| 摘要 | 第1-6页 |
| Abstract | 第6-8页 |
| 致谢 | 第8-14页 |
| 第一章 前言 | 第14-24页 |
| ·金属氧化物纳米结构薄膜的研究现状与前景 | 第14-15页 |
| ·金属氧化物纳米结构薄膜的应用 | 第15页 |
| ·金属氧化物纳米结构薄膜的制备 | 第15-17页 |
| ·纳米结构薄膜的生长模式 | 第15-16页 |
| ·金属氧化物纳米结构薄膜制备技术 | 第16-17页 |
| ·铜、锌氧化物纳米结构薄膜的制备、性质及应用 | 第17-22页 |
| ·氧化亚铜纳米结构薄膜的制备、性质及应用 | 第17-19页 |
| ·氧化亚铜的晶体结构 | 第17-18页 |
| ·氧化亚铜纳米结构薄膜的制备 | 第18-19页 |
| ·氧化亚铜的性质与应用 | 第19页 |
| ·氧化锌纳米结构薄膜的制备、性质及应用 | 第19-22页 |
| ·氧化锌的晶体结构 | 第19-20页 |
| ·氧化锌纳米结构薄膜的制备 | 第20-21页 |
| ·氧化锌薄膜的性质及应用 | 第21-22页 |
| ·本课题的提出与研究内容 | 第22-24页 |
| 第二章 铜氧化物纳米结构薄膜的制备及其光学性质的研究 | 第24-38页 |
| ·氨水体系中 Cu(OH)_2和CuO纳米结构薄膜的制备 | 第24-28页 |
| ·引言 | 第24-25页 |
| ·实验过程及分析测试 | 第25-26页 |
| ·化学试剂及实验仪器 | 第25页 |
| ·基底预处理 | 第25页 |
| ·稀氨水溶液中 Cu(OH)_2薄膜的制备 | 第25-26页 |
| ·氨水与过氧化氢体系中CuO的制备 | 第26页 |
| ·材料表征 | 第26页 |
| ·实验结果和讨论 | 第26-28页 |
| ·Cu(OH)_2纳米片阵列的有序生长 | 第26-28页 |
| ·CuO纳米带阵列的有序生长 | 第28页 |
| ·Cu_2O纳米结构薄膜的制备 | 第28-37页 |
| ·引言 | 第28-29页 |
| ·实验过程及分析测试 | 第29-31页 |
| ·化学试剂及实验仪器 | 第29-30页 |
| ·前驱体 Cu(OH)_2的制备 | 第30页 |
| ·Cu_2O薄膜的制备 | 第30页 |
| ·Cu_2O粉体的制备 | 第30页 |
| ·材料表征 | 第30-31页 |
| ·实验结果和讨论 | 第31-33页 |
| ·反应机理探讨 | 第33-34页 |
| ·所制备 Cu_2O纳米结构薄膜的光学性质 | 第34页 |
| ·反应条件对 Cu_2O形貌的影响 | 第34-37页 |
| ·反应温度 | 第34页 |
| ·抗坏血酸溶液的浓度 | 第34页 |
| ·反应时间 | 第34-35页 |
| ·不同还原剂还原Cu(OH)_2得到的Cu_2O薄膜 | 第35-37页 |
| ·本章小结 | 第37-38页 |
| 第三章 ZnO纳米结构薄膜的制备及其光学、催化性质的研究 | 第38-57页 |
| ·以锌片为基底制备 ZnO纳米结构薄膜 | 第38-49页 |
| ·引言 | 第38-39页 |
| ·实验过程及分析测试 | 第39-40页 |
| ·化学试剂及实验仪器 | 第39页 |
| ·实验原料 | 第39页 |
| ·稀氨水溶液中的合成 | 第39页 |
| ·稀氨水与氢氧化钠混合溶液中的合成 | 第39-40页 |
| ·材料表征 | 第40页 |
| ·实验结果和讨论 | 第40-45页 |
| ·稀氨水溶液中合成的样品 | 第40-42页 |
| ·稀氨水和氢氧化钠混合溶液中合成的样品 | 第42-44页 |
| ·反应机理探讨 | 第44-45页 |
| ·所制备 ZnO纳米结构薄膜的光学性质 | 第45-46页 |
| ·反应条件对产物形貌的影响 | 第46-49页 |
| ·Zn片面积的影响 | 第46-47页 |
| ·反应时间的影响 | 第47页 |
| ·振荡速度的影响 | 第47-48页 |
| ·反应体系的影响 | 第48-49页 |
| ·所制备 ZnO纳米结构薄膜的催化性质 | 第49-55页 |
| ·引言 | 第49-50页 |
| ·实验过程及分析测试 | 第50-51页 |
| ·化学试剂及实验仪器 | 第50页 |
| ·实验装置简易图 | 第50-51页 |
| ·实验过程及分析测试 | 第51页 |
| ·实验结果和讨论 | 第51-55页 |
| ·本章小结 | 第55-57页 |
| 第四章 结论与展望 | 第57-59页 |
| ·结论 | 第57-58页 |
| ·展望 | 第58-59页 |
| 参考文献 | 第59-64页 |
| 攻读硕士学位期间发表的论文 | 第64页 |
