 个间距相同的激励器 | 第62-66页 |
| ·两侧对置2 个间距不同的激励器 | 第66-70页 |
| ·两侧对置4 个间距不同的激励器 | 第70-73页 |
| ·两侧对置6 个间距不同的激励器 | 第73-76页 |
| ·两侧对置数量不同的激励器 | 第76-79页 |
| ·上侧放置与双侧对置比较 | 第79-80页 |
| ·本章小结 | 第80-81页 |
| 第五章 入口速度对自耦合射流强化掺混影响的数值研究 | 第81-96页 |
| ·非对称结构强化掺混 | 第81-85页 |
| ·计算域和边界条件 | 第81页 |
| ·数值模拟结果与分析 | 第81-85页 |
| ·对称结构强化掺混 | 第85-95页 |
| ·计算域和边界条件 | 第85-86页 |
| ·2 个激励器的对称结构 | 第86-91页 |
| ·4 个激励器的对称结构 | 第91-95页 |
| ·本章小结 | 第95-96页 |
| 第六章 多个自耦合射流激励三维掺混流场的数值研究 | 第96-104页 |
| ·计算域和网格划分 | 第96-97页 |
| ·数值模拟结果与分析 | 第97-103页 |
| ·本章小结 | 第103-104页 |
| 第七章 总结和展望 | 第104-106页 |
| ·本文总结 | 第104-105页 |
| ·下一步工作展望 | 第105-106页 |
| 参考文献 | 第106-110页 |
| 致谢 | 第110-111页 |
| 在学期间的研究成果及发表的学术论文 | 第111页 |