摘要 | 第1-6页 |
Abstract | 第6-8页 |
目录 | 第8-14页 |
第一章 绪论 | 第14-21页 |
·AlN基薄膜的结构与性能 | 第15-16页 |
·AlN基薄膜中复合组元对薄膜的影响 | 第16-17页 |
·稀土对薄膜的改性作用 | 第17-18页 |
·稀土改性理论成果 | 第17页 |
·稀土对合金和薄膜的影响 | 第17-18页 |
·铝基氮化物复合薄膜制备技术 | 第18-20页 |
·本论文的主要研究内容 | 第20-21页 |
第二章 实验方法 | 第21-33页 |
·研究方案的确定 | 第21-26页 |
·实验方案的设计 | 第21-22页 |
·比例调节器 | 第22页 |
·薄膜制备方法的确定 | 第22-23页 |
·薄膜制备材料的选取 | 第23页 |
·基体材料的选取及清洗 | 第23-24页 |
·实验参数的确定 | 第24-25页 |
·基片偏压 | 第24页 |
·氮分压 | 第24-25页 |
·靶弧流 | 第25页 |
·基片温度 | 第25页 |
·薄膜制备工艺流程 | 第25-26页 |
·实验设备 | 第26-29页 |
·Bulat-6多弧离子镀膜机的组成 | 第26-27页 |
·Bulat-6多弧离子镀膜机的技术特性 | 第27-29页 |
·弧源靶的电磁场控制 | 第27-28页 |
·连续式或脉冲式弧光放电 | 第28页 |
·弧源靶和工件之间的电磁场作用 | 第28页 |
·大束流冷阴极离子源 | 第28-29页 |
·两路进气 | 第29页 |
·离子束在等离子镀膜中的作用 | 第29-30页 |
·离子束对基片表面轰击的效应 | 第29页 |
·离子束轰击基片和膜层界面的效应 | 第29页 |
·离子束轰击在薄膜生长中的效应 | 第29-30页 |
·薄膜的测试与分析 | 第30-33页 |
·薄膜的结构成分分析 | 第30页 |
·薄膜表面及截面形貌分析 | 第30页 |
·薄膜硬度的测试 | 第30-31页 |
·薄膜摩擦磨损性能的测定 | 第31页 |
·薄膜高温抗氧化性研究 | 第31-33页 |
第三章 AlRE合金靶制备及研究 | 第33-39页 |
·Al/RE靶的制备 | 第33-35页 |
·Al/RE合金靶成分设计 | 第33-34页 |
·Al/RE合金靶制备参数 | 第34页 |
·Al/Si合金靶制作工艺流程 | 第34-35页 |
·实验结果与讨论 | 第35-38页 |
·Al/RE合金靶成分与组织分析 | 第35-36页 |
·Al/RE合金靶工作状态分析 | 第36-38页 |
·本章小结 | 第38-39页 |
第四章 真空电弧沉积带过渡层的AlCrREN薄膜 | 第39-53页 |
·真空电弧沉积带过渡层的AlCrREN薄膜 | 第39-40页 |
·实验结果与讨论 | 第40-44页 |
·过渡层对AlCrN薄膜结构的影响 | 第40-41页 |
·带不同过渡层的AlCrN薄膜高温抗氧化曲线及分析 | 第41-44页 |
·稀土掺杂AlCrN薄膜的制备 | 第44-48页 |
·薄膜制备工艺参数 | 第44-45页 |
·真空电弧沉积AlCrREN薄膜的研究 | 第45-48页 |
·AlCrREN薄膜成分分析 | 第45-46页 |
·RE元素的加入对AlCrN薄膜表面形貌的影响 | 第46-47页 |
·RE元素的加入对AlCrN薄膜截面形貌的影响 | 第47-48页 |
·离子束辅助沉积工艺制备稀土掺杂AlCrN薄膜 | 第48-50页 |
·离子束辅助沉积工艺对薄膜表面形貌的影响 | 第48-49页 |
·离子束辅助沉积工艺对薄膜截面形貌的影响 | 第49-50页 |
·RE元素的加入对AlCrN薄膜组织结构的影响 | 第50-52页 |
·本章小结 | 第52-53页 |
第五章 稀土对AlCrN薄膜的性能影响 | 第53-70页 |
·不同稀土元素掺杂对薄膜性能的影响 | 第53-58页 |
·对薄膜显微硬度的影响 | 第53-54页 |
·对摩擦磨损性能的影响 | 第54-56页 |
·对高温抗氧化性能的影响 | 第56-58页 |
·离子束辅助沉积工艺对RE掺杂AlCrN薄膜性能的影响 | 第58-66页 |
·对硬度的影响 | 第58-60页 |
·对摩擦磨损性能的影响 | 第60-61页 |
·对高温抗氧化性能的影响 | 第61-66页 |
·氮气分压对掺杂La稀土薄膜的影响 | 第66-68页 |
·对薄膜硬度的影响 | 第66-67页 |
·对薄膜摩擦磨损性能的影响 | 第67-68页 |
·对薄膜高温抗氧化性能的影响 | 第68页 |
·本章小结 | 第68-70页 |
结论 | 第70-74页 |
参考文献 | 第74-78页 |
攻读学位期间发表的学术论文 | 第78-80页 |
致谢 | 第80页 |