| 序言 | 第1-8页 |
| 第一章 分子束质谱技术简介 | 第8-14页 |
| 1．1 分子束质谱技术 | 第8-10页 |
| 1．1．1 分子束质谱概念 | 第8页 |
| 1．1．2 分子束质谱仪器装置 | 第8-9页 |
| 1．1．3 分子束质谱法与光谱法之比较 | 第9-10页 |
| 1．2 分子束质谱的发展 | 第10-14页 |
| 参考文献 | 第12-14页 |
| 第二章 电晕放电等离子体简介 | 第14-23页 |
| 2．1 电晕放电等离子体概述 | 第14-15页 |
| 2．2 电晕放电类型 | 第15-16页 |
| 2．3 电晕放电的应用 | 第16-23页 |
| 2．3．1 作为离子源的电晕放电 | 第16-17页 |
| 2．3．2 臭氧生产 | 第17-18页 |
| 2．3．3 高压脉冲电晕放电与烟气处理 | 第18-22页 |
| 参考文献 | 第22-23页 |
| 第三章 实验部分 | 第23-30页 |
| 3．1 实验装置 | 第23-28页 |
| 3．1．1 高压短脉冲电源 | 第23页 |
| 3．1．2 反应器设计 | 第23-26页 |
| 3．1．3 分子束质谱装置 | 第26-27页 |
| 3．1．4 信号记录部分 | 第27-28页 |
| 3．2 电磁干扰的消除 | 第28-29页 |
| 3．3 实验过程简述 | 第29-30页 |
| 第四章 纯N_2高压脉冲电晕放电体系诊断研究 | 第30-36页 |
| 4．1 研究体系与实验过程简述 | 第30页 |
| 4．2 实验结果与分析 | 第30-34页 |
| 4．2．1 脉冲峰值电压及重复频率对N~+与N_2~+离子流强的影响 | 第30-33页 |
| 4．2．2 放电室N_2压力对N~+与N_2~+离子流强的影响 | 第33-34页 |
| 4．3 结论 | 第34-36页 |
| 参考文献 | 第35-36页 |
| 第五章 N_2+O_2高压脉冲电晕放电体系诊断研究 | 第36-45页 |
| 5．1 研究体系与实验过程简述 | 第36-37页 |
| 5．2 实验结果与讨论 | 第37-42页 |
| 5．2．1 脉冲放电峰值电压对离子流强的影响 | 第39-40页 |
| 5．2．2 放电重复频率对离子流强的影响 | 第40-41页 |
| 5．2．3 放电气压对离子流强的影响 | 第41-42页 |
| 5．3 结论 | 第42-45页 |
| 参考文献 | 第44-45页 |
| 第六章 模拟计算 | 第45-53页 |
| 6．1 模型描述 | 第45-47页 |
| 6．1．1 时空单元内的反应速率常数 | 第45-47页 |
| 6．1．2 相邻空间单元的粒子扩散 | 第47页 |
| 6．1．3 带电粒子的迁移 | 第47页 |
| 6．2 模拟结果与讨论 | 第47-51页 |
| 6．2．1 电子的空间分布 | 第48页 |
| 6．2．2 N~+和N_2~+的空间分布 | 第48-49页 |
| 6．2．3 N~+和N_2~+的空间分布随时间的变化 | 第49页 |
| 6．2．4 N_2气压对N_2~+浓度的影响 | 第49-51页 |
| 6．3 结论 | 第51-53页 |
| 参考文献 | 第52-53页 |
| 致 谢 | 第53-54页 |
| 作者简历与发表论文情况 | 第54页 |
