| 摘要 | 第1-5页 |
| Abstract | 第5-10页 |
| 第1章 绪论 | 第10-25页 |
| ·课题目的和意义 | 第10-11页 |
| ·口腔植入材料的发展现状 | 第11-13页 |
| ·口腔种植陶瓷材料 | 第11-12页 |
| ·钛及钛合金 | 第12页 |
| ·涂层材料 | 第12-13页 |
| ·提高钛和钛合金的表面生物活性的方法 | 第13-15页 |
| ·钛及钛合金表面氧化物活化处理 | 第13-14页 |
| ·钛及钛合金表面生物活性涂层的制备 | 第14-15页 |
| ·微弧氧化技术在钛和钛合金表面改性中的应用 | 第15-23页 |
| ·微弧氧化基本原理 | 第15-17页 |
| ·微弧氧化过程中的影响因素 | 第17-20页 |
| ·微弧氧化技术用于提高钛和钛合金生物活性的研究现状 | 第20-23页 |
| ·论文研究的主要内容 | 第23-25页 |
| 第2章 实验材料与方法 | 第25-29页 |
| ·微弧氧化装置及设备 | 第25-26页 |
| ·材料及试剂 | 第26页 |
| ·试验操作过程 | 第26-27页 |
| ·测试分析方法 | 第27-29页 |
| ·微弧氧化膜层形貌、成分及相组成测试分析 | 第27页 |
| ·微弧氧化膜层基本性能测试 | 第27-29页 |
| 第3章 电解液参数对膜层相组成及成份的影响 | 第29-40页 |
| ·不同磷盐对膜层相组成及成份的影响 | 第29-36页 |
| ·甘油磷酸钙体系对膜层组成的影响 | 第29-31页 |
| ·六偏磷酸钠体系对膜层组成的影响 | 第31-32页 |
| ·次亚磷酸钙体系对膜层组成的影响 | 第32-33页 |
| ·磷酸三钠体系对膜层组成的影响 | 第33-34页 |
| ·磷酸二氢钠体系对膜层组成的影响 | 第34-36页 |
| ·电解液浓度对膜层显微特性和相组成的影响 | 第36-39页 |
| ·电解液浓度对氧化膜厚度的影响 | 第36-37页 |
| ·电解液浓度对氧化膜表面形貌的影响 | 第37-38页 |
| ·电解液浓度对氧化膜相结构的影响 | 第38-39页 |
| ·本章小结 | 第39-40页 |
| 第4章 电源工艺参数对微弧氧化膜的影响 | 第40-62页 |
| ·氧化处理时间对氧化膜显微特性和相组成的影响 | 第40-47页 |
| ·氧化处理时间对氧化膜厚度的影响 | 第40-41页 |
| ·氧化处理时间对氧化膜表面和截面形貌的影响 | 第41-43页 |
| ·氧化处理时间对氧化膜截面形貌的影响及截面元素分布 | 第43-45页 |
| ·氧化处理时间对氧化膜表面钙磷含量的影响 | 第45-46页 |
| ·氧化处理时间对氧化膜相结构的影响 | 第46-47页 |
| ·脉冲频率对氧化膜显微特性和相组成的影响 | 第47-51页 |
| ·脉冲频率对氧化膜厚度的影响 | 第47-48页 |
| ·脉冲频率对氧化膜表面和截面形貌的影响 | 第48-49页 |
| ·脉冲频率对氧化膜层中钙磷含量的影响 | 第49-50页 |
| ·脉冲频率对氧化膜层相结构的影响 | 第50-51页 |
| ·正相电流密度对氧化膜显微特性和相组成的影响 | 第51-56页 |
| ·正相电流密度对氧化膜厚度的影响 | 第51-52页 |
| ·正相电流密度对氧化膜表面和截面形貌的影响 | 第52-54页 |
| ·正相电流密度对氧化膜层中钙磷含量的影响 | 第54-55页 |
| ·正相电流密度对氧化膜层相结构的影响 | 第55-56页 |
| ·负相电流密度对氧化膜显微特性和相组成的影响 | 第56-61页 |
| ·负相电流密度对氧化膜厚度的影响 | 第56-57页 |
| ·负相电流密度对氧化膜表面和截面形貌的影响 | 第57-58页 |
| ·负相电流密度对氧化膜中钙磷含量的影响及截面元素分布 | 第58-60页 |
| ·负相电流密度对氧化膜相结构的影响 | 第60-61页 |
| ·本章小结 | 第61-62页 |
| 第5章 氧化膜剪切强度和耐腐蚀性能研究 | 第62-71页 |
| ·剪切试验 | 第62-63页 |
| ·耐腐蚀性能测试 | 第63-70页 |
| ·电解液浓度对氧化膜耐腐蚀性的影响 | 第63-65页 |
| ·微弧氧化时间对氧化膜耐腐蚀性的影响 | 第65-66页 |
| ·脉冲频率对氧化膜耐腐蚀性的影响 | 第66-67页 |
| ·正相电流密度对氧化膜耐腐蚀性的影响 | 第67-69页 |
| ·负相电流密度对氧化膜耐腐蚀性的影响 | 第69-70页 |
| ·本章小结 | 第70-71页 |
| 结论 | 第71-72页 |
| 参考文献 | 第72-79页 |
| 致谢 | 第79页 |
