| 摘要 | 第1-9页 |
| ABSTRACT | 第9-12页 |
| 第一章 绪论 | 第12-31页 |
| ·铁电材料的基本概念与研究进展 | 第12-15页 |
| ·铁电薄膜及其应用 | 第15-24页 |
| ·铁电薄膜材料的发展概况 | 第15-16页 |
| ·铁电薄膜的应用 | 第16-24页 |
| ·铁电／高温超导集成薄膜及其应用 | 第24-26页 |
| ·高温超导材料的基本特征 | 第25-26页 |
| ·铁电／高温超导集成薄膜 | 第26页 |
| ·本论文的选题依据及主要研究内容 | 第26-28页 |
| 参考文献 | 第28-31页 |
| 第二章 (Ba，Sr)TiO_3铁电材料的研究概况 | 第31-50页 |
| ·基本结构 | 第31-33页 |
| ·薄膜的制备方法 | 第33-36页 |
| ·薄膜的性能表征方法 | 第36-40页 |
| ·BST薄膜研究前沿 | 第40-47页 |
| ·薄膜的导电机理 | 第41-43页 |
| ·薄膜的介电损耗 | 第43-44页 |
| ·低介电常数层 | 第44-45页 |
| ·其他优化薄膜性能的方法 | 第45-47页 |
| 参考文献 | 第47-50页 |
| 第三章 脉冲激光沉积方法原理、装置及RHEED调试 | 第50-64页 |
| ·引言 | 第50-51页 |
| ·脉冲激光沉积的基本原理 | 第51-53页 |
| ·实验设备简介 | 第53-56页 |
| ·RHEED调试的实验结果 | 第56-63页 |
| ·SrTiO_3基片的衍射图像随温度变化的关系 | 第56-57页 |
| ·SrTiO_3:Nb同质外延薄膜的衍射图像 | 第57-58页 |
| ·YBa_2Cu_3O_(7-δ)异质外延薄膜的衍射图像 | 第58-61页 |
| ·(Ba，Sr)TiO_3薄膜、(Ba，Sr)TiO_3／SrTiO_3:Nb双层膜的衍射图像 | 第61-63页 |
| 参考文献 | 第63-64页 |
| 第四章 Ba_(0.5)Sr_(0.5)TiO_3薄膜、Ba_(0.1)Sr_(0.9_TiO_3／YBa_2Cu_3O_(7-δ)异质薄膜的制备及性能分析 | 第64-81页 |
| ·引言 | 第64页 |
| ·衬底材料的选取 | 第64-67页 |
| ·Ba_(0.5)Sr_(0.5)TiO_3薄膜的制备及性能研究 | 第67-73页 |
| ·Ba_(0.5)Sr_(0.5)TiO_3单层薄膜的PLD制备 | 第67-68页 |
| ·Ba_(0.5)Sr_(0.5)TiO_3薄膜的物化结构性能测试 | 第68-69页 |
| ·Ba_(0.5)Sr_(0.5)TiO_3薄膜的介电性能测试 | 第69-73页 |
| ·Ba_(0.1)Sr_(0.9)TiO_3／YBa_2Cu_3O_(7-δ)异质薄膜的制备及性能分析 | 第73-80页 |
| ·Ba_(0.1)Sr_(0.9)TiO_3／YBa_2Cu_3O_(7-δ)异质薄膜的PLD制备 | 第74-75页 |
| ·Ba_(0.1)Sr_(0.9)TiO_3／YBa_2Cu_3O_(7-δ)异质薄膜的物化结构性能测试 | 第75-77页 |
| ·Ba_(0.1)Sr_(0.9)TiO_3／YBa_2Cu_3O_(7-δ)异质薄膜的介电性能测试 | 第77-80页 |
| 参考文献 | 第80-81页 |
| 第五章 Si基衬底上BST薄膜的生长及薄膜性能分析 | 第81-95页 |
| ·引言 | 第81-82页 |
| ·高度(100)取向的Ba_(0.5)Sr_(0.5)TiO_3／SiO_2／Si集成薄膜的制备 | 第82-83页 |
| ·Ba_(0.5)Sr_(0.5)TiO_3／Pt／Ti／SiO_2／Si多层异质结构的制备及其性能分析 | 第83-90页 |
| ·Ba_(0.7)Sr_(0.3)TiO_3／Pt／Ti／SiO_2／Si多层异质结构的制备、结构特征分析及其热释电性能测试 | 第90-94页 |
| 参考文献 | 第94-95页 |
| 第六章 主要结论和进一步工作的建议 | 第95-98页 |
| ·主要结论 | 第95-97页 |
| ·进一步工作的建议 | 第97-98页 |
| 附录 | 第98-100页 |
| 致谢 | 第100-101页 |
