摘要 | 第1-4页 |
ABSTRACT | 第4-7页 |
第一章 绪论 | 第7-19页 |
·电子清纱器的作用 | 第7-8页 |
·电子清纱器的发展 | 第8-9页 |
·电子清纱器的组成和工作过程 | 第9-11页 |
·电子清纱器的分类及检测原理 | 第11-17页 |
·光电式电子清纱器 | 第11-13页 |
·电容式电子清纱器 | 第13-17页 |
·电子清纱器检测头 | 第17页 |
·本文主要工作 | 第17-19页 |
第二章 纱疵分析 | 第19-26页 |
·纱疵产生的主要原因及其的分布 | 第19-20页 |
·细纱疵点的定义及类型 | 第20-21页 |
·纱疵的不同分级标准 | 第21-23页 |
·我国的分级标准 | 第23-24页 |
·清纱曲线 | 第24-25页 |
·本章小结 | 第25-26页 |
第三章 光路片 | 第26-39页 |
·纱线检测的实现 | 第26-29页 |
·国内外光路片介绍 | 第29-31页 |
·瑞士Peyer 公司PI 系列电子清纱器光路片 | 第29-30页 |
·瑞士Loepfe 公司YM 系列电子清纱器光路片 | 第30页 |
·国内的一种光路片 | 第30-31页 |
·新型光路片的设计 | 第31-33页 |
·结构设计 | 第31-33页 |
·材料选择 | 第33页 |
·软件模拟 | 第33-36页 |
·模拟软件TracePro 介绍 | 第34-35页 |
·模拟过程和结果 | 第35-36页 |
·性能测试 | 第36-38页 |
·本章小结 | 第38-39页 |
第四章 检测电路、执行机构和总体结构设计 | 第39-56页 |
·检测电路设计 | 第39-48页 |
·光源和光电探测器的选择依据 | 第39-40页 |
·光源和探测器对比分析 | 第40-45页 |
·放大器选择 | 第45-46页 |
·检测电路 | 第46-48页 |
·执行机构设计 | 第48-51页 |
·电磁铁的设计 | 第48-50页 |
·结构设计 | 第50-51页 |
·实验 | 第51页 |
·总体结构设计 | 第51-55页 |
·限位装置的设计 | 第52页 |
·检测头外壳 | 第52-53页 |
·检测头固定 | 第53-55页 |
·本章小结 | 第55-56页 |
第五章 检测头整体测试 | 第56-59页 |
第六章 总结和展望 | 第59-61页 |
·工作总结 | 第59页 |
·对于后续工作建议 | 第59-60页 |
·电子清纱器发展展望 | 第60-61页 |
参考文献 | 第61-63页 |
发表论文及参加科研情况 | 第63-64页 |
致谢 | 第64页 |