三极管场发射阵列的设计与制作
| 摘要 | 第1-5页 |
| ABSTRACT | 第5-9页 |
| 第一章 绪论 | 第9-19页 |
| ·引言 | 第9页 |
| ·场发射技术的发展历史与现状 | 第9-11页 |
| ·场发射阴极阵列的分类 | 第11-13页 |
| ·场致发射特点及应用 | 第13-17页 |
| ·本课题研究的内容 | 第17-19页 |
| 第二章 场发射理论 | 第19-27页 |
| ·场致发射原理 | 第19-24页 |
| ·场发射理论的精确性 | 第24-25页 |
| ·微尖发射体参数与场发射的关系 | 第25-27页 |
| 第三章 尖锥型场发射三极管阵列的制备工艺比较 | 第27-34页 |
| ·SPINDT 型金属微尖阵列制备工艺 | 第27-29页 |
| ·硅微尖锥阵列制作工艺 | 第29-31页 |
| ·鸟嘴栅孔型金属微尖场发射阵列工艺 | 第31-33页 |
| ·本章小结 | 第33-34页 |
| 第四章 三极管场发射阴极阵列制作 | 第34-59页 |
| ·硅片的选择与清洗 | 第34-36页 |
| ·光刻过程与图形化 | 第36-38页 |
| ·氧化模型与参数控制 | 第38-43页 |
| ·空腔的刻蚀参数研究 | 第43-45页 |
| ·尖锥阵列的制作 | 第45-56页 |
| ·六硼化镧薄膜的蒸发 | 第56-59页 |
| 第五章 结构优化与软件模拟 | 第59-65页 |
| ·锥尖曲率半径对发射性能的影响 | 第59页 |
| ·栅极电压对发射性能的影响 | 第59-60页 |
| ·栅极孔径对发射性能的影响 | 第60-61页 |
| ·两种三极管结构的模拟结果比较 | 第61-64页 |
| ·本章小结 | 第64-65页 |
| 第六章 阴极阵列的测试 | 第65-69页 |
| ·测试装置的设计制作 | 第65-67页 |
| ·测试结果及分析 | 第67-69页 |
| 第七章 结论与展望 | 第69-71页 |
| ·本论文的总结 | 第69-70页 |
| ·工作展望 | 第70-71页 |
| 致谢 | 第71-72页 |
| 参考文献 | 第72-76页 |
| 个人简历 | 第76页 |
| 硕士研究生期间发表的论文 | 第76-77页 |
