| 摘要 | 第1-3页 |
| Abstract | 第3-7页 |
| 第一章 绪论 | 第7-28页 |
| §1.1 引言 | 第7-8页 |
| §1.2 电致发光概论 | 第8-15页 |
| §1.2.1 基础发光物理 | 第8-13页 |
| §1.2.2 电致发光原理 | 第13页 |
| §1.2.3 电致发光材料 | 第13-14页 |
| §1.2.4 电致发光器件 | 第14-15页 |
| §1.3 有机半导体及有机发光器件原理 | 第15-20页 |
| §1.3.1 有机半导体原理 | 第15-17页 |
| §1.3.2 有机电致发光器件 | 第17-20页 |
| §1.4 有机电致发光器件现状及存在的问题 | 第20-23页 |
| §1.4.1 发展历程 | 第20-21页 |
| §1.4.2 器件优点 | 第21-22页 |
| §1.4.3 器件应用 | 第22页 |
| §1.4.4 存在的问题 | 第22页 |
| §1.4.5 研究现状 | 第22-23页 |
| §1.5 本论文研究内容及创新之处 | 第23-28页 |
| §1.5.1 研究内容 | 第23-24页 |
| §1.5.2 本文创新之处 | 第24-28页 |
| 第二章 聚合物电致发光器件(PLED)的制作与测试 | 第28-42页 |
| §2.1 引言 | 第28页 |
| §2.2 器件结构 | 第28-29页 |
| §2.2.1 概述 | 第28-29页 |
| §2.2.2 本文中的结构 | 第29页 |
| §2.3 器件材料 | 第29-32页 |
| §2.3.1 概述 | 第29-30页 |
| §2.3.2 本文试验中所涉及的相关材料 | 第30-32页 |
| §2.4 器件制备 | 第32-37页 |
| §2.4.1 ITO基片的刻蚀 | 第32-33页 |
| §2.4.2 ITO基片的清洗 | 第33-34页 |
| §2.4.3 ITO基片表面处理 | 第34-35页 |
| §2.4.4 空穴传输层的制备 | 第35-36页 |
| §2.4.5 PEDOT基片烘烤 | 第36页 |
| §2.4.6 有机发光层的制备 | 第36-37页 |
| §2.4.7 蒸镀阴极修饰层以及金属阴极 | 第37页 |
| §2.5 器件封装 | 第37-38页 |
| §2.5.1 概述 | 第37页 |
| §2.5.2 本文中的封装 | 第37-38页 |
| §2.6 试验设备及材料 | 第38-42页 |
| §2.6.1 试验设备以及所处理的对象 | 第38-39页 |
| §2.6.2 实验材料 | 第39-42页 |
| 第三章 PLED载流子注入分析 | 第42-57页 |
| §3.1 引言 | 第42-43页 |
| §3.2 PLED阴极修饰层 | 第43-46页 |
| §3.2.1 概述 | 第43页 |
| §3.2.2 相关模型 | 第43-45页 |
| §3.2.3 试验模拟 | 第45-46页 |
| §3.3 具有不同厚度的阴极修饰层 | 第46-50页 |
| §3.3.1 实验及计算分析 | 第46-49页 |
| §3.3.2 修饰层的最优厚度 | 第49-50页 |
| §3.4 具有不同介电常数的阴极修饰层 | 第50-54页 |
| §3.5 小结 | 第54-57页 |
| 第四章 PLED载流子输运及载流子陷阱分析 | 第57-72页 |
| §4.1 引言 | 第57-59页 |
| §4.1.1 概述 | 第57页 |
| §4.1.2 空间电荷限制电流 | 第57-59页 |
| §4.2 PLED载流子输运 | 第59-63页 |
| §4.2.1 PLED载流子迁移率 | 第59-61页 |
| §4.2.2 PLED载流子浓度 | 第61-63页 |
| §4.3 SCLC模型电流值与实际电流值 | 第63-64页 |
| §4.4 PLED器件载流子陷阱分析 | 第64-69页 |
| §4.5 小结 | 第69-72页 |
| 第五章 总结与展望 | 第72-74页 |
| §5.1 总结 | 第72-73页 |
| §5.2 展望 | 第73-74页 |
| 硕士期间完成的学术论文 | 第74-75页 |
| 致谢 | 第75页 |