瞬态分子速度调制及塞曼—磁旋光调制激光光谱
| 致谢 | 第1-4页 |
| 摘要 | 第4-5页 |
| Abstract | 第5-9页 |
| 第一章 引言 | 第9-24页 |
| 第一节 历史背景 | 第9-14页 |
| 第二节 光谱技术 | 第14-17页 |
| ·微波光谱 | 第14-15页 |
| ·可调谐远红外激光光谱 | 第15-16页 |
| ·磁场调制光谱 | 第16-17页 |
| 第三节 瞬态分子生成技术 | 第17-21页 |
| ·激光离解 | 第17-18页 |
| ·放电 | 第18-21页 |
| 参考文献 | 第21-24页 |
| 第二章 速度调制与浓度调制激光光谱技术 | 第24-49页 |
| 第一节 速度调制激光光谱技术 | 第24-25页 |
| ·速度调制激光光谱技术的历史背景 | 第24-25页 |
| ·速度调制光谱技术的特点 | 第25页 |
| 第二节 吸收光谱与探测 | 第25-31页 |
| ·吸收光谱 | 第25-27页 |
| ·光信号的探测 | 第27-31页 |
| 第三节 速度调制光谱技术的理论基础 | 第31-39页 |
| ·辉光放电 | 第31页 |
| ·电场中等离子体内带电离子的运动 | 第31-34页 |
| ·等离子体内粒子的反应过程 | 第34-37页 |
| ·速度调制光谱和浓度调制光谱 | 第37-39页 |
| 第四节 实验装置 | 第39-48页 |
| 参考文献 | 第48-49页 |
| 第三章 速度调制光谱技术及其特性 | 第49-69页 |
| 第一节 简介 | 第49页 |
| 第二节 差分速度调制和浓度调制激光光谱技术 | 第49-54页 |
| ·差分速度调制激光光谱技术 | 第49-50页 |
| ·差分浓度调制激光光谱技术 | 第50-54页 |
| 第三节 速度调制光谱谱线的理论仿真研究 | 第54-58页 |
| 第四节 信号强度与各因素的关系 | 第58-68页 |
| ·信号强度与放电电流的关系 | 第58页 |
| ·信号强度与泵速的关系 | 第58-61页 |
| ·信号强度与气压的关系 | 第61页 |
| ·信号强度与调制度的关系 | 第61-65页 |
| ·调制度与辉光放电电流的关系 | 第65页 |
| ·调制度与辉光放电频率的关系 | 第65页 |
| ·估计离子的寿命 | 第65-68页 |
| 参考文献 | 第68-69页 |
| 第四章 CS~+高分辨电子吸收光谱 | 第69-85页 |
| 第一节 引言 | 第69页 |
| 第二节 实验简介 | 第69-70页 |
| ·CS~+谱的获得 | 第69-70页 |
| ·波长测量与校准 | 第70页 |
| 第三节 实验结果及理论分析 | 第70-84页 |
| ·观测到的谱线及其标识 | 第70-72页 |
| ·分子参数的获得 | 第72页 |
| ·总结 | 第72-84页 |
| 参考文献 | 第84-85页 |
| 第五章 塞曼—磁旋光调制激光光谱技术 | 第85-92页 |
| 第一节 引言 | 第85-86页 |
| ·塞曼--磁旋光调制激光光谱技术的发展 | 第85-86页 |
| ·塞曼--磁旋光激光光谱的特性 | 第86页 |
| 第二节 实验装置 | 第86-91页 |
| ·实验装置图 | 第86-87页 |
| ·螺线管的设计 | 第87-91页 |
| 参考文献 | 第91-92页 |
| 第六章 塞曼--磁旋光调制激光光谱的线型分析 | 第92-106页 |
| 第一节 引言 | 第92页 |
| 第二节 理论基础 | 第92-96页 |
| ·气态自由基分子的吸收和色散 | 第92-93页 |
| ·偏振光 | 第93页 |
| ·塞曼效应 | 第93-94页 |
| ·磁致旋光效应与圆二向色性 | 第94-96页 |
| ·Voigt效应 | 第96页 |
| 第三节 塞曼--磁旋光调制光谱线型的理论分析 | 第96-101页 |
| ·塞曼--磁旋光调制光谱理论 | 第96-101页 |
| ·实验结果分析 | 第101页 |
| 第四节 总结与讨论 | 第101-105页 |
| 参考文献 | 第105-106页 |
| 第七章 研究总结与研究展望 | 第106-108页 |
| 第一节 研究总结 | 第106页 |
| 第二节 研究展望 | 第106-108页 |
| 博士期间完成的论文 | 第108-109页 |
