| 摘要 | 第1-7页 |
| Abstract | 第7-11页 |
| 第1章 绪论 | 第11-18页 |
| ·引言 | 第11-12页 |
| ·直流反应磁控溅射及其特点 | 第12-13页 |
| ·硬质薄膜发展概况 | 第13-16页 |
| ·剃须刀片镀膜的发展 | 第16-17页 |
| ·本课题的任务和目的 | 第17-18页 |
| 第2章 TiN复合镀层及纳米硬质薄膜的研究进展 | 第18-28页 |
| ·TiN复合镀层的研究进展 | 第18-22页 |
| ·Ti(C_xN_(1-x))复合镀层 | 第18页 |
| ·Ti-Si-N复合镀层、Ti-B-N复合镀层和Ti-C_3N_4复合镀层 | 第18-21页 |
| ·(Ti,AI)N复合镀层、(Ti,Cr)N复合镀层和(Ti,Nb)N复合镀层 | 第21-22页 |
| ·纳米硬质薄膜的研究进展 | 第22-28页 |
| ·纳米多层膜 | 第22-23页 |
| ·纳米复合薄膜 | 第23-25页 |
| ·纳米复合薄膜的性能特点 | 第25-28页 |
| 第3章 理论计算与靶的设计 | 第28-37页 |
| ·基本概念与模型 | 第28-34页 |
| ·基片可绕中心轴旋转的情形 | 第29-30页 |
| ·溅射源为环形跑道的情形 | 第30-32页 |
| ·环形跑道与旋转基片成α角情形 | 第32-34页 |
| ·计算结果与讨论 | 第34-37页 |
| 第4章 实验设备与方法 | 第37-41页 |
| ·实验设备 | 第37-39页 |
| ·基片前处理 | 第39页 |
| ·薄膜的结构与性能表征方法 | 第39-40页 |
| ·实验工艺和参数 | 第40-41页 |
| 第5章 工艺参数对薄膜性能的影响 | 第41-60页 |
| ·反应温度对(Ti,Nb)N薄膜表面形貌的影响 | 第41-43页 |
| ·反应温度对薄膜相结构的影响 | 第43-47页 |
| ·工作气压对生成的(Ti,Nb)N薄膜结构的影响 | 第47-52页 |
| ·靶电流对薄膜组成的影响 | 第52-54页 |
| ·工艺条件对薄膜硬度的影响 | 第54-55页 |
| ·切割力检测结果分析 | 第55-60页 |
| 第6章 结论与展望 | 第60-62页 |
| ·全文总结 | 第60-61页 |
| ·工作展望 | 第61-62页 |
| 参考文献 | 第62-68页 |
| 致谢 | 第68页 |