二氧化钛光催化材料离子掺杂行为及机理研究
第一章 综述 | 第1-25页 |
·半导体光催化的发展 | 第11-12页 |
·半导体光催化机理 | 第12-16页 |
·半导体复合理论 | 第13页 |
·光催化机理 | 第13-16页 |
·半导体催化剂的制备方法 | 第16-18页 |
·气相合成法 | 第16-17页 |
·液相合成法 | 第17-18页 |
·半导体光催化剂的改性 | 第18-21页 |
·贵金属沉积 | 第18-19页 |
·掺杂金属离子 | 第19-20页 |
·半导体复合 | 第20页 |
·半导体光敏化 | 第20-21页 |
·纳米TiO_2光催化剂的应用 | 第21-23页 |
·废水处理 | 第21-22页 |
·空气净化 | 第22-23页 |
·抗菌、自清洁 | 第23页 |
·研究目的及意义 | 第23-25页 |
第二章 实验方法 | 第25-28页 |
·试剂与仪器 | 第25页 |
·离子掺杂TiO_2光催化剂的制备 | 第25-26页 |
·掺杂离子浓度的换算 | 第26页 |
·指示剂的选择与光催化活性的测试 | 第26-27页 |
·催化剂的表征 | 第27-28页 |
第三章 离子掺杂对光催化活性的影响 | 第28-37页 |
·最优化实验设计 | 第28-29页 |
·紫外光降解能力试验 | 第29页 |
·离子掺杂实验结果 | 第29-36页 |
·Cr~(3+)离子掺杂试验 | 第29页 |
·Ni~(2+)离子掺杂试验 | 第29-30页 |
·W~(6+)离子掺杂试验 | 第30-31页 |
·La~(3+)离子掺杂试验 | 第31页 |
·Ag~+离子掺杂试验 | 第31-32页 |
·Mn~(2+)离子掺杂试验 | 第32页 |
·Cu~(2+)离子掺杂试验 | 第32-33页 |
·Al~(3+)离子掺杂试验 | 第33页 |
·Zn~(2+)离子掺杂试验 | 第33-34页 |
·Pb~(2+)离子掺杂试验 | 第34页 |
·V~(5+)离子掺杂试验 | 第34-35页 |
·Fe~(3+)离子掺杂试验 | 第35页 |
·Co~(2+)离子掺杂试验 | 第35-36页 |
·降解产物的分析 | 第36页 |
·小结 | 第36-37页 |
第四章 离子化学性质与掺杂活性的关系 | 第37-47页 |
·离子半径与价态对TiO_2光催化活性的影响 | 第37-39页 |
·离子稳定氧化态的电子亲和势与光催化活性的关系 | 第39-40页 |
·离子电荷与半径的比值与光催化活性的关系 | 第40-41页 |
·氧化物的生成焓与光催化活性的关系 | 第41-43页 |
·元素的电子亲和能与光催化活性的关系 | 第43页 |
·元素的第一电离能与光催化活性的关系 | 第43-44页 |
·离子的电子构型与光催化活性的关系 | 第44-45页 |
·离子掺杂浓度与光催化活性的关系 | 第45-46页 |
·小结 | 第46-47页 |
第五章 离子掺杂对TiO_2物相的影响 | 第47-60页 |
·XRD基础知识 | 第47-48页 |
·TiO_2粉末的XRD分析 | 第48-52页 |
·离子掺杂浓度对TiO_2的XRD图谱的影响分析 | 第52-58页 |
·小结 | 第58-60页 |
第六章 离子掺杂对TiO_2缺陷的影响 | 第60-67页 |
·正电子湮没概论 | 第60-61页 |
·正电子寿命的影响因素 | 第61-62页 |
·实验结果 | 第62-66页 |
·小结 | 第66-67页 |
第七章 离子掺杂对TiO_2本征吸收的影响 | 第67-77页 |
·本征吸收 | 第67-68页 |
·离子掺杂对TiO_2本征吸收的影响 | 第68-69页 |
·掺杂离子浓度对TiO_2本征吸收的影响 | 第69-76页 |
·小结 | 第76-77页 |
第八章 TiO_2半导体离子掺杂能级模型 | 第77-89页 |
·杂质能级 | 第77-79页 |
·施主杂质及施主能级 | 第77-78页 |
·受主杂质及受主能级 | 第78-79页 |
·半导体的光吸收 | 第79-82页 |
·激子吸收 | 第79-80页 |
·自由载流子吸收 | 第80页 |
·杂质吸收 | 第80-82页 |
·掺杂能级的复合作用 | 第82-84页 |
·离子掺杂能级的确定 | 第84-88页 |
·小结 | 第88-89页 |
第九章 结论 | 第89-91页 |
参考文献 | 第91-96页 |
致谢 | 第96-97页 |
在读期间发表和录用的学术论文 | 第97页 |