| 摘要 | 第1-5页 |
| ABSTRACT | 第5-10页 |
| 图表目录 | 第10-12页 |
| 第一章 前言 | 第12-14页 |
| 第二章 资料综述 | 第14-34页 |
| ·隐身技术的定义 | 第14页 |
| ·雷达波隐身原理 | 第14-15页 |
| ·雷达吸波材料的分类 | 第15-19页 |
| ·吸收型吸波材料 | 第15-17页 |
| ·干涉型吸波材料 | 第17-18页 |
| ·谐振型吸波材料 | 第18页 |
| ·放射性同位素隐身材料 | 第18-19页 |
| ·吸波材料研究进展 | 第19-22页 |
| ·涂覆型吸波材料 | 第19-20页 |
| ·结构吸波材料(SRAM) | 第20-21页 |
| ·几种新型吸波材料 | 第21-22页 |
| ·耐高温吸波材料 | 第22页 |
| ·吸波涂层的发展及应用 | 第22-26页 |
| ·吸收剂的研究现状 | 第22-24页 |
| ·胶粘剂的研究现状 | 第24-26页 |
| ·有机胶粘剂 | 第25页 |
| ·无机胶粘剂 | 第25-26页 |
| ·熔封玻璃 | 第26-34页 |
| ·熔封玻璃的性质 | 第26-28页 |
| ·金属用熔封玻璃 | 第28-29页 |
| ·焊料玻璃 | 第29-34页 |
| ·含氧化铅的焊料玻璃 | 第30-31页 |
| ·磷酸盐焊料玻璃的研究现状 | 第31-34页 |
| 第三章 实验技术路线和研究方法 | 第34-42页 |
| ·主要实验研究过程 | 第34页 |
| ·制备试样所用设备 | 第34-37页 |
| ·双反应室激光气相合成纳米粉体装置 | 第34-35页 |
| ·箱式电阻炉 | 第35页 |
| ·坩埚电阻炉 | 第35页 |
| ·石墨电阻热压炉 | 第35-36页 |
| ·超声波分散仪 | 第36页 |
| ·磁力加热搅拌器 | 第36-37页 |
| ·制备纳米粉体所用原料 | 第37页 |
| ·基体玻璃的制备 | 第37-39页 |
| ·原料的选择 | 第37-38页 |
| ·系统的设计 | 第38-39页 |
| ·玻璃的熔制 | 第39页 |
| ·玻璃的性能测试 | 第39-42页 |
| ·玻璃的基本物理化学性能 | 第39-41页 |
| ·玻璃的密度 | 第39-40页 |
| ·玻璃的特征温度 | 第40页 |
| ·玻璃的热膨胀系数 | 第40页 |
| ·玻璃的抗潮解性 | 第40页 |
| ·玻璃的物相分析 | 第40-41页 |
| ·玻璃的放大实体照相 | 第41页 |
| ·吸波涂层样品的性能测试 | 第41-42页 |
| ·烧结样品的致密度测试 | 第41页 |
| ·电磁参数和吸波性能测试 | 第41-42页 |
| 第四章 MoO_3-V_2O_5-P_2O_5-Fe_2O_3系统玻璃的研究 | 第42-63页 |
| ·MoO_3-V_2O_5-P_2O_5-Fe_2O_3系统玻璃的制备 | 第42-45页 |
| ·原料的选取 | 第42页 |
| ·玻璃的熔制 | 第42页 |
| ·玻璃的成分设计 | 第42-45页 |
| ·MoO_3-V_2O_5-P_2O_5-Fe_2O_3系统玻璃的性能分析 | 第45-61页 |
| ·玻璃的形成区域 | 第45-48页 |
| ·玻璃的特征温度及玻璃形成能力 | 第48-53页 |
| ·密度 | 第53-56页 |
| ·热膨胀系数 | 第56-58页 |
| ·抗潮解性能 | 第58-61页 |
| ·本章小结 | 第61-63页 |
| 第五章 高温吸波涂层材料的制备及其介电性能的研究 | 第63-73页 |
| ·吸波涂层基体玻璃的制备 | 第63-65页 |
| ·基体玻璃的选择 | 第63-64页 |
| ·基体玻璃的制备及性能 | 第64-65页 |
| ·基体玻璃的析晶 | 第65页 |
| ·吸波涂层的制备 | 第65-70页 |
| ·吸收剂的抗氧化性分析 | 第65-66页 |
| ·吸波涂层的热压烧结 | 第66-69页 |
| ·A/G吸收层的相组成 | 第69-70页 |
| ·吸波涂层的介电特性 | 第70-72页 |
| ·吸波涂层的介电常数 | 第70-71页 |
| ·吸波涂层的反射率 | 第71-72页 |
| ·本章小结 | 第72-73页 |
| 第六章 结论 | 第73-74页 |
| 参考文献 | 第74-79页 |
| 致谢 | 第79页 |
