| 摘要 | 第1-5页 |
| Abstract | 第5-10页 |
| 1 引言 | 第10-11页 |
| 2 历史资料 | 第11-17页 |
| ·La-Ni二元及化合物 | 第11-13页 |
| ·La-Si二元系 | 第13-15页 |
| ·Ni-Si二元系 | 第15-16页 |
| ·La-Ni-Si三元系 | 第16-17页 |
| 3 实验原理和方法 | 第17-34页 |
| ·试样的制备 | 第17-19页 |
| ·配料和熔炼 | 第18页 |
| ·合金试样的均匀化热处理 | 第18-19页 |
| ·粉末试样的制备 | 第19页 |
| ·金相试样的制备 | 第19页 |
| ·X射线衍射法 | 第19-22页 |
| ·X射线衍射仪的基本原理与构造 | 第20-21页 |
| ·实验条件的选择 | 第21-22页 |
| ·差热分析法(DTA) | 第22-23页 |
| ·金相分析法 | 第23-24页 |
| ·电镜法 | 第24-25页 |
| ·扫描电子显微镜(SEM) | 第24-25页 |
| ·能谱分析(EDAX) | 第25页 |
| ·相界的测定 | 第25-27页 |
| ·相消失法 | 第25-26页 |
| ·点阵常数法 | 第26-27页 |
| ·X射线粉末衍射谱的指标化 | 第27-31页 |
| ·比值法 | 第27-28页 |
| ·分析法 | 第28-29页 |
| ·图解法 | 第29-30页 |
| ·计算机尝试法 | 第30页 |
| ·指标化结果正确性的判据 | 第30-31页 |
| ·晶体点阵常数的精确定 | 第31-34页 |
| ·内标法 | 第32页 |
| ·图形外推法 | 第32-33页 |
| ·最小二乘法 | 第33-34页 |
| 4 实验结果和讨论 | 第34-61页 |
| ·La-Ni-Si三元系400℃等截面相图 | 第34-36页 |
| ·二元化合物的讨论 | 第36-39页 |
| ·关于La_3Ni | 第36-37页 |
| ·关于La_7Ni_(16)和LaNi_2 | 第37-38页 |
| ·关于Ni_(74)Si_(26)和Ni_(85)Si_(15) | 第38-39页 |
| ·三元化合物的讨论 | 第39-55页 |
| ·关于LaNi_(11.6-9.5)Si_(1.4-3.5) | 第39-40页 |
| ·关于LaNi_(8.8-8.4)Si_(4.2-4.6) | 第40-41页 |
| ·关于La_2Ni_9Si | 第41-42页 |
| ·关于LaNi_9Si_2，LaNi_2Si_2，LaNiSi_2 La_2NiSi | 第42-47页 |
| ·关于La_2NiSi_3，LaNiSi，LaNiSi | 第47-49页 |
| ·关于La_(15)Ni_4Si_(13)，La_6Ni_2Si_3，La_7Ni_2Si_5 | 第49-50页 |
| ·关于LaNi_(7.8-6.5)Si_(5.2-6.5) | 第50-55页 |
| ·关于La_(14)Ni_6Si_(11) | 第55页 |
| ·单相固溶区的测定 | 第55-56页 |
| ·合金试样制备过程的几个细节讨论 | 第56-57页 |
| ·熔炼炉中的充氩 | 第56页 |
| ·磁场的作用以及电子极的影 | 第56-57页 |
| ·关于三相区的确定 | 第57-60页 |
| ·关于高频炉的使用 | 第60-61页 |
| 参考文献 | 第61-63页 |
| 致谢 | 第63-64页 |
| 附表1 实验合金的成分配比及其相组成 | 第64-68页 |
| 附图 X射线衍射谱线 | 第68-93页 |
