工作在超短脉冲条件下的光学介质薄膜
| 摘要 | 第1-6页 |
| Abstract | 第6-13页 |
| 第一章 绪论 | 第13-33页 |
| ·研究的背景及意义 | 第13-15页 |
| ·研究进展 | 第15-21页 |
| ·本文的主要工作 | 第21-23页 |
| 参考文献 | 第23-33页 |
| 第二章 介质薄膜介绍 | 第33-50页 |
| ·引言 | 第33页 |
| ·光学薄膜理论基础 | 第33-44页 |
| ·电磁场基本性质 | 第33-36页 |
| ·光学薄膜系统的特性计算 | 第36-39页 |
| ·QW介质膜的光学特性 | 第39-41页 |
| ·光学薄膜的驻波场分析 | 第41-44页 |
| ·介质膜系的结构 | 第44-47页 |
| ·小结 | 第47-48页 |
| 参考文献 | 第48-50页 |
| 第三章 QW介质镜反射特性的研究 | 第50-72页 |
| ·引言 | 第50页 |
| ·反射特性与频率的关系 | 第50-58页 |
| ·多层QW介质膜堆的反射系数 | 第50-54页 |
| ·反射时延 | 第54-58页 |
| ·权重因子的引入 | 第58-61页 |
| ·利用权重因子研究介质镜 | 第61-67页 |
| ·小结 | 第67-69页 |
| 参考文献 | 第69-72页 |
| 第四章 超短脉冲对光学元件的损伤 | 第72-100页 |
| ·引言 | 第72-73页 |
| ·超短脉冲介绍 | 第73-77页 |
| ·超短脉冲的发展 | 第73-75页 |
| ·超短脉冲的产生方法 | 第75-77页 |
| ·超短脉冲对光学材料的损伤 | 第77-85页 |
| ·光学材料的损伤机理 | 第77-81页 |
| ·高功率激光与介质薄膜的相互作用 | 第81-82页 |
| ·光学材料的损伤阈值 | 第82-85页 |
| ·损伤的理论模型 | 第85-91页 |
| ·电子密度 | 第85-87页 |
| ·解析分析 | 第87-91页 |
| ·小结 | 第91-93页 |
| 参考文献 | 第93-100页 |
| 第五章 多个超短脉冲辐照下介质薄膜的温升 | 第100-118页 |
| ·引言 | 第100页 |
| ·光学元件的温升分布 | 第100-109页 |
| ·温升分布 | 第100-103页 |
| ·计算与讨论 | 第103-109页 |
| ·介质膜堆中的温升分布 | 第109-114页 |
| ·小结 | 第114-115页 |
| 参考文献 | 第115-118页 |
| 第六章 总结 | 第118-120页 |
| 在读期间科研成果简介 | 第120-123页 |
| 致谢 | 第123页 |
